[發明專利]吸附載臺及光刻設備

有效

• 申請號: 201810555715.1
• 申請日: 2018-05-31
• 公開（公告）號: CN110554573B
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發明（設計）人: 魏銀雷;廖飛紅
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

1.一種吸附載臺，其特征在于，包括：

多個子吸附平臺單元，共同拼接構成吸附面以吸附平面器件；

多個子調平致動單元，每個子調平致動單元對應設置于一子吸附平臺單元的下方，每個子調平致動單元包括至少三個壓電致動器；以及

平臺面型測量單元，用于測量每個子吸附平臺單元和/或所述平面器件的平面度，并將測量的結果反饋給所述多個子調平致動單元；

其中，在安裝所述子吸附平臺單元時，對所述子吸附平臺單元進行研磨使其平面度達到要求，并通過以下方法調整所述子吸附平臺單元的面型：

使用單個子吸附平臺單元大小的白玻璃作為測試，使用調焦調平傳感器測量其平面度，在單個子吸附平臺單元上測量若干點，對數據擬合平面后可以得到該平面與坐標軸的夾角，根據該角度控制對應該子吸附平臺單元的子調平致動單元來調整該子吸附平臺單元的面型。

2.如權利要求1所述的吸附載臺，其特征在于，每個子調平致動單元包括三個壓電致動器，三個壓電致動器呈三角形分布。

3.如權利要求1所述的吸附載臺，其特征在于，每個子調平致動單元包括四個壓電致動器，其中三個壓電致動器呈三角形分布，剩余一個壓電致動器位于所述三角形的對稱中心。

4.如權利要求3所述的吸附載臺，其特征在于，所述壓電致動器為壓電陶瓷驅動器。

5.如權利要求1所述的吸附載臺，其特征在于，所述子調平致動單元還包括與至少三個壓電致動器連接的控制器。

6.如權利要求1所述的吸附載臺，其特征在于，所述子吸附平臺單元包括多孔陶瓷吸盤。

7.如權利要求6所述的吸附載臺，其特征在于，所述子吸附平臺單元還包括與多孔陶瓷吸盤連接的負壓源。

8.如權利要求1～7中任一項所述的吸附載臺，其特征在于，所述平面器件為玻璃基板。

9.一種光刻設備，其特征在于，包括照明單元、掩模臺分系統、投影物鏡分系統、工件臺分系統、對準分系統、調焦調平分系統以及整機控制分系統，所述工件臺分系統采用如權利要求1所述的吸附載臺吸附待曝光對象。

10.如權利要求9所述的光刻設備，其特征在于，所述調焦調平分系統包括調焦調平傳感器，所述調焦調平傳感器作為所述吸附載臺中的平臺面型測量單元，測量每個子吸附平臺單元和/或所述平面器件的平面度。