[發(fā)明專利]靜電卡盤和工藝腔室有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810579971.4 | 申請日: | 2018-06-07 |
| 公開(公告)號: | CN110581099B | 公開(公告)日: | 2022-06-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭士選;李一成 | 申請(專利權(quán))人: | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H05F3/02 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 100176 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 靜電 卡盤 工藝 | ||
本發(fā)明公開了一種靜電卡盤和工藝腔室,靜電卡盤包括基座、接口盤和支撐組件;基座包括相對設(shè)置的第一表面和第二表面,第一表面用于承載晶圓,第二表面連接接口盤;支撐組件包括相連接的頂針結(jié)構(gòu)和驅(qū)動結(jié)構(gòu),頂針結(jié)構(gòu)可移動地穿設(shè)在基座中,至少部分驅(qū)動結(jié)構(gòu)固定在接口盤中;接口盤通過電荷釋放組件選擇性地與接地端電連接,當(dāng)頂針結(jié)構(gòu)升起并與晶圓接觸時(shí),接口盤能夠?qū)⒕A和基座上的殘余電荷釋放到接地端。本發(fā)明的靜電卡盤,當(dāng)晶圓經(jīng)吸附?釋放工藝后,即便晶圓和基座存在殘余電荷,當(dāng)頂針結(jié)構(gòu)與晶圓接觸時(shí),仍然可以將該部分殘余電荷傳遞至接地端,可以將晶圓和基座的殘余電荷接地消除,避免晶圓發(fā)生粘片現(xiàn)象。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種靜電卡盤、一種包括該靜電卡盤的工藝腔室。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體先進(jìn)封裝等離子刻蝕設(shè)備中,刻蝕機(jī)將光刻工藝所產(chǎn)生的諸如線、面或孔洞等光阻圖案,準(zhǔn)確無誤地轉(zhuǎn)印到光阻底下的晶圓上,以形成整個(gè)集成電路所應(yīng)有的復(fù)雜架構(gòu)。為了完成上述晶圓刻蝕工藝,通常是將晶圓放置在等離子刻蝕設(shè)備的工藝腔室內(nèi)的靜電卡盤上,對晶圓進(jìn)行刻蝕。靜電卡盤起到支撐、固定晶圓并對工藝過程中的晶圓的溫度進(jìn)行控制等作用。
一般地,在靜電卡盤的吸附過程中,向靜電卡盤的兩個(gè)直流電極分別施加正電壓和負(fù)電壓,以在靜電卡盤和晶圓之間產(chǎn)生靜電荷,從而可以將晶圓吸附固定到靜電卡盤上,進(jìn)行工藝。在完成工藝后,進(jìn)行靜電卡盤的脫附過程,此時(shí),向靜電卡盤的兩個(gè)直流電極提供相反的電壓,以中和靜電卡盤上的靜電荷。
但是,不可避免的,會在晶圓表面產(chǎn)生部分靜電荷,而該部分靜電荷確無法通過中和的形式進(jìn)行釋放,導(dǎo)致晶圓與靜電卡盤無法完成脫附,或者出現(xiàn)晶圓破損的情況發(fā)生。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一,提出了一種靜電卡盤和一種包括該靜電卡盤的工藝腔室。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的第一方面,提供了一種靜電卡盤,包括基座、接口盤和支撐組件;其中,
所述基座包括相對設(shè)置的第一表面和第二表面,所述第一表面用于承載晶圓,所述第二表面連接所述接口盤;
所述支撐組件包括相連接的頂針結(jié)構(gòu)和驅(qū)動結(jié)構(gòu),所述頂針結(jié)構(gòu)可移動地穿設(shè)在所述基座中,至少部分所述驅(qū)動結(jié)構(gòu)固定在所述接口盤中;
所述接口盤通過電荷釋放組件選擇性地與接地端電連接,當(dāng)所述頂針結(jié)構(gòu)升起并與所述晶圓接觸時(shí),所述接口盤能夠?qū)⑺鼍A和所述基座上的殘余電荷釋放到所述接地端。
優(yōu)選地,所述頂針結(jié)構(gòu)包括頂針和彈性件,所述彈性件位于所述頂針的朝向所述晶圓的一側(cè),并與所述頂針連接。
優(yōu)選地,所述驅(qū)動結(jié)構(gòu)包括:
固定件,其設(shè)置有內(nèi)螺紋;
導(dǎo)桿,其穿設(shè)在所述固定件中,所述導(dǎo)桿設(shè)置有與所述內(nèi)螺紋相匹配的外螺紋,以沿所述固定件移動;
安裝法蘭,其固定于所述固定件的一端,并與所述接口盤電連接;
所述頂針結(jié)構(gòu)穿過所述安裝法蘭至與所述導(dǎo)桿的一端固定連接。
優(yōu)選地,所述驅(qū)動結(jié)構(gòu)還包括:
導(dǎo)電環(huán),其位于所述安裝法蘭和所述接口盤之間,以使得所述安裝法蘭和所述接口盤電連接。
優(yōu)選地,所述驅(qū)動結(jié)構(gòu)還包括:
固定套筒,固定于所述安裝法蘭內(nèi),且所述固定套筒的內(nèi)徑在朝向所述導(dǎo)桿的一側(cè)小于背離所述導(dǎo)桿的一側(cè);
夾持套筒,套設(shè)在所述頂針結(jié)構(gòu)的外部;并且,
當(dāng)所述導(dǎo)桿帶動所述頂針結(jié)構(gòu)朝向所述晶圓的方向移動時(shí),所述夾持套筒能夠與所述固定套筒抵接,以固定住所述頂針結(jié)構(gòu)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





