[發(fā)明專利]吸附載臺及光刻設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810555715.1
• 申請日: 2018-05-31
• 公開（公告）號: CN110554573B
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 魏銀雷;廖飛紅
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思捷知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

本發(fā)明提供了一種吸附載臺及光刻設(shè)備，所述吸附載臺中的多個子調(diào)平制動單元中每個子調(diào)平致動單元包括至少三個壓電致動器。基于本發(fā)明中至少三個壓電致動器中的三個壓電致動器調(diào)平每個子吸附平臺單元，從而使得吸附面的面型符合測試需求；還可以額外增加壓電致動器，以調(diào)整單個子吸附平臺單元在中間出現(xiàn)整體的突起或凹陷的問題，從而有效提高單個子吸附平臺單元的平面度，有效提高吸附面的調(diào)平精度，從而提高平面器件的產(chǎn)品成像質(zhì)量。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種吸附載臺及光刻設(shè)備。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種通過光刻裝置將圖案成像在目標物料上的設(shè)備，可用于液晶面板的制造等，工作過程中，物料被吸附固定，被吸附后的物料平面度直接決定著成像的質(zhì)量。

傳統(tǒng)光刻設(shè)備中，放置物料被吸盤所吸附固定，通常的吸盤主要是整體式，物料被吸附后面型無法調(diào)整。隨著大世代工件臺的出現(xiàn)，所需吸盤的尺寸越來越大，做成整體式幾乎無法實現(xiàn)，因此解決方案是將吸盤劃分成多個子吸附單元，裝配后對整體進行研磨使吸盤面型達標。但在實際使用過程中，當吸盤吸附物料面型不達標，再次調(diào)整面型需要對吸盤重新研磨，工作量較大。

針對現(xiàn)有技術(shù)中吸盤存在的不足，本領(lǐng)域技術(shù)人員一直在尋找解決的方法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種吸附載臺，以彌補現(xiàn)有吸盤的不足。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種吸附載臺，所述吸附載臺包括：

多個子吸附平臺單元，共同拼接構(gòu)成吸附面以吸附平面器件；

多個子調(diào)平致動單元，每個子調(diào)平致動單元對應(yīng)設(shè)置于一子吸附平臺單元的下方，每個子調(diào)平致動單元包括至少三個壓電致動器；以及

平臺面型測量單元，用于測量每個子吸附平臺單元和/或所述平面器件的平面度，并將測量的結(jié)果反饋給所述多個子調(diào)平致動單元。

可選的，在所述的吸附載臺中，每個子調(diào)平致動單元包括三個壓電致動器，三個壓電致動器呈三角形分布。

可選的，在所述的吸附載臺中，每個子調(diào)平致動單元包括四個壓電致動器，其中三個壓電致動器呈三角形分布，剩余一個壓電致動器位于所述三角形的對稱中心。

可選的，在所述的吸附載臺中，所述壓電致動器為壓電陶瓷驅(qū)動器。

可選的，在所述的吸附載臺中，所述子調(diào)平致動單元還包括與至少三個壓電致動器連接的控制器。

可選的，在所述的吸附載臺中，所述子吸附平臺單元包括多孔陶瓷吸盤。

可選的，在所述的吸附載臺中，所述子吸附平臺單元還包括與多孔陶瓷吸盤連接的負壓源。

可選的，在所述的吸附載臺中，所述平面器件為玻璃基板。

本發(fā)明還提供一種光刻設(shè)備，所述光刻設(shè)備包括照明單元、掩模臺分系統(tǒng)、投影物鏡分系統(tǒng)、工件臺分系統(tǒng)、對準分系統(tǒng)、調(diào)焦調(diào)平分系統(tǒng)以及整機控制分系統(tǒng)，所述工件臺分系統(tǒng)采用如上所述的吸附載臺吸附待曝光對象。

可選的，在所述的光刻設(shè)備中，所述調(diào)焦調(diào)平分系統(tǒng)包括調(diào)焦調(diào)平傳感器，所述調(diào)焦調(diào)平傳感器作為所述吸附載臺中的平臺面型測量單元，測量每個子吸附平臺單元和/或所述平面器件的平面度。