[發明專利]一種低反射紅外截止濾光片的制備技術在審
| 申請號： | 201810573943.1 | 申請日： | 2018-06-06 |
| 公開（公告）號： | CN108802883A | 公開（公告）日： | 2018-11-13 |
| 發明（設計）人： | 奐微微;馮海亮 | 申請（專利權）人： | 湖北五方光電股份有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/20 | 分類號： | G02B5/20;G03B11/00 |
| 代理公司： | 北京天奇智新知識產權代理有限公司 11340 | 代理人： | 楊文錄 |
| 地址： | 434000 *** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 紅外截止濾光片 制備 氟化鎂薄膜 低反射 電子束蒸鍍 鍍膜 基材 高低折射率材料 低折射率材料 高折射率材料 鏡片表面處理 基材表面鍍 鍍膜工藝 方案調整 基材表面 交替鍍膜 磨光 反射率 光滑度 后表面 鏡片 膜系 配比 成型 優化 | ||
【權利要求書】：
1.一種低反射紅外截止濾光片的制備技術，其特征在于：該低反射紅外截止濾光片的制備技術的具體制備步驟如下：
S1：基材表面鍍氟化鎂薄膜：在基材表面通過電子束蒸鍍的方式鍍氟化鎂薄膜，將鍍膜后的基材靜置待氟化鎂薄膜成型；
S2：高低折射率材料交替鍍膜：將高折射率材料和低折射率材料先后通過電子束蒸鍍的方式鍍在步驟S1中鍍氟化鎂薄膜后的基材上；
S3：鏡片表面處理：磨光步驟S2中鍍膜后表面光滑度不夠的鏡片。
2.根據權利要求1所述的一種低反射紅外截止濾光片的制備技術，其特征在于：所述步驟S1中的基材為白玻璃或者藍玻璃。
3.根據權利要求1所述的一種低反射紅外截止濾光片的制備技術，其特征在于：所述步驟S1中的氟化鎂薄膜的厚度為20-80nm。
4.根據權利要求1所述的一種低反射紅外截止濾光片的制備技術，其特征在于：所述步驟S2中的鍍膜在真空的狀態下鍍膜。
5.根據權利要求1所述的一種低反射紅外截止濾光片的制備技術，其特征在于：所述步驟S2中的高折射率材料和低折射率材料分別采用二氧化硅和五氧化三鈦。
6.根據權利要求1所述的一種低反射紅外截止濾光片的制備技術，其特征在于：所述步驟S2中高折射率材料的厚度和低折射率材料的厚度分別為20-200nm、80-250nm。
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