[發明專利]一種含鉻廢水的全自動處理設備和工藝

在審

• 申請號: 201810628643.9
• 申請日: 2018-06-19
• 公開（公告）號: CN108726805A
• 公開（公告）日: 2018-11-02
• 發明（設計）人: 劉金哲;田京雷;龔志強;李強;劉需;畢杰勛;馮小雷
• 申請（專利權）人: 河鋼股份有限公司
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14;C02F101/22
• 代理公司: 石家莊冀科專利商標事務所有限公司 13108
• 代理人: 李桂琴

一種含鉻廢水的全自動處理設備和工藝，屬于工業廢水處理設備和工藝技術領域，用于處理含Cr（Ⅵ）廢水。其技術方案是：水量調節罐和還原罐、泥水分離罐通過管道順序連接，在管道中分別安裝有還原罐進水泵和泥水分離罐進水泵，還原罐內設置攪拌裝置以及第一液位傳感器、pH傳感器、ORP傳感器，泥水分離罐內設置第二液位傳感器、膜組件、曝氣機構、斜管填料、污泥斗，膜組件分別通過膜組件排水泵和反沖洗泵與出水暫存罐相連接，酸儲罐、還原劑儲罐、堿儲罐分別通過管道與還原罐相連接，在管道中分別安裝有加酸泵、還原劑泵、加堿泵。本發明可以有效地降低廢水處理設備的占地面積，提高自動化運行程度，降低人和力成本。

技術領域

本發明涉及一種處理含Cr（Ⅵ）廢水的設備和處理工藝，屬于工業廢水處理設備和工藝技術領域。

背景技術

電鍍鈍化工序需使用重鉻酸鈉溶液，為減少鍍錫板黑灰缺陷及鍍錫板上殘留Cr（Ⅵ）的含量，鈍化后需大量的清水進行沖洗，使得沖洗水中含有大量的Cr（Ⅵ），Cr（Ⅵ）是一種高毒性的物質，其毒性為Cr（Ⅲ）的100倍，是電鍍行業主要污染物之一。

還原沉淀法處理含鉻廢水是一種利用適當的還原劑將Cr（Ⅵ）還原為Cr（Ⅲ），然后在堿性條件下使Cr（Ⅲ）發生沉淀而去除的工藝，80%以上含鉻廢水處理均采用此方法，但一般該方法都需要進行調酸、還原、調堿、絮凝混凝、沉淀等多個單元工序，存在流程長，構筑物多，占地面積大，人工投藥控制不準確，藥劑消耗量大等問題。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種含鉻廢水的全自動處理設備和工藝，這種處理設備和工藝可以有效地降低廢水處理設備的占地面積，提高自動化運行程度，降低人和力成本。

解決上述技術問題的技術方案是：

一種含鉻廢水的全自動處理設備，它包括水量調節罐、還原罐、泥水分離罐、出水暫存罐、酸儲罐、還原劑儲罐、堿儲罐，水量調節罐和還原罐、泥水分離罐通過管道順序連接，在管道中分別安裝有還原罐進水泵和泥水分離罐進水泵，還原罐內設置攪拌裝置以及第一液位傳感器、pH傳感器、ORP傳感器，泥水分離罐內設置第二液位傳感器、膜組件、曝氣機構、斜管填料、污泥斗，曝氣機構位于膜組件的下方，污泥斗位于泥水分離罐的底部，膜組件通過出水管道和膜組件排水泵與出水暫存罐相連接，出水暫存罐還通過反沖洗管路和反沖洗泵與膜組件相連接，酸儲罐、還原劑儲罐、堿儲罐分別通過管道與還原罐相連接，在管道中分別安裝有加酸泵、還原劑泵、加堿泵。

上述含鉻廢水的全自動處理設備，所述還原罐和泥水分離罐的上部分別設置高位溢流孔，高位溢流孔通過管道與水量調節罐相連接。

上述含鉻廢水的全自動處理設備，所述泥水分離罐的曝氣機構包括曝氣管路、曝氣頭，曝氣管路位于膜組件的下方，曝氣頭安裝在曝氣管路上，曝氣頭與膜組件的下部相對，曝氣管路與壓縮空氣管路相連接。

一種使用上述設備的含鉻廢水的全自動處理工藝，它采用以下步驟進行：

a.水量調節：連續或間歇產生的含鉻廢水首先進入水量調節罐進行水量調節，以保證后續反應的連續和穩定；

b.還原罐進水階段：使廢水由水量調節罐進入還原罐，還原罐內設置攪拌裝置不斷攪拌；

c.還原罐調酸階段：在還原罐內投加調酸劑，使廢水pH值穩定；

d.還原階段：調酸階段結束后，在還原罐內投加還原劑，控制反應ORP值；

e.調堿階段：還原階段完成后，在還原罐內投加調堿劑，使廢水pH值穩定；

f.泥水分離：調堿完成后，廢水進入泥水分離罐，通過膜組件過濾分離后的清水通過出水暫存罐外排，并將污泥截留于泥水分離罐內；

g.靜置沉降：泥水分離完成后，泥水分離罐內開始靜置，使污泥自然沉降至污泥斗，沉降的時間為排水結束至下一周期排水開始的間隔時間；