[發(fā)明專利]中上高溫半啞光釉、采用該啞光釉的越窯秘色瓷及其燒制方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201810632921.8
• 申請日: 2018-06-19
• 公開（公告）號(hào): CN108545940A
• 公開（公告）日: 2018-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉法星;葉智根;葉先壽;劉瀟琴;李嵐秀
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江上木木陶瓷文化有限公司
• 主分類號(hào): C03C8/00
• 分類號(hào): C03C8/00;C04B41/86;C04B41/89
• 代理公司: 杭州橙知果專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33261
• 代理人: 程志軍

1.一種中上高溫半啞光釉，其特征在于該中上高溫半啞光釉主要是由如下質(zhì)量百分比計(jì)的組分制成：嶺根釉土43-45％、石灰石8-10％、石英石6-7％、西源釉土20-25％、長石7-8％、紫金土4-5％、草木灰3-4％、谷糠灰2-3％。

2.如權(quán)利要求1所述的中上高溫半啞光釉，其特征在于該中上高溫半啞光釉是由如下質(zhì)量百分比計(jì)的組合成分制成：嶺根43％、石灰石10％、石英石7％、西源釉土20％、長石8％、紫金土5％、草木灰4％、谷糠灰3％。

3.如權(quán)利要求1所述的中上高溫半啞光釉，其特征在于：所述紫金土的含鐵量不低于6％。

4.如權(quán)利要求1所述的中上高溫半啞光釉，其特征在于：所述嶺根釉土和紫金土均預(yù)先經(jīng)1000℃煅燒，所述西源釉土預(yù)先經(jīng)1000-1100℃煅燒。

5.一種越窯秘色瓷，由陶瓷素?zé)ンw和附著在陶瓷素?zé)ンw上的釉層組成，其特征在于所述釉層為如權(quán)利要求1-5任一所述的中上高溫半啞光釉。

6.一種權(quán)利要求5所述的越窯秘色瓷的燒制方法，其特征在于該燒制方法包括以下步驟：

A、燒制素?zé)ィ簩⑴髁霞铀旌暇鶆颍瞥膳髂啵叱尚纬砂氤善罚瑢⑺龀尚伟氤善犯稍锖螅敫G燒制，在760-830℃的溫度下素?zé)?-7小時(shí)后成為素?zé)グ氤善贰?/p>

B、配制秘色釉：將權(quán)利要求1所述是中上高溫半啞光釉釉料按照配比進(jìn)行混合，粉碎后，加水球磨，過篩后即得秘色半啞光釉。

C、施內(nèi)釉：將所述秘色釉濃度調(diào)至比重為40-46波美度，然后施于所述素?zé)魈ンw內(nèi)，胎體內(nèi)靜置均勻后快速倒出多余的釉料、使瓶體內(nèi)釉層厚度控制在0.3-0.6毫米：

D、浸釉：將所述越窯半啞光釉及半啞光越窯秘色瓷釉釉料的濃度調(diào)40-46濃度后，將施好內(nèi)釉的素?zé)靥ソ胗粤贤爸泻螅焖偃〕龇磐L(fēng)處或陽光下晾干，使浸釉后外釉的厚度控制在0.3-0.6毫米；

E、噴釉：使用壓力氣泵對浸釉色后的外層釉進(jìn)行補(bǔ)噴上釉，使噴釉后外層釉的厚度1-1.6毫米，及時(shí)晾干；

F、刮釉：將噴釉后的瓶體放在機(jī)臺(tái)上或手工用海綿輕試，將瓶體足線的釉層擦拭干凈，及時(shí)晾干獲得上釉完成等燒制成品；

G、燒制：待胚體上的釉層自然干透后，入梭式窯在1100-1280℃的還原氣氛中燒制，燒成后自然冷卻降溫后，獲得越窯秘色瓷。

7.如權(quán)利要求6所述的越窯秘色瓷的燒制方法，其特征在于瓷坯料以質(zhì)量分?jǐn)?shù)計(jì)的原料配方為：寶溪瓷土30-39％，高嶺土25-29％，黃石玄釉土20-26％、嶺根釉土20-25％。

8.如權(quán)利要求6所述的越窯秘色瓷的燒制方法，其特征在于：所述G燒制步驟包括如下階段：

①燒制預(yù)熱：在100-550℃的溫度下燒制100-180分鐘，燒制過程中窯門需留10-20厘米寬的縫隙；

②氧化分解階段：在550-960℃下燒制保溫120-180分鐘，當(dāng)溫度達(dá)到450-550℃時(shí)關(guān)閉窯門繼續(xù)升溫；

③氧化保溫階段：在900℃下保溫60-120分鐘；

④輕還原階段：在900-1000℃下燒制60-90分鐘，燒制過程中控制窯內(nèi)CO溫度上升為1.2-2.3％；室內(nèi)CO溫度平均每分鐘上升1.2-2.3％

⑤高火保溫階段：在1220℃下保溫10-20分鐘關(guān)火。

⑥自然冷卻階段：高火保溫階段完成后自然冷卻。