[發(fā)明專利]蝕刻組合物和使用該蝕刻組合物的布線的形成方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810637712.2 | 申請日： | 2018-06-20 |
| 公開（公告）號： | CN109112543B | 公開（公告）日： | 2022-06-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 樸種熙;金真錫;李鳳源;金相佑;樸一龍;元鳳淵;李大雨 | 申請（專利權(quán)）人： | 三星顯示有限公司;株式會社東進世美肯 |
| 主分類號： | C23F1/30 | 分類號： | C23F1/30;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人： | 王慧敏;程月 |
| 地址： | 韓國京畿*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 蝕刻 組合 使用 布線 形成 方法 | ||
1.一種無磷酸蝕刻組合物，所述無磷酸蝕刻組合物包括：
40wt％至60wt％的有機酸化合物；
6wt％至12wt％的二醇化合物；
1wt％至10wt％的硝酸、硫酸或鹽酸；
1wt％至10wt％的硝酸鹽化合物；以及
水，所有的wt％是基于所述無磷酸蝕刻組合物的總重量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無磷酸蝕刻組合物，所述無磷酸蝕刻組合物還包括1wt％至5wt％的螯合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無磷酸蝕刻組合物，其中，所述有機酸化合物包括至少三種不同的有機酸。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無磷酸蝕刻組合物，其中，所述有機酸化合物包括乙酸、蘋果酸、檸檬酸、酒石酸、乳酸、甲基磺酸、甲酸、琥珀酸或富馬酸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無磷酸蝕刻組合物，其中，所述二醇化合物包括由化學式1表示的化合物，
[化學式1]
其中，在化學式1中，
Y1和Y2中的每個為H或-OH，Y1和Y2中的至少一個為-OH，
X為C1-C20基團，所述C1-C20基團以這樣的方式包括-CR2-、-C≡C-、-CF2O-、-CR＝CR-、-CO-、-O-、-CO-O-、-O-CO-或-O-CO-O-：氧原子彼此不直接連接，R為-H、鹵素或-OH，并且
m為1至20的自然數(shù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無磷酸蝕刻組合物，其中，所述硝酸鹽化合物包括硝酸鋁、硝酸銨、硝酸鈣、硝酸銅、硝酸銦、硝酸鐵、硝酸鋰、硝酸鉀、硝酸銀或硝酸鈉。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的無磷酸蝕刻組合物，其中，所述螯合物包括檸檬酸、二乙醇胺、二乙烯三胺五乙酸、乙二胺四乙酸、乙二胺、亞氨基二乙酸、乙醇胺或丙二酸。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無磷酸蝕刻組合物，其中，所述無磷酸蝕刻組合物被配制為蝕刻包括由銀或銀合金制成的單層的薄膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的無磷酸蝕刻組合物，其中：
所述薄膜還包括銦氧化物層，并且
所述銦氧化物層包括氧化銦錫、氧化銦鋅、氧化銦錫鋅或氧化銦鎵鋅。
10.一種形成布線的方法，所述方法包括：
在基底上形成薄膜；以及
使用蝕刻組合物以預定的布線形狀來蝕刻所述薄膜，
其中，所述蝕刻組合物是無磷酸蝕刻組合物，所述無磷酸蝕刻組合物包括：40wt％至60wt％的有機酸化合物；6wt％至12wt％的二醇化合物；1wt％至10wt％的硝酸、硫酸或鹽酸；1wt％至10wt％的硝酸鹽化合物；以及水，所有的wt％是基于所述無磷酸蝕刻組合物的總重量。
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