[發明專利]化學水浴薄膜的沉積方法在審
| 申請號: | 201810548665.4 | 申請日: | 2018-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN110556326A | 公開(公告)日: | 2019-12-10 |
| 發明(設計)人: | 陳騰 | 申請(專利權)人: | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/683 | 分類號: | H01L21/683;H01L21/02;H01L31/18 |
| 代理公司: | 11435 北京志霖恒遠知識產權代理事務所(普通合伙) | 代理人: | 郭棟梁 |
| 地址: | 102600 北京市大興區北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 襯底 沉積 水浴反應 化學水 鍍膜 隔離保護層 復合層 節約生產成本 薄膜沉積 表面形成 單面薄膜 分離步驟 復合步驟 清洗工藝 生產效率 薄膜 背面 室內 覆蓋 申請 | ||
本申請公開了一種化學水浴薄膜的沉積方法,包括以下步驟:復合步驟:將隔離保護層覆蓋在鍍膜襯底的一表面形成一復合層;反應步驟:將復合層通過水浴反應室,啟動水浴反應,使鍍膜襯底在水浴反應室內進行單面薄膜沉積;分離步驟:沉積完后進行隔離保護層與鍍膜襯底的分離。采用本發明的化學水浴薄膜沉積方法,可以阻止化學水浴在襯底背面的沉積,從而避免后續背面清洗工藝處理,既提高生產效率,又節約生產成本。
技術領域
本公開一般涉及一種薄膜的沉積方法,具體涉及一種化學水浴薄膜的沉積方法。
背景技術
對于不銹鋼襯底卷對卷制造的薄膜電池,包括但不限于銅銦鎵硒薄膜電池和碲化鎘薄膜電池,都需要制備硫化鎘或硫化鋅緩沖層或n型層。由于物理濺射法靶材利于率低以及直接濺射會損傷電池吸收層等工藝弊端,目前產業上緩沖層制備大多采用化學沉積方法,包括化學水浴法和化學噴淋法。
化學水浴法通常需要將襯底浸沒在反應溶液中進行薄膜沉積,因而襯底背面也會有薄膜沉積,需要后續的清洗工藝處理,增加了工藝的復雜性和生產成本;化學噴淋法可以實現襯底單面反應溶液噴淋,因而只在單面形成薄膜沉積,但是由于噴淋工藝的限制,反應溶液在柔性襯底表面的分布很難達到化學水浴時的各向同性,因而化學噴淋法制備的薄膜均勻性差,影響薄膜電池的性能和外觀。
發明內容
鑒于現有技術中的上述缺陷或不足,期望提供一種提高生產效率,節約生產成本的化學水浴薄膜的沉積方法。
本發明實施例采用的技術方案為:
一種化學水浴薄膜的沉積方法,包括以下步驟:
復合步驟:將隔離保護層覆蓋在鍍膜襯底的一表面形成一復合層;
反應步驟:將復合層通過水浴反應室,啟動水浴反應,使鍍膜襯底在水浴反應室內進行單面薄膜沉積;
分離步驟:沉積完后進行隔離保護層與鍍膜襯底的分離。
所述復合步驟包括:
在第一放卷輥上穿設隔離保護層,在第二放卷輥上穿設鍍膜襯底;
放卷,使隔離保護層覆蓋在所述鍍膜襯底一表面,形成復合層。
所述分離步驟包括:
將隔離保護層和鍍膜襯底分開,將隔離保護層繞至第一收卷輥,鍍膜襯底纏繞至第二收卷輥。
進一步地,在反應步驟之后分離步驟之前,還包括:
對復合層兩側殘余反應溶液進行清洗的步驟,以及
對復合層兩側進行烘干的步驟。
所述隔離保護層為柔性磁鐵,所述鍍膜襯底為不銹鋼襯底。
所述柔性磁鐵為具有強磁性的橡膠磁條或磁鐵薄膜。
所述鍍膜襯底上設有背電極金屬層和p型光吸收層,所述隔離保護層覆蓋在所述鍍膜襯底遠離背電極金屬層的一面。
進一步地,還包括固定步驟:將隔離保護層纏繞至第一收卷輥并固定,將鍍膜襯底纏繞至第二收卷輥并固定。
所述隔離保護層和鍍膜襯底寬度相同。
所述啟動水浴反應包括:
給水浴反應室的反應槽體加注反應溶液,并升溫,反應溶液沒過鍍膜襯底。
所述反應溶液溫度升至65℃-70℃,然后保持恒溫。
所述反應槽體為耐腐蝕槽體。
采用本發明的化學水浴薄膜沉積方法,可以阻止化學水浴在襯底背面的沉積,從而避免后續背面清洗工藝處理,既提高生產效率,又節約生產成本。
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
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H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





