[發(fā)明專利]改善異形屏面板畫質(zhì)的設(shè)計方法及結(jié)構(gòu)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810546896.1 | 申請日: | 2018-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN108732826A | 公開(公告)日: | 2018-11-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 唐岳軍 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/1335;G09F9/33 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265 | 代理人: | 林才桂;劉巍 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 遮光層 異形 遮擋 像素 屏面板 子像素 畫質(zhì) 驅(qū)動條件 像素設(shè)置 開孔 開口 鋸齒 色差 邊緣設(shè)置 正常像素 減小 | ||
本發(fā)明涉及一種改善異形屏面板畫質(zhì)的設(shè)計方法及結(jié)構(gòu)。該改善異形屏面板畫質(zhì)的設(shè)計方法包括:步驟10、沿面板實際顯示邊緣設(shè)置初始遮光層;步驟20、對于未被初始遮光層完全遮擋的像素,如果該像素包含至少一個完全被初始遮光層遮擋的子像素,該像素設(shè)置為完全不顯示或者增加遮光層完全遮擋該像素;步驟30、對于未被初始遮光層完全遮擋的像素,如果該像素的全部子像素都未被初始遮光層完全遮擋,該像素設(shè)置為全部子像素在相同驅(qū)動條件下的亮度比值等于或接近于未被初始遮光層遮擋的正常像素的全部子像素在相同驅(qū)動條件下的亮度比值。本發(fā)明改善異形屏面板畫質(zhì)的設(shè)計方法及結(jié)構(gòu)能夠減小或者消除開口/開孔&異形位置的鋸齒感;消除開口/開孔&異形位置的色差。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種改善異形屏面板畫質(zhì)的設(shè)計方法及結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
隨著顯示產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域的擴大,相關(guān)顯示屏或者使用顯示屏的生產(chǎn)廠家紛紛開始設(shè)計生產(chǎn)異形屏顯示產(chǎn)品,例如IponeX手機具有開口/開孔(Notch)設(shè)計。如圖1所示,其為現(xiàn)有一種異形屏面板示意圖。在異形屏面板中,其面板基板外形和顯示區(qū)域可能呈現(xiàn)圓形或多邊形等不規(guī)則的非矩形形狀。由于顯示區(qū)域中的像素結(jié)構(gòu)為了便于設(shè)計與驅(qū)動大多采用傳統(tǒng)的陣列式結(jié)構(gòu),因此,在顯示區(qū)域與非顯示區(qū)域之間需要通過遮光層結(jié)構(gòu)的設(shè)計來實現(xiàn)非水平直線或者非豎直直線的斜線/曲線邊緣的顯示效果。
開口/開孔等異形屏面板的遮光層現(xiàn)在主要有圖2A和圖2B兩種設(shè)計方案。圖2A所示為一種現(xiàn)有針對異形屏顯示產(chǎn)品的遮光層的設(shè)計圖,圖2A中采用傳統(tǒng)的直線式遮光層結(jié)構(gòu)設(shè)計方案,遮光層1在顯示區(qū)域與非顯示區(qū)域的邊緣按照鋸齒狀設(shè)置,呈鋸齒狀排列在顯示區(qū)域與非顯示區(qū)域的邊緣的像素只能做到近似弧形或者斜邊,會導(dǎo)致具有顯示亮度的顯示區(qū)域在邊緣處的鋸齒狀邊緣與完全呈現(xiàn)黑暗的非顯示區(qū)域之間形成強烈的顏色或亮度對比,使顯示區(qū)域鋸齒狀的邊緣可通過人眼被識別到,降低了顯示面板邊緣的視覺效果,嚴重影響用戶體驗。圖2B所示為另一種現(xiàn)有針對異形屏顯示產(chǎn)品的遮光層的設(shè)計圖,圖2B中采用按照斜線/曲邊顯示的實際顯示邊緣來設(shè)置遮光層的設(shè)計方案,雖然可以減小上述鋸齒情況,但由于遮光層2與像素排列的非平行,在顯示區(qū)域邊緣遮光層2對同一像素中的RGB子像素的遮光面積不同,從而顯示區(qū)域邊緣像素呈現(xiàn)在用戶眼中的色彩混色比例受遮光層結(jié)構(gòu)位置的影響,從而產(chǎn)生開口/開孔等異形位置與其他位置相比的顏色偏移或者亮暗不均(mura)現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目的在于提供一種改善異形屏面板畫質(zhì)的設(shè)計方法及結(jié)構(gòu),減小異形位置的鋸齒感及色差。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種改善異形屏面板畫質(zhì)的設(shè)計方法,包括:
步驟10、沿面板實際顯示邊緣設(shè)置初始遮光層;
步驟20、對于未被初始遮光層完全遮擋的像素,如果該像素包含至少一個完全被初始遮光層遮擋的子像素,該像素設(shè)置為完全不顯示或者增加遮光層完全遮擋該像素;
步驟30、對于未被初始遮光層完全遮擋的像素,如果該像素的全部子像素都未被初始遮光層完全遮擋,該像素設(shè)置為全部子像素在相同驅(qū)動條件下的亮度比值等于或接近于未被初始遮光層遮擋的正常像素的全部子像素在相同驅(qū)動條件下的亮度比值。
其中,步驟30中,設(shè)置該像素全部子像素的亮度比值通過設(shè)置該像素全部子像素的開口率比值進行。
其中,對于液晶面板,設(shè)置該像素全部子像素的開口率比值通過設(shè)置該像素全部子像素附加的遮光層進行。
其中,對于OLED面板,設(shè)置該像素全部子像素的開口率比值通過設(shè)置該像素全部子像素的像素限定層面積或者附加的像素限定層進行。
其中,對于液晶面板,步驟30中,設(shè)置該像素全部子像素的亮度比值通過設(shè)置該像素全部子像素的像素電極的形狀/大小/面積進行。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





