[發(fā)明專利]雙面電極及其圖案化方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810541243.4
• 申請日: 2018-05-30
• 公開（公告）號: CN110554789B
• 公開（公告）日: 2023-09-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蕭仲欽;練修成;蔡家揚(yáng)
• 申請（專利權(quán)）人: 英屬維京群島商天材創(chuàng)新材料科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 王玉雙;李巖

一種雙面電極的圖案化方法，包括：提供基板，基板具有相對兩表面，該兩表面上分別設(shè)有第一感光層與第二感光層；設(shè)置由金屬納米線所組成的第一金屬納米線層于第一感光層上，設(shè)置由金屬納米線所組成的第二金屬納米線層于第二感光層上；以及進(jìn)行雙面黃光微影步驟，包括：將第一感光層及第二感光層進(jìn)行曝光以定義出去除區(qū)與保留區(qū)；以及使用顯影液將位于去除區(qū)的第一感光層與金屬納米線以及位于去除區(qū)的第二感光層與金屬納米線去除，以將第一金屬納米線層與第二金屬納米線層圖案化而分別形成設(shè)置于該兩表面上的第一電極及第二電極。更提出一種雙面電極。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明是關(guān)于一種雙面電極及其圖案化方法。

背景技術(shù)

由于透明導(dǎo)體可同時具有光穿透性與適當(dāng)?shù)膶?dǎo)電性，因而常應(yīng)用于許多顯示或觸控相關(guān)的裝置中。一般而言，透明導(dǎo)體可以是各種金屬氧化物，例如氧化銦錫(Indium?TinOxide，ITO)、氧化銦鋅(Indium?Zinc?Oxide，IZO)、氧化鎘錫(Cadmium?Tin?Oxide，CTO)或摻鋁氧化鋅(Aluminum-doped?Zinc?Oxide，AZO)。金屬氧化物薄膜可通過物理氣象沉積法或化學(xué)氣象沉積法而形成，并通過激光工藝而形成適當(dāng)圖案。然而，這些金屬氧化物薄膜的制作方法可能面臨高昂的成本、復(fù)雜的工藝以及低良率的問題。在部份情況下，經(jīng)圖案化的金屬氧化物薄膜也可能有容易被觀察到的問題。因此，現(xiàn)今發(fā)展出了多種透明導(dǎo)體，例如利用納米線等材料所制作的透明導(dǎo)體。

然而利用納米線制作觸控電極，納米線與周邊區(qū)的金屬引線在工藝上及結(jié)構(gòu)上都有許多待解決的問題，例如在進(jìn)行雙面結(jié)構(gòu)圖案化的工藝中，先對基板上層的納米銀表面上進(jìn)行光阻涂布，再進(jìn)行曝光、顯影、蝕刻等步驟，完成上層電極結(jié)構(gòu)的制作之后，會先將上層完成的電極結(jié)構(gòu)進(jìn)行保護(hù)，再依序?qū)ο聦拥募{米銀進(jìn)行光阻涂布、曝光、顯影、蝕刻等步驟。而除了一般黃光微影的圖案化工藝之外，也有通過激光剝離的技術(shù)來進(jìn)行圖案化。上述工藝在技術(shù)上都需分別對上下兩層進(jìn)行制作，故工藝步驟上較為繁瑣，也相對費(fèi)時。

若以激光進(jìn)行納米線的圖案化蝕刻時，如參數(shù)調(diào)控不當(dāng)，激光多余的能量所形成的熱效應(yīng)，反而會破壞導(dǎo)線的邊緣精度，甚至傷害到底下基板造成部分缺陷；另外，現(xiàn)有技術(shù)提及在納米銀層與基板之間加入阻擋層，但當(dāng)工藝完成之后，阻擋層仍會殘留在基板上，對于光學(xué)特性上(例如可見光穿透率或霧度等)造成影響，劣化了影像顯示質(zhì)量。

又例如傳統(tǒng)工藝采用的蝕刻液大多為強(qiáng)酸性，故會導(dǎo)致金屬引線受到蝕刻液的作用，使產(chǎn)品可靠度下降；另外，蝕刻液的殘留問題也需要額外的清潔過程方能克服。

再一方面，利用納米線制作觸控感應(yīng)電極的工藝中，通常會需要在納米在線成形外涂層(overcoat)，以保護(hù)納米線，但殘留的外涂層夾設(shè)在焊接墊與外部電路板之間，會造成接觸阻抗過高的問題。

因此在利用納米線制作觸控感應(yīng)電極的工藝上、電極結(jié)構(gòu)上必須依照材料特性重新設(shè)計(jì)，使產(chǎn)品達(dá)到較佳的表現(xiàn)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的部分實(shí)施方式，提出了雙面電極的圖案化方法，其具有高制作效率的優(yōu)勢。

本發(fā)明的部分實(shí)施方式提出一種雙面電極的圖案化方法，包括：提供一基板，基板具有相對兩表面，該兩表面上分別設(shè)有第一感光層與第二感光層；設(shè)置由金屬納米線所組成的第一金屬納米線層于第一感光層上，設(shè)置由金屬納米線所組成的第二金屬納米線層于第二感光層上；以及進(jìn)行雙面黃光微影步驟，包括：將第一感光層及第二感光層進(jìn)行曝光以定義出去除區(qū)與保留區(qū)；以及使用顯影液將位于去除區(qū)的第一感光層與金屬納米線以及位于去除區(qū)的第二感光層與金屬納米線去除，以將第一金屬納米線層與第二金屬納米線層圖案化而分別形成設(shè)置于該兩表面上的第一電極及第二電極。

于本發(fā)明的部分實(shí)施方式中，將該第一感光層及該第二感光層進(jìn)行曝光包括：設(shè)置一第一曝光源對應(yīng)該第一感光層，設(shè)置一第二曝光源對應(yīng)該第二感光層，其中該第一曝光源與該第二曝光源為相同波段的曝光源；其中該第一感光層吸收大于該第一曝光源的光線總能量的約80％，該第二感光層吸收大于該第二曝光源的光線總能量的約80％。