[發(fā)明專利]薄膜晶體管陣列基板、顯示面板以及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810539241.1 | 申請日: | 2018-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN108461492B | 公開(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 聶曉輝;張嘉偉 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/02 | 分類號: | H01L27/02;H01L27/12 |
| 代理公司: | 深圳市威世博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 袁江龍 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜晶體管 陣列 顯示 面板 以及 顯示裝置 | ||
本申請公開了一種薄膜晶體管陣列基板、顯示面板以及顯示裝置。陣列基板包括基板以及靜電釋放線路層,靜電釋放線路層設(shè)置在基板一側(cè)的非顯示區(qū)內(nèi),靜電釋放線路層包括圍繞顯示區(qū)設(shè)置的導(dǎo)電線路及與導(dǎo)電線路電連接的靜電釋放器件;其中,靜電釋放器件包括多個間隔設(shè)置的靜電釋放單元,靜電釋放單元一端連接基板邊緣,另一端連接導(dǎo)電線路。通過將靜電釋放器件的截面設(shè)置為梳齒狀可以解決現(xiàn)有的顯示面板在切割的過程中容易出現(xiàn)膜層損壞的問題,從而提高顯示面板的切割良率。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種薄膜晶體管陣列基板、顯示面板以及顯示裝置。
背景技術(shù)
低溫多晶硅薄膜晶體管(Low Temperature Poly-Si Thin Film Transistor,LTPS-TFT)具有載流子遷移率高,器件尺寸小等突出優(yōu)點,是發(fā)展低功耗、高集成度顯示面板的關(guān)鍵技術(shù)。LTPS-TFT陣列基板的制作需經(jīng)歷成膜、光刻、清洗等多道工藝,涉及多種制程機臺。在生產(chǎn)過程中,陣列基板與制程機臺的摩擦接觸極易導(dǎo)致靜電積累,引起LTPS-TFT膜層靜電放電(Electrostatic Discharge,ESD)損傷,導(dǎo)致器件失效。為防止LTPS-TFT陣列基板制造過程中器件ESD損傷,常用的方案是在屏幕的顯示區(qū)域外圍制作金屬防護線路(Guard ring),線路的兩端使用重摻雜的Poly-Si作為靜電釋放器件,引導(dǎo)靜電在顯示區(qū)域外釋放,從而實現(xiàn)對顯示區(qū)域半導(dǎo)體器件的保護。
然而現(xiàn)有技術(shù)中靜電釋放器件膜層的厚度較大且與其他層的熱膨脹系數(shù)不同因此會導(dǎo)致靜電釋放器件膜層與其他層之間形成應(yīng)力積累;同時靜電釋放器件膜層結(jié)構(gòu)與其他區(qū)域差別較大,從而存在臺階,當陣列基板和彩膜(Color Filter,CF)基板組立完成切割時,臺階的存在導(dǎo)致重摻雜Poly-Si靜電釋放器件所受應(yīng)力較大,造成膜層破裂。
發(fā)明內(nèi)容
本申請?zhí)岢鲆环N薄膜晶體管陣列基板、顯示面板以及顯示裝置,以解決現(xiàn)有技術(shù)中的LTPS陣列基板切割時容易造成膜層破裂的問題。
為解決上述技術(shù)問題,本申請采用的一個技術(shù)方案是:提出一種薄膜晶體管陣列基板,包括:
基板,包括顯示區(qū)及包圍顯示區(qū)的非顯示區(qū);
靜電釋放線路層,設(shè)置在基板一側(cè)的非顯示區(qū)內(nèi),靜電釋放線路層包括圍繞顯示區(qū)設(shè)置的導(dǎo)電線路及與導(dǎo)電線路電連接的靜電釋放器件;
其中,靜電釋放器件包括多個間隔設(shè)置的靜電釋放單元,靜電釋放單元一端連接沿述基板邊緣,另一端與導(dǎo)電線路連接。
其中,多個靜電釋放單元的截面呈梳齒型。
其中,基板與靜電釋放線路層之間還具有緩沖層。
其中,靜電釋放單元的材質(zhì)包括多晶硅。
其中,靜電釋放單元背對基板的一側(cè)還包括依次層疊設(shè)置的柵絕緣層、層間絕緣層、間隔層以及鈍化保護層。
為解決上述技術(shù)問題,本申請采用的另一個技術(shù)方案是:提出一種一種顯示面板,包括層疊設(shè)置的薄膜晶體管陣列基板和彩膜基板,其中,薄膜晶體管陣列基板包括:
基板,包括顯示區(qū)及包圍所述顯示區(qū)的非顯示區(qū);
靜電釋放線路層,設(shè)置在所述基板一側(cè)的所述非顯示區(qū)內(nèi),所述靜電釋放線路層包括圍繞所述顯示區(qū)設(shè)置的導(dǎo)電線路及與所述導(dǎo)電線路電連接的靜電釋放器件;
其中,靜電釋放器件包括多個間隔設(shè)置的靜電釋放單元,靜電釋放單元一端連接沿述基板邊緣,另一端與導(dǎo)電線路連接。
其中,多個靜電釋放單元的截面呈梳齒型。
其中,基板與靜電釋放線路層之間還具有緩沖層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢華星光電技術(shù)有限公司,未經(jīng)武漢華星光電技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810539241.1/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





