[發(fā)明專利]連接孔層的光學(xué)臨近修正方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810554474.9
• 申請日: 2018-06-01
• 公開（公告）號: CN108828899B
• 公開（公告）日: 2020-08-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉澤;李林;于世瑞
• 申請（專利權(quán)）人: 上海華力集成電路制造有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海浦一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211
• 代理人: 王江富

1.一種連接孔層的光學(xué)臨近修正方法，其特征在于，包括以下步驟：

一.提供相關(guān)層的版圖，找出自由度受限連接孔圖形；

自由度受限連接孔圖形，是指連接孔到相鄰連接孔的最小間距、連接孔到柵極的最小間距或連接孔到上層金屬層的最小間距減去設(shè)計規(guī)則規(guī)定的相應(yīng)最小間距的差值小于設(shè)定值；

二.對各自由度受限連接孔進行單獨的光學(xué)臨近修正處理；

將自由度受限連接孔的四條邊都切分為三段，再將中間一段和其他兩段分別進行光學(xué)臨近修正；

該三段的中間一段占連接孔該條邊的長度的40％到60％，其他兩段均分；

連接孔左邊的中間一段的移動距離為XL1，其他兩段的移動距離分別為XL2、XL3；

連接孔右邊的中間一段的移動距離為XR1，其他兩段的移動距離分別為XR2、XR3；

連接孔上邊的中間一段的移動距離為XU1，其他兩段的移動距離分別為XU2、XU3；

連接孔下邊的中間一段的移動距離為XD1，其他兩段的移動距離分別為XD2、XD3；

XL1大于XL2及XL3；

XR1大于XR2及XR3；

XU1大于XU2及XU3；

XD1大于XD2及XD3。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連接孔層的光學(xué)臨近修正方法，其特征在于，

所述設(shè)定值小于連接孔邊長的1/7。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連接孔層的光學(xué)臨近修正方法，其特征在于，

所述設(shè)定值小于連接孔邊長的1/10或1/20。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連接孔層的光學(xué)臨近修正方法，其特征在于，

通過使用標準驗證規(guī)則格式語言，利用電子設(shè)計自動化軟件找出自由度受限連接孔圖形。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連接孔層的光學(xué)臨近修正方法，其特征在于，

步驟二中，對各自由度受限連接孔的進行單獨的光學(xué)臨近修正處理，自由度受限連接孔的四條邊，分為橫向和豎向兩個方向，其中受限總長度較大的方向上的邊的中間段相對標準連接孔向內(nèi)移動，受限總長度較小的方向上的邊的中間段相對標準連接孔向外移動。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連接孔層的光學(xué)臨近修正方法，其特征在于，

步驟二中，對各自由度受限連接孔進行單獨的光學(xué)臨近修正處理，切分后的三段都是基于電子設(shè)計自動化軟件進行運算，運算N次，每次移動量是按照上次邊緣放置誤差乘以設(shè)定比例來確定。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的連接孔層的光學(xué)臨近修正方法，其特征在于，

N為10，十次移動的設(shè)定比例依次為：40％，40％，50％，50％，60％，50％，50％，40％，40％，40％。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連接孔層的光學(xué)臨近修正方法，其特征在于，

選中的連接孔修正后的面積大于原始面積1.1倍。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連接孔層的光學(xué)臨近修正方法，其特征在于，

選中的連接孔修正后的邊緣放置誤差比原始的值小。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連接孔層的光學(xué)臨近修正方法，其特征在于，

所述自由度受限連接孔的受限的邊經(jīng)修正后的邊緣放置誤差與初始值保持不變。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連接孔層的光學(xué)臨近修正方法，其特征在于，

自由度受限連接孔的邊長為75nm到69nm，設(shè)計規(guī)則要求的連接孔之間最小間距為37nm；

將自由度受限連接孔的四條邊都切分為三段時，自由度受限連接孔的邊中間一段之外的另外兩段均為20nm。