[發明專利]一種低反射紅外截止濾光片的制備技術在審
| 申請號: | 201810573943.1 | 申請日: | 2018-06-06 |
| 公開(公告)號: | CN108802883A | 公開(公告)日: | 2018-11-13 |
| 發明(設計)人: | 奐微微;馮海亮 | 申請(專利權)人: | 湖北五方光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/20 | 分類號: | G02B5/20;G03B11/00 |
| 代理公司: | 北京天奇智新知識產權代理有限公司 11340 | 代理人: | 楊文錄 |
| 地址: | 434000 *** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 紅外截止濾光片 制備 氟化鎂薄膜 低反射 電子束蒸鍍 鍍膜 基材 高低折射率材料 低折射率材料 高折射率材料 鏡片表面處理 基材表面鍍 鍍膜工藝 方案調整 基材表面 交替鍍膜 磨光 反射率 光滑度 后表面 鏡片 膜系 配比 成型 優化 | ||
本發明公開的屬于低反射紅外截止濾光片技術領域,具體為一種低反射紅外截止濾光片的制備技術,該低反射紅外截止濾光片的制備技術的具體制備步驟如下:S1:基材表面鍍氟化鎂薄膜:在基材表面通過電子束蒸鍍的方式鍍氟化鎂薄膜,將鍍膜后的基材靜置待氟化鎂薄膜成型;S2:高低折射率材料交替鍍膜:將高折射率材料和低折射率材料先后通過電子束蒸鍍的方式鍍在步驟S1中鍍氟化鎂薄膜后的基材上;S3:鏡片表面處理:磨光步驟S2中鍍膜后表面光滑度不夠的鏡片,本方案調整紅外截止濾光片的鍍膜工藝,優化膜系配比,達到同時降低0°和30°條件下的反射率,制備方案簡單,制備成品效果較佳。
技術領域
本發明涉及低反射紅外截止濾光片技術領域,具體為一種低反射紅外截止濾光片的制備技術。
背景技術
可見光波段的反射率是衡量手機攝像頭模組用紅外截止濾光片光學質量的一項重要指標,目前行業內紅外截止濾光片在可見光波段的最大反射率一般在Rmax≤0.8%(0°)和Tmax≤1.0%(30°)。
隨著目前在手機攝像頭像素的要求越來越高,最為關鍵的光學部件之一的紅外截止濾光片的反射率已經不能滿足高端產品的需求,為此,我們提出了一種低反射紅外截止濾光片的制備技術。
發明內容
本發明的目的在于提供一種低反射紅外截止濾光片的制備技術,以解決上述背景技術中提出的隨著目前在手機攝像頭像素的要求越來越高,最為關鍵的光學部件之一的紅外截止濾光片的反射率已經不能滿足高端產品的需求的問題。
為實現上述目的,本發明提供如下技術方案:一種低反射紅外截止濾光片的制備技術,該低反射紅外截止濾光片的制備技術的具體制備步驟如下:
S1:基材表面鍍氟化鎂薄膜:在基材表面通過電子束蒸鍍的方式鍍氟化鎂薄膜,將鍍膜后的基材靜置待氟化鎂薄膜成型;
S2:高低折射率材料交替鍍膜:將高折射率材料和低折射率材料先后通過電子束蒸鍍的方式鍍在步驟S1中鍍氟化鎂薄膜后的基材上;
S3:鏡片表面處理:磨光步驟S2中鍍膜后表面光滑度不夠的鏡片。
優選的,所述步驟S1中的基材為白玻璃或者藍玻璃。
優選的,所述步驟S1中的氟化鎂薄膜的厚度為20-80nm。
優選的,所述步驟S2中的鍍膜在真空的狀態下鍍膜。
優選的,所述步驟S2中的高折射率材料和低折射率材料分別采用二氧化硅和五氧化三鈦。
優選的,所述步驟S2中高折射率材料的厚度和低折射率材料的厚度分別為20-200nm、80-250nm。
與現有技術相比,本發明的有益效果是:本方案調整紅外截止濾光片的鍍膜工藝,優化膜系配比,達到同時降低0°和30°條件下的反射率,制備方案簡單,制備成品效果較佳。
附圖說明
圖1為本發明制備工藝流程圖;
圖2為本發明實施例的實驗數據圖。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例中的附圖,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發明保護的范圍。
請參閱圖1,本發明提供一種技術方案:一種低反射紅外截止濾光片的制備技術,該低反射紅外截止濾光片的制備技術的具體制備步驟如下:
S1:基材表面鍍氟化鎂薄膜:在基材表面通過電子束蒸鍍的方式鍍氟化鎂薄膜,將鍍膜后的基材靜置待氟化鎂薄膜成型;
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