[發明專利]一種彩色濾光片的制備基板及彩色濾光片基板的制造方法

有效

• 申請號: 201810532454.1
• 申請日: 2018-05-29
• 公開（公告）號: CN108776406B
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 劉學敏
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335
• 代理公司: 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙) 44280
• 代理人: 鐘子敏

1.一種彩色濾光片的制備基板，其特征在于，包括：

有效區域，用于在其內形成矩陣排列的第一顏色色阻塊、第二顏色色阻塊和第三顏色色阻塊；

非有效區域，設置在所述有效區域的周圍；

對位精度檢測圖案，設置在所述非有效區域內，且包括第一對位精度檢測圖案、第二對位精度檢測圖案和第三對位精度檢測圖案；

其中，當利用一共用光罩圖案在所述制備基板上形成矩陣排列的所述第一顏色色阻塊時，根據所述光罩圖案投影在所述第一對位精度檢測圖案中的位置而調整修正所述光罩圖案的位置；

當利用所述共用光罩圖案在所述制備基板上形成矩陣排列的所述第二顏色色阻塊時，根據所述光罩圖案投影在所述第二對位精度檢測圖案中的位置而調整修正所述光罩圖案的位置；

當利用所述共用光罩圖案在所述制備基板上形成矩陣排列的所述第三顏色色阻塊時，根據所述光罩圖案投影在所述第三對位精度檢測圖案中的位置而調整修正所述光罩圖案的位置，從而利用同一所述光罩圖案而在所述制備基板上形成所述第一顏色色阻塊、所述第二顏色色阻塊和所述第三顏色色阻塊；

所述共用光罩圖案包括第一光罩對位圖案、第二光罩對位圖案和第三光罩對位圖案；

其中，所述第一光罩對位圖案與所述第一對位精度檢測圖案配合以調整修正所述光罩圖案的位置，從而利用所述光罩圖案在所述制備基板上形成所述第一顏色色阻塊；

所述第二光罩對位圖案與所述第二對位精度檢測圖案配合以調整修正所述光罩圖案的位置，從而利用所述光罩圖案在所述制備基板上形成所述第二顏色色阻塊；

所述第三光罩對位圖案與所述第三對位精度檢測圖案配合以調整修正所述光罩圖案的位置，從而利用所述光罩圖案在所述制備基板上形成所述第三顏色色阻塊；

所述第一對位精度檢測圖案和所述第二對位精度檢測圖案之間的距離與所述第一光罩對位圖案和所述第二光罩對位圖案之間的距離不同，且所述第二對位精度檢測圖案和所述第三對位精度檢測圖案之間的距離與所述第二光罩對位圖案和所述第三光罩對位圖案之間的距離不同，且所述第一對位精度檢測圖案和所述第三對位精度檢測圖案之間的距離與所述第一光罩對位圖案和所述第三光罩對位圖案之間的距離不同。

2.根據權利要求1所述的制備基板，其特征在于，

在利用所述共用光罩圖案在所述制備基板上形成所述第一顏色色阻塊時，調整修正所述共用光罩圖案的位置以使所述第一光罩對位圖案的中心與所述第一對位精度檢測圖案的中心重合；

在利用所述共用光罩圖案在所述制備基板上形成所述第二顏色色阻塊時，將所述共用光罩圖案偏移一個子像素的距離，并根據所述光罩圖案投影在所述第二對位精度檢測圖案中的位置而調整修正，以使所述第二光罩對位圖案的中心與所述第二對位精度檢測圖案的中心重合；

在利用所述共用光罩圖案在所述制備基板上形成所述第二顏色色阻塊時，將所述共用光罩圖案在第一方向上繼續偏移一個子像素的距離，并根據所述光罩圖案投影在所述第三對位精度檢測圖案中的位置而調整修正，以使所述第三光罩對位圖案的中心與所述第三對位精度檢測圖案的中心重合。

3.根據權利要求2所述的制備基板，其特征在于，所述第一光罩對位圖案、所述第二光罩對位圖案和所述第三光罩對位圖案分別為正方形；而所述第一對位精度檢測圖案、所述第二對位精度檢測圖案和所述第三對位精度檢測圖案分別為中空的正方形邊框。

4.根據權利要求3所述的制備基板，其特征在于，當采用接近式曝光方法在所述制備基板上形成所述第一顏色色阻塊、所述第二顏色色阻塊和所述第三顏色色阻塊時，所述第一光罩對位圖案、所述第二光罩對位圖案和所述第三光罩對位圖案的邊長不小于30微米；

而當采用掃描式曝光方法在所述制備基板上形成所述第一顏色色阻塊、所述第二顏色色阻塊和所述第三顏色色阻塊時，所述第一光罩對位圖案、所述第二光罩對位圖案和所述第三光罩對位圖案的邊長不小于10微米。

5.根據權利要求3所述的制備基板，其特征在于，當所述第一光罩對位圖案、所述第二光罩對位圖案或所述第三光罩對位圖案分別對準所述第一對位精度檢測圖案、所述第二對位精度檢測圖案或所述第三對位精度檢測圖案時，光罩對位圖案中的任意一邊與對位精度檢測圖案對應一側的邊框之間的距離不小于20微米。