[發明專利]離子束照射裝置有效
| 申請號: | 201810532390.5 | 申請日: | 2018-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN109427526B | 公開(公告)日: | 2020-07-31 |
| 發明(設計)人: | 土肥正二郎;小野田正敏;高橋元喜 | 申請(專利權)人: | 日新離子機器株式會社 |
| 主分類號: | H01J37/317 | 分類號: | H01J37/317;H01J37/16;H01J37/244 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290 | 代理人: | 周善來;李雪春 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 離子束 照射 裝置 | ||
1.一種離子束照射裝置,其特征在于,所述離子束照射裝置具有固定在離子束照射位置的束電流測量器,
所述束電流測量器包括:
測量部;以及
防護罩,配置在所述測量部的周圍,
所述防護罩包括:
前面防護罩,具有使離子束的一部分通向所述測量部的開口;
后面防護罩,配置在與所述前面防護罩相對的位置;以及
側面防護罩,配置在所述前面防護罩和所述后面防護罩以外的部位,
在離子束照射裝置的真空室壁面上具有能夠開閉的門,
所述門兼用作所述后面防護罩。
2.根據權利要求1所述的離子束照射裝置,其特征在于,
所述束電流測量器為大致長方體形狀,
在所述后面防護罩或所述側面防護罩上,沿著所述束電流測量器的長邊方向設有永磁體。
3.根據權利要求2所述的離子束照射裝置,其特征在于,
在所述后面防護罩或所述側面防護罩上,沿著所述束電流測量器的短邊方向設有永磁體。
4.根據權利要求1所述的離子束照射裝置,其特征在于,
所述束電流測量器為大致長方體形狀,
在所述后面防護罩或所述側面防護罩上,沿著所述束電流測量器的長邊方向設有施加負或正的電壓的電極。
5.根據權利要求2所述的離子束照射裝置,其特征在于,
在所述后面防護罩或所述側面防護罩上,沿著所述束電流測量器的長邊方向設有施加負或正的電壓的電極。
6.根據權利要求3所述的離子束照射裝置,其特征在于,
在所述后面防護罩或所述側面防護罩上,沿著所述束電流測量器的長邊方向設有施加負或正的電壓的電極。
7.根據權利要求4所述的離子束照射裝置,其特征在于,
在所述后面防護罩或所述側面防護罩上,沿著所述束電流測量器的短邊方向設有施加負或正的電壓的電極。
8.根據權利要求5所述的離子束照射裝置,其特征在于,
在所述后面防護罩或所述側面防護罩上,沿著所述束電流測量器的短邊方向設有施加負或正的電壓的電極。
9.根據權利要求6所述的離子束照射裝置,其特征在于,
在所述后面防護罩或所述側面防護罩上,沿著所述束電流測量器的短邊方向設有施加負或正的電壓的電極。
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