[發(fā)明專利]光學(xué)層疊體的制造方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810621617.3
• 申請(qǐng)日: 2018-06-15
• 公開（公告）號(hào): CN109143441A
• 公開（公告）日: 2019-01-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 羽場康弘;幡中伸行
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 住友化學(xué)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G02B5/30
• 分類號(hào): G02B5/30
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 曹陽

1.一種光學(xué)層疊體的制造方法，是制造具備光學(xué)膜(1)、和由聚合性液晶化合物的聚合物形成的聚合物層(2)、且所述聚合物層(2)夾隔著粘合劑或粘接劑層(3)與所述光學(xué)膜(1)層疊而成的光學(xué)層疊體(4)的方法，

該方法包括：

帶有基材膜的聚合物層除靜電運(yùn)送工序(A)，將具備長尺寸的基材膜(5)和層疊于所述基材膜(5)上的所述聚合物層(2)、且所述基材膜(5)能夠從所述聚合物層(2)剝離的長尺寸的帶有基材膜的聚合物層(6)一邊除靜電一邊沿長度方向運(yùn)送；

貼合工序(B)，對(duì)利用所述帶有基材膜的聚合物層除靜電運(yùn)送工序(A)運(yùn)送的所述帶有基材膜的聚合物層(6)，在所述聚合物層(2)側(cè)夾隔著粘合劑或粘接劑層(3)貼合長尺寸的光學(xué)膜(1)，得到具備長尺寸的基材膜(5)、所述聚合物層(2)、和夾隔著所述粘合劑或粘接劑層(3)貼合于該聚合物層(2)上的長尺寸的光學(xué)膜(1)、且所述基材膜(5)能夠從所述聚合物層(2)剝離的長尺寸的帶有基材膜的光學(xué)層疊體(7)；以及

剝離工序(C)，從所述貼合工序(B)中得到的帶有基材膜的光學(xué)層疊體(7)剝離所述基材膜(5)而得到所述光學(xué)層疊體(4)，

并且該方法包括基材膜除靜電運(yùn)送工序(D)，將所述剝離工序(C)中被剝離后的所述基材膜(5)一邊除靜電一邊沿長度方向運(yùn)送，

所述帶有基材膜的聚合物層除靜電運(yùn)送工序(A)中的除靜電后的所述帶有基材膜的聚合物層(6)的帶電量的絕對(duì)值為0.01kV以上且6kV以下，或者所述基材膜除靜電運(yùn)送工序(D)中的除靜電后的所述基材膜(5)的帶電量的絕對(duì)值為0.01kV以上且6kV以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其中，

在所述帶有基材膜的聚合物層(6)中，所述聚合物層(2)遍及該聚合物層(2)的寬度方向的整體地設(shè)于所述基材膜(5)上，所述基材膜(5)的寬度大于所述聚合物層(2)的寬度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制造方法，其中，

在所述帶有基材膜的聚合物層(6)中，在所述基材膜(5)上夾隔著取向?qū)?8)層疊所述聚合物層(2)，所述取向?qū)?8)遍及寬度方向的整體地層疊于所述基材膜(5)上，所述基材膜(5)的寬度大于所述取向?qū)?8)的寬度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的制造方法，其中，

在所述帶有基材膜的光學(xué)層疊體(7)中，所述聚合物層(2)的寬度大于所述粘合劑或粘接劑層(3)的寬度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的制造方法，其中，

在所述帶有基材膜的光學(xué)層疊體(7)中，在所述基材膜(5)上夾隔著取向?qū)?8)層疊所述聚合物層(2)，所述取向?qū)?8)的寬度大于所述粘合劑或粘接劑層(3)的寬度。

6.一種帶有基材膜的聚合物層的運(yùn)送方法，是將具備長尺寸的基材膜(5)和層疊于所述基材膜(5)上的由聚合性液晶化合物的聚合物形成的聚合物層(2)、且所述基材膜(5)能夠從所述聚合物層(2)剝離的長尺寸的帶有基材膜的聚合物層(6)一邊除靜電一邊沿長度方向運(yùn)送的方法，

除靜電后的所述帶有基材膜的聚合物層(6)的帶電量的絕對(duì)值為0.01kV以上且6kV以下。