[發(fā)明專利]一種投影儀筆記系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810576547.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108874187A | 公開(公告)日: | 2018-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 任廣輝;廖流波;何勝陽 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06F3/0354 | 分類號(hào): | G06F3/0354;G06F3/038;G06F3/041;G06F3/042;G06K9/00;G06K9/32;H04N5/232;H04N5/235 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 拍攝裝置 光源 投影儀 投影區(qū)域 投影裝置 主控裝置 畫面幀 手寫筆 視頻信息接收模塊 筆記 投影控制模塊 多媒體教學(xué) 定位模塊 輔助設(shè)備 軌跡顯示 交互模塊 互動(dòng)性 準(zhǔn)確率 白板 投影 多媒體 拍攝 制作 | ||
1.一種投影儀筆記系統(tǒng),其特征在于,包括:帶有光源的手寫筆、投影裝置、主控裝置、拍攝裝置;拍攝裝置用于拍攝投影區(qū)域;其中主控裝置包括:
投影控制模塊,用于控制投影裝置進(jìn)行投影;
視頻信息接收模塊,用于接收拍攝裝置的畫面幀;
定位模塊,用于根據(jù)所述畫面幀確定手寫筆光源在投影區(qū)域內(nèi)的坐標(biāo);
顯示模塊,用于根據(jù)所述坐標(biāo)將光源的軌跡在交互裝置中進(jìn)行顯示。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影儀筆記系統(tǒng),其特征在于,所述交互裝置為顯示屏或所述投影裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影儀筆記系統(tǒng),其特征在于,還包括標(biāo)定模塊,所述標(biāo)定模塊進(jìn)一步包括:
曝光值調(diào)節(jié)單元,用于當(dāng)畫面幀中除光源位置外的像素點(diǎn)的亮度值是否均小于預(yù)設(shè)值,若否,則下調(diào)所述攝像裝置的曝光值,直至判斷結(jié)果為是;
投影區(qū)域檢測(cè)單元,用于對(duì)畫面幀進(jìn)行邊緣檢測(cè)和直線檢測(cè),以確定投影區(qū)域;
手寫筆標(biāo)定單元,用于調(diào)節(jié)攝像裝置的焦距和曝光值,使焦距基本對(duì)準(zhǔn)手寫筆的光源位置,使定位模塊能準(zhǔn)確檢測(cè)到手寫筆筆尖的光源。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影儀筆記系統(tǒng),其特征在于,所述定位模塊包括:
光源識(shí)別單元,用于在所述畫面幀中根據(jù)亮度或顏色值識(shí)別手寫筆光源在畫面幀內(nèi)的位置坐標(biāo);
坐標(biāo)轉(zhuǎn)換單元,用于對(duì)手寫筆光源在畫面幀內(nèi)的位置坐標(biāo)進(jìn)行轉(zhuǎn)換,得到手寫筆光源在投影區(qū)域中的坐標(biāo)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的投影儀筆記系統(tǒng),其特征在于,還包括:
軌跡形成單元,用于將時(shí)序上相鄰的兩個(gè)光源定位坐標(biāo)通過線條連接形成軌跡。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的投影儀筆記系統(tǒng),其特征在于,所述坐標(biāo)轉(zhuǎn)換單元進(jìn)行坐標(biāo)轉(zhuǎn)換的公式為:
其中,表示手寫筆的筆尖在投影區(qū)域中實(shí)際位置的x坐標(biāo),表示筆尖在攝像裝置中畫面位置的x坐標(biāo),Psx表示投影區(qū)域參考點(diǎn)的x坐標(biāo),Rw表示投影區(qū)域的分辨率的寬度,Psw表示攝像裝置中投影區(qū)域的寬度,X'表示水平方向誤差補(bǔ)償,單位均為像素點(diǎn);
表示筆尖在投影區(qū)域上實(shí)際位置的y坐標(biāo),表示筆尖在攝像裝置中畫面位置的y坐標(biāo),Psy表示投影區(qū)域參考點(diǎn)的y坐標(biāo),Rh表示投影區(qū)域的分辨率的高度,Psh表示攝像裝置中投影區(qū)域的高度,Y'表示豎直方向誤差補(bǔ)償。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的投影儀筆記系統(tǒng),其特征在于,所述定位模塊還包括:
去噪單元,用于對(duì)軌跡形成單元得到的軌跡進(jìn)行卡爾曼濾波處理,以去除抖動(dòng);再通過中值濾波處理,以使軌跡平滑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影儀筆記系統(tǒng),其特征在于,所述帶有光源的手寫筆上設(shè)置有開關(guān),用于控制光源的開啟或關(guān)閉。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影儀筆記系統(tǒng),其特征在于,所述主控單元還包括:
界面保存模塊,能夠響應(yīng)于觸發(fā)指令,將帶有軌跡的畫面幀進(jìn)行保存,得到界面圖;
OCR識(shí)別模塊,用于根據(jù)OCR技術(shù)將界面圖中的軌跡進(jìn)行識(shí)別為文字,并顯示在界面圖中。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的投影儀筆記系統(tǒng),其特征在于,所述主控單元還包括:
畸變矯正模塊,用于對(duì)投影區(qū)域進(jìn)行畸變矯正。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于哈爾濱工業(yè)大學(xué),未經(jīng)哈爾濱工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810576547.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G06F 電數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)處理
G06F3-00 用于將所要處理的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)變成為計(jì)算機(jī)能夠處理的形式的輸入裝置;用于將數(shù)據(jù)從處理機(jī)傳送到輸出設(shè)備的輸出裝置,例如,接口裝置
G06F3-01 .用于用戶和計(jì)算機(jī)之間交互的輸入裝置或輸入和輸出組合裝置
G06F3-05 .在規(guī)定的時(shí)間間隔上,利用模擬量取樣的數(shù)字輸入
G06F3-06 .來自記錄載體的數(shù)字輸入,或者到記錄載體上去的數(shù)字輸出
G06F3-09 .到打字機(jī)上去的數(shù)字輸出
G06F3-12 .到打印裝置上去的數(shù)字輸出





