[發(fā)明專利]去除圖像檢測(cè)過程中摩爾紋的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810615337.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108830795B | 公開(公告)日: | 2022-05-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙斌;候小華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 合肥市商巨智能裝備有限公司;深圳市商巨視覺技術(shù)有限公司;深圳商巨智能設(shè)備股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06T3/40 | 分類號(hào): | G06T3/40;G06T5/00 |
| 代理公司: | 深圳市中科創(chuàng)為專利代理有限公司 44384 | 代理人: | 梁炎芳;謝亮 |
| 地址: | 230012 *** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 去除 圖像 檢測(cè) 過程 摩爾 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種去除圖像檢測(cè)過程中摩爾紋的方法,包括聚焦,獲取行子圖像,行子圖像修正及圖像拼接步驟。行子圖像修正包括:根據(jù)第一張行子圖像上已點(diǎn)亮晶格四個(gè)角的Y坐標(biāo)值,計(jì)算出第一張行子圖像上理論的中心晶格四個(gè)角的Y坐標(biāo)值;根據(jù)理論的中心晶格四個(gè)角的Y坐標(biāo)值計(jì)算出每一行晶格四個(gè)角的理論Y坐標(biāo)值;根據(jù)每一行晶格四個(gè)角的理論Y坐標(biāo)值,將處在該行的所有晶格沿Y軸方向施加位移,使該行所有晶格四個(gè)角的Y坐標(biāo)值修正至理論Y坐標(biāo)值,使處在同一行的所有晶格位于同一水平線上;重復(fù)上述步驟,直至拍攝的所有行子圖像修正完畢。本發(fā)明的有益效果在于:解決了圖像檢測(cè)過程中去除摩爾紋的方法操作復(fù)雜且需要特制的機(jī)器平臺(tái)的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及圖像處理的技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種去除圖像檢測(cè)過程中摩爾紋的方法。
背景技術(shù)
在液晶面板或有機(jī)EL面板這一類顯示面板中,通過具有R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))子像素的像素(pixel)的不同的開關(guān)方式來(lái)顯示圖像和/或影像,其中,一般使用R(紅)、G(綠)、B(藍(lán))組成光的三原色,部分產(chǎn)品或加入W(白)或Y(黃)以獲取更廣的色域,或亮度表現(xiàn)。一般來(lái)說(shuō),在這樣的顯示面板中,制造工序中難免存在加工精度的偏差,導(dǎo)致顯示不均。
顯示不均現(xiàn)象大致可分為輝度不均和顏色不均。輝度不均使得臨近的像素之間具有亮度梯度;顏色不均發(fā)生在每個(gè)像素的R、G、B(W,Y)的相對(duì)亮度關(guān)系存在梯度。
特別的,有機(jī)EL面板加工工藝中難以使每個(gè)像素的有機(jī)化合物層的厚度均勻,因此容易發(fā)生因有機(jī)化合物層的層厚不一致而引起的區(qū)域性的顯示不均的特性。
作為對(duì)此情況的對(duì)策,專利文獻(xiàn)(CN105575326A)提出了一種輝度測(cè)量方法,獲取顯示面板在至少三個(gè)灰階下的亮度矩陣;根據(jù)亮度矩陣確定亮度均勻區(qū)域和亮度不均勻區(qū)域;測(cè)量亮度均勻區(qū)域的實(shí)測(cè)Gamma曲線,根據(jù)亮度矩陣計(jì)算亮度不均勻區(qū)域中各個(gè)像素點(diǎn)在至少三個(gè)灰階對(duì)應(yīng)的擬合Gamma值;根據(jù)實(shí)測(cè)Gamma曲線、擬合Gamma值分別擬合得到亮度不均勻區(qū)域中每一像素點(diǎn)的擬合Gamma曲線;根據(jù)每一像素點(diǎn)的擬合Gamma曲線對(duì)亮度不均勻區(qū)域進(jìn)行亮度校準(zhǔn)。通過上述方式,本發(fā)明能夠提高校準(zhǔn)亮度不均的精度以及提高校準(zhǔn)的效率。
專利文獻(xiàn)(WO2013159377 A1)提出另外一種檢測(cè)方式,獲取設(shè)置在檢測(cè)機(jī)臺(tái)上的背光模組處于標(biāo)準(zhǔn)輝度時(shí)在檢測(cè)機(jī)臺(tái)的多個(gè)位置產(chǎn)生的空間照度值,并將該空間照度值作為標(biāo)準(zhǔn)空間照度值(S201);獲取背光模組在該多個(gè)位置產(chǎn)生的即時(shí)空間照度值(S202);將即時(shí)空間照度值與標(biāo)準(zhǔn)空間照度值進(jìn)行比較,從而判定背光模組是否異常(S203)。該檢測(cè)方法采用照度測(cè)量?jī)x替代輝度測(cè)量?jī)x,節(jié)約了成本。
但是,以上方法均需要使用呈周期性排列的固態(tài)成像元件(CCD or CMOS)相機(jī)來(lái)拍攝像素同樣呈周期性排列的顯示面板的圖像,在此情況下,會(huì)因相機(jī)像素排列的周期和顯示面板排列的周期之間無(wú)法匹配而產(chǎn)生偏移,導(dǎo)致被拍攝的圖像發(fā)生干涉,這種干涉條紋業(yè)內(nèi)稱為摩爾紋(Moire)。
如果基于發(fā)生了摩爾紋的拍攝圖像測(cè)定像素的輝度,則會(huì)發(fā)生由于在顯示面板上位于對(duì)應(yīng)于摩爾紋的位置的像素的輝度被測(cè)定得偏暗等而無(wú)法正確測(cè)定輝度的情況,因此需要抑制由摩爾紋引起的影響。
作為對(duì)此情況的對(duì)策,專利文獻(xiàn)(CN106664359A)公開了如下方法:在聚焦并拍攝時(shí)產(chǎn)生的摩爾紋(M)產(chǎn)生的狀態(tài)下拍攝圖像,用高通濾波器(12)從拍攝到的圖像去除相當(dāng)于摩爾紋(M)的空間頻率成分,以生成第1圖像,利用相機(jī)(2)離焦并拍攝圖像,對(duì)拍攝到的圖像適用低通濾波器(13)以生成第2圖像,將第1圖像以及第2圖像合成,生成摩爾紋(M)消失或被抑制的第3圖像。但是,上述專利文獻(xiàn)中2的去除摩爾紋的方法操作復(fù)雜且需要特制的機(jī)器平臺(tái)。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,本發(fā)明的主要目的是提供一種去除圖像檢測(cè)過程中摩爾紋的方法,旨在解決圖像檢測(cè)過程中去除摩爾紋的方法操作復(fù)雜且需要特制的機(jī)器平臺(tái)的問題。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于合肥市商巨智能裝備有限公司;深圳市商巨視覺技術(shù)有限公司;深圳商巨智能設(shè)備股份有限公司,未經(jīng)合肥市商巨智能裝備有限公司;深圳市商巨視覺技術(shù)有限公司;深圳商巨智能設(shè)備股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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