[發(fā)明專利]掩膜板框架組件和掩膜板模組有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810612835.0 | 申請日: | 2018-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN108823527B | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張健;黃俊杰;王震;李冬偉;趙蓉 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩膜板 框架 組件 模組 | ||
1.一種用于蒸鍍的掩膜板框架組件,所述掩膜板框架組件包括框架和開口掩膜板,所述開口掩膜板包括掩膜板本體和設置在所述掩膜板本體邊緣處的多個固定條,所述框架包括框架本體,其特征在于,所述開口掩膜板與所述框架層疊設置,且所述掩膜板本體的一部分與所述框架本體重疊,所述固定條位于所述框架本體上;
所述框架包括形成在所述框架本體上的主開口,所述框架本體上還設置有容納槽,所述容納槽包括第一容納槽和多個第二容納槽,所述第一容納槽位于所述框架本體的內邊緣處,且與所述主開口相通,所述掩膜板本體上與所述框架本體重疊的部分設置在所述第一容納槽中,多個所述第二容納槽與多個所述固定條一一對應,所述第二容納槽的一端開口與所述第一容納槽相通,所述第二容納槽的另一端開口形成在所述框架本體的外側表面上,所述固定條設置在所述第二容納槽中。
2.根據(jù)權利要求1所述的掩膜板框架組件,其特征在于,所述掩膜板本體的上表面與所述框架本體上未設置所述容納槽的部分的上表面平齊。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的掩膜板框架組件,其特征在于,所述開口掩膜板通過點焊的方式固定在所述框架本體上,且點焊形成的焊點位于所述第一容納槽的邊緣處以及所述第二容納槽的邊緣處。
4.根據(jù)權利要求3所述的掩膜板框架組件,其特征在于,所述掩膜板本體上與所述框架本體重疊的部分的寬度不小于兩個焊點的寬度之和。
5.根據(jù)權利要求4所述的掩膜板框架組件,其特征在于,所述開口掩膜板滿足以下條件中的一者:
所述開口掩膜板的厚度為0.03mm,所述焊點的寬度為0.5mm;
所述開口掩膜板的厚度為0.15mm,所述焊點的寬度為0.8mm;
所述開口掩膜板的寬度為0.1mm,所述焊點的寬度為0.6mm。
6.根據(jù)權利要求1或2所述的掩膜板框架組件,其特征在于,所述開口掩膜板還包括形成在所述掩膜板本體上的面板開口,多個所述面板開口排列為多行多列,相鄰兩行所述面板開口之間的部分相對應的位置處設置有所述固定條,且相鄰兩列所述面板開口之間的部分對應的位置處設置有所述固定條。
7.根據(jù)權利要求1或2所述的掩膜板框架組件,其特征在于,所述開口掩膜板的厚度為0.1mm,每個所述固定條的寬度均不小于1.5mm。
8.根據(jù)權利要求1或2所述的掩膜板框架組件,其特征在于,所述開口掩膜板的厚度為0.15mm,每個所述固定條的寬度均不小于1mm。
9.一種掩膜板模組,所述掩膜板模組包括掩膜板框架組件和圖形化掩膜板,所述圖形化掩膜板包括主體部和連接部,所述連接部環(huán)繞所述主體部設置,其特征在于,所述掩膜板框架組件為權利要求1至8中任意一項所述的掩膜板框架組件,所述連接部層疊在所述框架本體以及所述掩膜板本體與所述框架本體重疊的部分上,且所述連接部與所述掩膜板本體以及所述框架本體均焊接固定。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





