[發明專利]深度圖處理方法及裝置

有效

• 申請號: 201810579439.2
• 申請日: 2018-06-07
• 公開（公告）號: CN108986156B
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發明（設計）人: 龍學軍;晁志超;羅軍
• 申請（專利權）人: 成都通甲優博科技有限責任公司
• 主分類號: G06T7/50
• 分類號: G06T7/50;G06T5/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 王寧寧

1.一種深度圖處理方法，應用于終端，其特征在于，所述方法包括：

獲取原始深度圖；

獲取所述原始深度圖中主體的主體輪廓，所述主體輪廓包括輪廓所圍成的區域；

統計所述原始深度圖中與所述主體輪廓中第一深度值對應位置的像素的第一深度值均值；

對所述原始深度圖進行濾波后得到第二深度圖；

統計所述第二深度圖中與所述主體輪廓中第一深度值對應位置的像素的第二深度值均值；

根據所述第一深度值均值和第二深度值均值對所述第二深度圖進行處理后得到第一深度圖；

將所述第一深度圖與所述原始深度圖進行匹配，得到匹配結果，并根據匹配結果對所述第一深度圖進行處理；

所述根據所述第一深度均值和第二深度均值對所述第二深度圖進行處理后得到第一深度圖的步驟包括：

將所述第二深度圖中對應于所述主體輪廓的位置的每個像素的深度值減去第二深度均值后再加上第一深度均值，得到第一深度圖；

所述將所述第一深度圖與所述原始深度圖進行匹配，得到匹配結果，并根據匹配結果對所述第一深度圖進行處理的步驟包括：

統計所述第一深度圖中每一個像素的深度值與所述原始深度圖中對應像素的深度值的深度值絕對差；

若存在所述深度值絕對差大于預設閾值的像素且所述深度值絕對差大于預設閾值的像素對應的所述主體輪廓的像素的深度值為第二值，則將所述第一深度圖中所述深度值絕對差大于預設閾值的像素的深度值調整為所述原始深度圖的對應像素的深度值。

2.如權利要求1所述的深度圖處理方法，其特征在于，所述對所述原始深度圖進行濾波后得到第二深度圖的步驟包括：

以所述主體輪廓為結構特征圖，并根據所述主體輪廓對所述原始深度圖進行結構傳遞濾波，得到第二深度圖。

3.如權利要求1所述的深度圖處理方法，其特征在于，所述獲取所述原始深度圖中主體的主體輪廓的步驟包括：

在所述原始深度圖中識別主體區域，并對所述主體區域進行裁剪得到主體區域圖像；

對所述主體區域圖像進行二值化處理得到二值圖像；

將所述二值圖像還原成所述原始深度圖中對應的主體大小，得到主體輪廓。

4.一種深度圖處理裝置，應用于終端，其特征在于，所述裝置包括：第一獲取模塊，用于獲取原始深度圖；

第二獲取模塊，用于獲取所述原始深度圖中主體的主體輪廓，所述主體輪廓包括輪廓所圍成的區域；

處理模塊，用于統計所述原始深度圖中與所述主體輪廓中第一深度值對應位置的像素的第一深度值均值；對所述原始深度圖進行濾波后得到第二深度圖；統計所述第二深度圖中與所述主體輪廓中第一深度值對應位置的像素的第二深度值均值；根據所述第一深度值均值和第二深度值均值對所述第二深度圖進行處理后得到第一深度圖；

所述處理模塊執行根據所述第一深度值均值和第二深度值均值對所述第二深度圖進行處理后得到第一深度圖的方式，包括：

將所述第二深度圖中對應于所述主體輪廓的位置的每個像素的深度值減去第二深度均值后再加上第一深度均值，得到第一深度圖；

匹配模塊，用于將所述第一深度圖與所述原始深度圖進行匹配，得到匹配結果，并根據所述匹配結果對所述第一深度圖進行處理；

所述匹配模塊還用于：

統計所述第一深度圖中每一個像素的深度值與所述原始深度圖中對應像素的深度值的深度值絕對差；

若存在所述深度值絕對差大于預設閾值的像素且所述深度值絕對差大于預設閾值的像素對應的所述主體輪廓的像素的深度值為第二值，則將所述第一深度圖中所述深度值絕對差大于預設閾值的像素的深度值調整為所述原始深度圖的對應像素的深度值。