[發(fā)明專利]一種陣列基板及其制作方法、液晶顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810570161.2
• 申請(qǐng)日: 2018-06-05
• 公開（公告）號(hào): CN108803168B
• 公開（公告）日: 2020-03-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱茂霞;徐洪遠(yuǎn)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1362
• 分類號(hào): G02F1/1362;G02F1/1368
• 代理公司: 深圳市威世博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

1.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在基板上形成TFT器件后，依次覆蓋鈍化層、遮擋層和光阻層，其中，所述遮擋層采用金屬制作；

采用一道光罩對(duì)所述光阻層進(jìn)行曝光，以使所述光阻層對(duì)應(yīng)有效顯示區(qū)的位置形成交替設(shè)置的第一區(qū)域和第二區(qū)域，并使所述光阻層對(duì)應(yīng)所述TFT器件的源極/漏極的位置形成第三區(qū)域；其中，所述第一區(qū)域的光阻層的厚度小于所述第二區(qū)域的光阻層的厚度，所述第三區(qū)域裸露出所述遮擋層；對(duì)所述第三區(qū)域裸露的所述遮擋層進(jìn)行蝕刻以裸露所述鈍化層，以及對(duì)裸露的所述鈍化層進(jìn)行蝕刻以裸露所述TFT器件的源極/漏極；對(duì)所述光阻層進(jìn)行部分灰化，以使所述第一區(qū)域裸露所述遮擋層，且所述第二區(qū)域的光阻層的厚度減小；對(duì)所述第一區(qū)域裸露的所述遮擋層進(jìn)行蝕刻，以裸露所述鈍化層；其中，所述第一區(qū)域裸露出所述鈍化層，所述第二區(qū)域?qū)?yīng)的遮擋層的寬度小于所述光阻層的寬度，所述第三區(qū)域裸露出所述TFT器件的源極/漏極；

在所述陣列基板的表面形成第一導(dǎo)電層；其中，所述第一導(dǎo)電層與所述第一區(qū)域裸露的鈍化層、所述第二區(qū)域的光阻層、以及所述第三區(qū)域裸露的源極/漏極接觸，且所述第一區(qū)域的第一導(dǎo)電層和所述第二區(qū)域的第一導(dǎo)電層之間斷開；

對(duì)所述光阻層進(jìn)行剝離，以使所述第二區(qū)域裸露出所述遮擋層；

對(duì)裸露的所述遮擋層進(jìn)行氧化。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，

所述光罩包括透光區(qū)、非透光區(qū)以及半透光區(qū)；其中，所述半透光區(qū)對(duì)應(yīng)所述第一區(qū)域，所述非透光區(qū)對(duì)應(yīng)所述第二區(qū)域，所述透光區(qū)對(duì)應(yīng)所述第三區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，

所述對(duì)所述第一區(qū)域裸露的所述遮擋層進(jìn)行蝕刻，以裸露所述鈍化層的步驟，具體為：

對(duì)所述第一區(qū)域裸露的所述遮擋層進(jìn)行濕法蝕刻，同時(shí)對(duì)所述第二區(qū)域的所述遮擋層進(jìn)行側(cè)向濕法蝕刻，以使所述第二區(qū)域?qū)?yīng)的遮擋層的寬度小于所述光阻層的寬度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，

所述對(duì)所述第三區(qū)域裸露的所述遮擋層進(jìn)行蝕刻以裸露所述鈍化層，以及對(duì)裸露的所述鈍化層進(jìn)行蝕刻以裸露所述TFT器件的源極/漏極的步驟，包括：

采用濕法蝕刻對(duì)所述第三區(qū)域裸露的所述遮擋層進(jìn)行蝕刻以裸露所述鈍化層；

采用干法蝕刻對(duì)所述第三區(qū)域裸露的所述鈍化層進(jìn)行蝕刻以裸露所述TFT器件的源極/漏極。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，

所述在基板上形成TFT器件后，依次覆蓋鈍化層、遮擋層和光阻層的步驟之前，還包括：

提供一基板；

在所述基板上依次形成柵極、柵極絕緣層、有源層和第二導(dǎo)電層；

對(duì)所述第二導(dǎo)電層進(jìn)行圖案化處理，以形成源極和漏極。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，

所述第一導(dǎo)電層為ITO。

7.一種陣列基板，其特征在于，所述陣列基板是采用如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的制作方法制作得到的陣列基板。

8.一種液晶顯示裝置，其特征在于，所述液晶顯示裝置包括顯示面板和背光源；

其中，所述顯示面板包括陣列基板、彩膜基板、以及所述陣列基板和所述彩膜基板之間的液晶層；

其中，所述陣列基板是如權(quán)利要求7所述的陣列基板。