[發(fā)明專利]測試基板及延長測試基板使用壽命的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810545832.X | 申請(qǐng)日： | 2018-05-25 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN108847381A | 公開（公告）日： | 2018-11-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張正洋;張?jiān)綇?qiáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01J37/32 | 分類號(hào)： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黃威 |
| 地址： | 518132 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 刻蝕 測試基板 刻蝕層 玻璃基板表面 基板表面 使用壽命 基板 制備 圖案 阻擋 玻璃基板 延長測試 板表面 霧化 制程 | ||
1.一種測試基板，用于在干刻蝕制程中被進(jìn)行刻蝕模擬，其特征在于，所述測試基板包括：
玻璃基板；以及，
刻蝕層，制備于所述玻璃基板表面，用于被干刻設(shè)備刻蝕形成圖案，且阻擋刻蝕力作用于所述玻璃基板表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測試基板，其特征在于，所述刻蝕層采用光阻材料制備。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的測試基板，其特征在于，所述刻蝕層的膜層厚度至少為
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的測試基板，其特征在于，所述刻蝕層的膜層厚度為
5.干刻蝕制程中延長測試基板使用壽命的方法，其特征在于，所述方法為：在使用干刻蝕設(shè)備對(duì)測試用玻璃基板表面進(jìn)行刻蝕之前，在所述玻璃基板表面制備一刻蝕層；
其中，所述刻蝕層用于被干刻設(shè)備刻蝕形成圖案，且阻擋刻蝕力作用于所述玻璃基板表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述干刻蝕設(shè)備在對(duì)所述刻蝕層進(jìn)行刻蝕時(shí)，減少刻蝕氣體含量，和/或改用對(duì)所述刻蝕層損傷強(qiáng)度小的刻蝕氣體。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述刻蝕層采用光阻材料制備，其中，制備所述刻蝕層的方法包括：
S10，在所述玻璃基板表面涂布光刻膠；
S20，對(duì)所述光刻膠進(jìn)行烘烤以固化形成所述刻蝕層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述刻蝕層的膜層厚度至少為
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，當(dāng)所述刻蝕層經(jīng)多次刻蝕后至膜層厚度小于時(shí)，將所述刻蝕層完全去除，并在所述玻璃基板表面重新制備所述刻蝕層。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，固化后的所述刻蝕層的厚度為
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