[發明專利]連接孔層的光學臨近修正方法

有效

• 申請號: 201810554474.9
• 申請日: 2018-06-01
• 公開（公告）號: CN108828899B
• 公開（公告）日: 2020-08-04
• 發明（設計）人: 劉澤;李林;于世瑞
• 申請（專利權）人: 上海華力集成電路制造有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司 31211
• 代理人: 王江富

本發明公開了一種連接孔層的光學臨近修正方法，其先提供相關層的版圖，找出自由度受限連接孔圖形；然后對各自由度受限連接孔的進行單獨的光學臨近修正處理；將自由度受限連接孔的四條邊都切分為三段，再將中間一段和其他兩段分別進行光學臨近修正；該三段的中間一段占連接孔該條邊的長度的40％到60％，其他兩段均分。本發明的連接孔層的光學臨近修正方法，在連接孔層及上下層光刻圖形滿足設計要求、不影響器件性能的基礎上，能增大自由度受限連接孔圖形的面積，減小邊緣放置誤差，模擬的連接孔圖形與標準連接孔圖形很好的契合，增大了工藝窗口，有效避免了自由度受限連接孔圖形因面積過小而導致曝光失敗的缺陷風險，提高了產品良率。

技術領域

本發明涉及半導體制造技術，特別涉及一種連接孔層的光學臨近修正方法。

背景技術

伴隨著集成電路工藝的不斷進步，技術節點不斷降低，對器件的關鍵尺寸的要求也越來越嚴格，原因是柵極的細微的尺寸波動都會對器件有著不可預估的影響。而連接孔一般用于連接有源區或柵極及金屬層，連接孔的工藝窗口小于有源區或柵極與金屬層的工藝窗口，當下連接孔的工藝窗口已經成為影響整個工藝的重要因素。OPC(OpticalProximity Correction，光學臨近修正)常規的CT(連接孔)修正一般是先將所有的連接孔進行整體放大，再用OPC模型對整體放大后的連接孔進行修正。

原始版圖的柵極和連接孔的布局如圖1所示，進行整理放大修正后的柵極和連接孔的布局如圖2所示。該修正方法只考慮距離柵極和相鄰的連接孔的距離，這樣經過修正后，連接孔會在四個方向上進行逐漸增加，直到最小設計規則的尺寸停止增加；但這樣受限于最小設計規則，圖形的增加尺寸要比不受限制的圖形小，即其面積要小于不受限制的連接孔圖形。連接孔本來的工藝窗口就很小，這樣的圖形在更容易曝光失敗，導致圖形曝不出來，形成盲孔。

另外，由于連接孔層用于連通上層金屬層及下層有源區或柵極，所以連接孔層的修正不止要考慮到本層圖形，也要考慮到上下層的圖形的限制。當對圖形的邊進行移動時，有一些被周邊圖形或上下層圖形限制的連接孔圖形就不能進行整體的移動，會造成這些圖形在基于光學和刻蝕模型下，模擬出連接孔圖形不能與標準連接孔圖形(連接孔的內切橢圓)很好的契合，兩者之間的距離較大，即邊緣放置誤差較大，有造成產品缺陷及工藝窗口較小等問題。

發明內容

本發明要解決的技術問題是提供一種連接孔層的光學臨近修正方法，在連接孔層及上下層光刻圖形滿足設計要求、不影響器件性能的基礎上，能增大自由度受限連接孔圖形的面積，減小邊緣放置誤差，模擬的連接孔圖形與標準連接孔圖形很好的契合，增大了工藝窗口，有效避免了自由度受限連接孔圖形因面積過小而導致曝光失敗的缺陷風險，提高了產品良率。

為解決上述技術問題，本發明提供的連接孔層的光學臨近修正方法，其包括以下步驟：

一.提供相關層的版圖，找出自由度受限連接孔圖形；

自由度受限連接孔圖形，是指連接孔到相鄰連接孔的最小間距、連接孔到柵極的最小間距或連接孔到上層金屬層的最小間距減去設計規則規定的相應最小間距的差值小于設定值；

二.對各自由度受限連接孔的進行單獨的光學臨近修正處理；

將自由度受限連接孔的四條邊都切分為三段，再將中間一段和其他兩段分別進行光學臨近修正；

該三段的中間一段占連接孔該條邊的長度的40％到60％，其他兩段均分；

連接孔左邊的中間一段的移動距離為XL1，其他兩段的移動距離分別為XL2、XL3；

連接孔右邊的中間一段的移動距離為XR1，其他兩段的移動距離分別為XR2、XR3；

連接孔上邊的中間一段的移動距離為XU1，其他兩段的移動距離分別為XU2、XU3；