[發明專利]一種高熱導率氮化硅陶瓷及其制備方法在審
| 申請號: | 201810612015.1 | 申請日: | 2018-06-14 |
| 公開(公告)號: | CN108585881A | 公開(公告)日: | 2018-09-28 |
| 發明(設計)人: | 葉楓;楊春萍;張標;葉健;劉強;高曄;葉凱 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | C04B35/584 | 分類號: | C04B35/584;C04B35/64 |
| 代理公司: | 北京隆源天恒知識產權代理事務所(普通合伙) 11473 | 代理人: | 閆冬;段守富 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 氮化硅陶瓷 高熱導率 制備 氮化硅粉體 脫氧處理 熱導率 粉料 過篩 氮化硅陶瓷材料 氮化硅陶瓷基 抗熱震性能 耐高溫性能 氮化硅粉 混合介質 氣壓燒結 燒結過程 燒結助劑 聲子散射 綜合性能 含氧量 研磨 板材料 晶格氧 生坯 | ||
1.一種高熱導率氮化硅陶瓷的制備方法,其特征在于,
第一步,將氮化硅粉進行脫氧處理、自然冷卻,并將所得氮化硅粉體研磨過篩;
第二步,將第一步所述氮化硅粉體與燒結助劑在混合介質的作用下混合,混合結束后干燥、過篩,得到粉料;
第三步,將所述粉料壓制成型,得到氮化硅陶瓷生坯;
第四步,將所述氮化硅陶瓷生坯進行氣壓燒結,得到氮化硅陶瓷材料。
2.如權利要求1所述的高熱導率氮化硅陶瓷的制備方法,其特征在于,第一步所述脫氧處理的工藝為,將所述氮化硅粉和碳粉分別放入不同的坩堝內,放置于管式爐內,以5-10℃/min的升溫速率,在反應氣氛中1200℃-1400℃溫度下處理4-8h。
3.如權利要求2所述的高熱導率氮化硅陶瓷的制備方法,其特征在于,所述反應氣氛為氮氣或氨氣。
4.如權利要求1所述的高熱導率氮化硅陶瓷的制備方法,其特征在于,第二步所述燒結助劑為二元復合燒結助劑,且所述二元復合燒結助劑包括稀土氧化物和堿土金屬化合物。
5.如權利要求4所述的高熱導率氮化硅陶瓷的制備方法,其特征在于,所述稀土氧化物是Y2O3、Yb2O3、Gd2O3、Nd2O3中的一種,所述堿土金屬化合物是MgO、MgSiN2或MgF2中的一種。
6.如權利要求4或5所述的高熱導率氮化硅陶瓷的制備方法,其特征在于,第二步所述氮化硅粉體、所述稀土氧化物與所述堿土金屬化合物的摩爾比為95-89:4-6:1-5。
7.如權利要求1所述的高熱導率氮化硅陶瓷的制備方法,其特征在于,第二步所述混合介質為異丙醇,且所述異丙醇與所述氮化硅粉體的重量比為1-1.5:1。
8.如權利要求7所述的高熱導率氮化硅陶瓷的制備方法,其特征在于,第二步所述干燥的過程為,先在55-75℃進行旋轉干燥,然后在真空烘箱中以110-130℃干燥3-5小時。
9.如權利要求1所述的一種高熱導率氮化硅陶瓷的制備方法,其特征在于,第三步所述壓制成型的工藝條件為,先使用鋼模干壓成型,再進行冷等靜壓成型,成形壓力200-500MPa,成型時間100-300s。
10.如權利要求1所述的一種高熱導率氮化硅陶瓷的制備方法,其特征在于,第四步中,所述氣壓燒結的工藝條件為,以氮氣為燒結氣氛,氣壓為0.9-1.5Mpa的條件下,以5-15℃/min的速率升溫至1700-2000℃,并保溫1.5-20h。
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