[發(fā)明專利]一種表面具有鋁基陶瓷復(fù)合涂層的耐腐蝕燒結(jié)釹鐵硼永磁體的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810596790.2 | 申請日: | 2018-06-11 |
| 公開(公告)號: | CN108754424A | 公開(公告)日: | 2018-11-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙占中;曹玉杰;李緒亮;黃秀蓮;陳靜武;衣曉飛;熊永飛 | 申請(專利權(quán))人: | 安徽大地熊新材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/16 | 分類號: | C23C14/16;C23C14/24;C25D11/34;H01F41/02;H01F1/057 |
| 代理公司: | 合肥天明專利事務(wù)所(普通合伙) 34115 | 代理人: | 汪貴艷 |
| 地址: | 231500 *** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 復(fù)合涂層 燒結(jié)釹鐵硼永磁體 鋁基陶瓷 微弧氧化 真空蒸鍍 釹鐵硼片 耐腐蝕 制備 陶瓷復(fù)合涂層 微弧氧化處理 釹鐵硼永磁體 電解質(zhì)溶液 燒結(jié)釹鐵硼 釹鐵硼工件 陽極 表面制備 工件表面 毛坯加工 耐腐蝕性 成片狀 結(jié)合力 微缺陷 出鋁 鋁膜 清洗 | ||
本發(fā)明公開了一種表面具有鋁基陶瓷復(fù)合涂層的耐腐蝕燒結(jié)釹鐵硼永磁體的制備方法,包括:將燒結(jié)釹鐵硼毛坯加工成片狀后,對釹鐵硼片的進行表面處理;真空蒸鍍鋁;置于電解質(zhì)溶液中作為陽極,進行微弧氧化處理,在釹鐵硼片表面制備出鋁基陶瓷復(fù)合涂層;清洗、干燥后獲得高耐腐蝕性的釹鐵硼永磁體。本發(fā)明采用真空蒸鍍鋁,在釹鐵硼工件表面生成一層鋁膜,既改善了工件表面的微缺陷,又為后續(xù)的微弧氧化做準(zhǔn)備;然后在此基礎(chǔ)上再進行微弧氧化后,使生成的復(fù)合涂層更加的均勻,結(jié)合力顯著增強。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于燒結(jié)釹鐵硼永磁體表面防護領(lǐng)域,具體涉及一種表面具有鋁基陶瓷復(fù)合涂層的耐腐蝕燒結(jié)釹鐵硼永磁體的制備方法。
背景技術(shù)
釹鐵硼永磁體因其具有高的飽和磁化強度、矯頑力和磁能積,自問世以來被廣泛應(yīng)用于能源、交通、機械、醫(yī)療、家電、IT等行業(yè),其產(chǎn)品涉及國民經(jīng)濟的眾多領(lǐng)域。但由于燒結(jié)釹鐵硼永磁體受到生產(chǎn)工藝、基體表面多孔和自身多相結(jié)構(gòu)的限制,在潮濕的環(huán)境中容易發(fā)生腐蝕,造成產(chǎn)品失效,這種耐蝕性差的缺點,嚴(yán)重影響了其進一步的應(yīng)用。目前表面防護處理是提高燒結(jié)釹鐵硼永磁體的耐蝕性能最為有效的方法主要有磷化處理、電鍍、電泳、化學(xué)鍍、磁控濺射等,這些方法在一定程度上雖然能提高燒結(jié)釹鐵硼的耐腐蝕性能,但隨著應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓寬,已不能滿足新領(lǐng)域的需求。
微弧氧化技術(shù)作為一項近幾年發(fā)展起來的表面防護技術(shù),該技術(shù)可以在金屬表面制備各種既可以提高金屬基體性能,還可以獲得各種功能膜層,并漸漸成為材料研究領(lǐng)域的熱點。該技術(shù)是利用電化學(xué)方法,在材料的表面微孔中產(chǎn)生火花放電斑點,在電化學(xué)和熱化學(xué)的作用下,原位生產(chǎn)氧化膜層。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的發(fā)明目的在于提供一種表面具有鋁基陶瓷復(fù)合涂層的耐腐蝕燒結(jié)釹鐵硼永磁體的制備方法,該方法具有工藝簡單,耐腐蝕性提高明顯的優(yōu)點。
本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
一種表面具有鋁基陶瓷復(fù)合涂層的耐腐蝕燒結(jié)釹鐵硼永磁體的制備方法,包括以下步驟:
1)將燒結(jié)釹鐵硼毛坯加工成片狀后,對釹鐵硼片的進行表面處理;
2)將經(jīng)1)表面處理后的釹鐵硼片置于真空鍍膜機內(nèi)進行真空蒸鍍鋁;
3)將真空蒸鍍鋁后的釹鐵硼片置于電解質(zhì)溶液中作為陽極,進行微弧氧化處理,在釹鐵硼片表面制備出鋁基陶瓷復(fù)合涂層;清洗、干燥后獲得高耐腐蝕性的釹鐵硼永磁體。
進一步方案,步驟1)中所述釹鐵硼片的厚度為1~40mm。
進一步方案,步驟1)中所述表面處理包括除油或去污清洗、拋光打磨、酸洗除銹和轟擊沖洗;所述酸洗除銹是將釹鐵硼片置于質(zhì)量濃度1%~10%的硝酸中,超聲波進清洗5~60秒;所述轟擊沖洗是采用循環(huán)氬離子對磁體表面進行清洗。
進一步方案,所述采轟擊沖洗的真空度為0.1~100Pa、Ar2流量為100~180sccm,轟擊時間30~90min。
進一步方案,步驟2)中所述真空蒸鍍鋁的工藝為:真空度為1×10-3Pa~7×10-3Pa,蒸發(fā)電流1500~3500A,真空蒸鍍時間為20~60min。
進一步方案,步驟2)中所述電解質(zhì)溶液是由納米石墨、硅酸鈉、硝酸鉀、焦硫酸鈉和蒸餾水混合而成的,其中納米石墨的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5~50g/L,硅酸鈉的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為15~35g/L,硝酸鉀的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10~30g/L,焦硫酸鈉的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為20~35g/L。
進一步方案,所述電解質(zhì)溶液的制備過程如下:先將納米石墨加入蒸餾水中,以功率為400~600W進行超聲分散0.5~2h;然后依次添加硅酸鈉、硝酸鉀、焦硫酸鈉,再以功率為200~400W進行第二次超聲分散0.5~2h,最后將超聲分散后的溶液進行過濾得電解質(zhì)溶液。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





