[發(fā)明專利]圖像獲取設(shè)備和圖像獲取方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810627339.2
• 申請日: 2018-06-14
• 公開（公告）號: CN109085172A
• 公開（公告）日: 2018-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 橋口英則;松田英樹
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88;G01B11/30
• 代理公司: 北京怡豐知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11293
• 代理人: 遲軍;李艷麗

本發(fā)明提供一種圖像獲取設(shè)備和圖像獲取方法。該圖像獲取設(shè)備包括，具有按第一方向延伸并且不透射至少一部分入射光的多個非透射部的構(gòu)件。所述多個非透射部按與所述第一方向交叉的第二方向以周期P的間隔布設(shè)。該圖像獲取設(shè)備還包括：第一照射單元；攝像單元，其經(jīng)由所述構(gòu)件對所照射的被檢物的區(qū)域攝像；以及驅(qū)動單元，其在用于通過對第一照射單元照射的被檢物攝像而獲取一個圖像的曝光期間，使構(gòu)件和被檢物相對地偏移。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開的實施例的一個方面涉及諸如用于檢查被檢物的光學(xué)評價設(shè)備的圖像獲取設(shè)備，和用于獲取被檢物的圖像以處理該圖像的圖像獲取方法。

背景技術(shù)

作為用于對工件(該工件是具有光澤度的被檢物)的表面上的缺陷進(jìn)行檢測的技術(shù)，日本專利No.5994419和No.4147682討論了如下公知技術(shù)，即，使用通過周期性的條紋圖案發(fā)射光的光源來照射工件并且使用照相機對由工件反射的光攝像。在日本專利No.5994419討論的檢查方法中，利用具有周期性變化的亮度的光來照射工件，計算拍攝的反射光圖像的亮度變化的振幅(amplitude)和平均值。并且基于計算出的值檢測工件的缺陷。在日本專利No.4147682討論的檢查方法中，通過使要被發(fā)射給工件的對比圖案偏移的同時拍攝多個圖像，通過計算諸如各像素的最大值和最小值的評價量，并通過比較像素之間的評價量，來檢查微小的缺陷。

依賴于特定類型的缺陷，日本專利No.5994419和日本專利No.4147682討論的檢查方法具有針對缺陷的照射和圖像拍攝的限制間接性(limitation indirection)。因此，缺陷的可視化有時僅通過圖案照射是不充分的。在這種情況下，如果使用另一照射(例如條照射(bar illumination))，則可以使缺陷可視化。然而，有時難以以圖案照射和條照射共享一個攝像系統(tǒng)的方式來布置圖案照射和條照射。

如果使用使得能夠在圖案照射單元上方攝像的透射型圖案照射，則攝像系統(tǒng)和各種類型的照射單元的布局自由度提高。相應(yīng)地，還可以實現(xiàn)設(shè)備尺寸減小、檢查時間減少等。然而，在圖案照射單元上方攝像會使圖案出現(xiàn)在拍攝圖像上，并且該圖像變成噪聲分量。結(jié)果，會劣化缺陷檢測精度。

發(fā)明內(nèi)容

根據(jù)本實施例的一方面，提供了一種圖像獲取設(shè)備，其包括：具有按第一方向延伸并且不透射至少一部分入射光的多個非透射部的構(gòu)件，所述多個非透射部按與所述第一方向交叉的第二方向以周期P的間隔布設(shè)；第一照射單元；攝像單元，其被構(gòu)造為經(jīng)由所述構(gòu)件對第一照射單元照射的被檢物的區(qū)域攝像；以及驅(qū)動單元，其被構(gòu)造為在攝像單元對通過第一照射單元照射的被檢物攝像并獲取圖像的曝光期間使構(gòu)件和被檢物的相對位置按第二方向偏移。

通過以下參照附圖對示例性實施例的描述，本公開的其他特征將變得清楚。

附圖說明

圖1是例示作為根據(jù)第一示例性實施例的圖像獲取設(shè)備的光學(xué)評價設(shè)備的圖。

圖2是例示根據(jù)第一示例性實施例的第二照射單元的圖。

圖3是例示根據(jù)第一示例性實施例的第二照射單元的橫截面的圖。

圖4是例示根據(jù)第一示例性實施例的缺陷檢查方法的流程圖。

圖5是例示在使用第一照射單元的情況下要在圖像上生成的對比噪聲的圖。

圖6是例示根據(jù)第二示例性實施例的第二照射單元和可移動機構(gòu)的圖。

具體實施方式