[發明專利]離子束照射裝置

有效

• 申請號: 201810532390.5
• 申請日: 2018-05-29
• 公開（公告）號: CN109427526B
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發明（設計）人: 土肥正二郎;小野田正敏;高橋元喜
• 申請（專利權）人: 日新離子機器株式會社
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/16;H01J37/244
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 周善來;李雪春

本發明提供一種能夠使束電流測量器的維保操作簡單化的離子束照射裝置。該離子束照射裝置(1)具有固定在離子束照射位置的束電流測量器(P)，束電流測量器(P)包括測量部(C)和配置在測量部(C)周圍的防護罩(S)，防護罩(S)包括：前面防護罩(FS)，具有使離子束(3)的一部分通向測量部(C)的開口(H)；后面防護罩(BS)，配置在與前面防護罩(FS)相對的位置；側面防護罩(SS)，配置在除了前面防護罩(FS)和后面防護罩(BS)以外的部位，在離子束照射裝置(1)的真空室(8)的壁面上具有能夠開閉的門(D)，門(D)兼用作后面防護罩(BS)。

技術領域

本發明涉及具有束電流測量器的離子束照射裝置，所述束電流測量器用于離子束的束電流的測量。

背景技術

離子注入裝置和離子銑削裝置等離子束照射裝置具有束電流測量器，所述束電流測量器用于測量向基板照射的離子束的束電流。

例如，在專利文獻1記載的離子注入裝置中，在進行基板處理的處理室或到處理室的中途的離子束輸送路徑上，在離子束照射到的位置配置有法拉第杯。

通常，如專利文獻2所示的束電流測量器那樣，除了離子束通過的特定部位以外，用防護罩等覆蓋如專利文獻1記載的法拉第杯那樣的測量束電流的測量部的周圍。設置所述防護罩用于防止在束電流測量器周圍漂浮的測量所不需要的電子(下面稱為不需要的電子)流入測量部。

構成束電流測量器的部件由于經時變化而需要部件更換等維保。

例如，束電流測量器的測量部由于被照射離子束，所以伴隨時間的經過被離子束濺射而消耗。如果該消耗變大，則進行部件更換。

在進行更換時，進入離子束照射裝置內，在拆下束電流測量器的防護罩之后進行測量部的更換，或者如果束電流測量器是小型的且質量輕，則將束電流測量器搬到離子束照射裝置的外部之后拆下束電流測量器的防護罩并進行測量部的更換。

為了避免由于不需要的電子導致的離子束的誤測量，需要包圍測量部周圍的防護罩，但是測量部的更換操作時需要拆下防護罩的拆下操作，因此測量部的更換操作變得繁雜。

除了測量部的更換產生拆下防護罩造成的繁雜以外，對于防護罩內配置的其它部件的維保操作也同樣發生拆下防護罩造成的繁雜。

現有技術文獻

專利文獻1：日本專利公開公報特開2006－196351號

專利文獻2：日本專利公開公報特開2008－128660號

發明內容

本發明提供一種使束電流測量器的維保操作簡單化的離子束照射裝置。

本發明提供一種離子束照射裝置，其具有固定在離子束照射位置的束電流測量器，所述束電流測量器包括：測量部；以及防護罩，配置在所述測量部的周圍，所述防護罩包括：前面防護罩，具有使離子束的一部分通向所述測量部的開口；后面防護罩，配置在與所述前面防護罩相對的位置；以及側面防護罩，配置在所述前面防護罩和所述后面防護罩以外的部位，在離子束照射裝置的真空室壁面上具有能夠開閉的門，所述門兼用作所述后面防護罩。

通過將門兼用作后面防護罩，能夠將維保操作的一部分動作共用化，能夠使束電流測量器的維保操作簡單化。

在維保操作的動作共用化這一方面，也可以使所述束電流測量器固定在所述門上。

按照所述結構，能夠將進入裝置內的動作和取放束電流測量器的動作共用化。

由于離子束照射到束電流測量器，所以束電流測量器的防護罩溫度會上升。

覆蓋大致長方體形狀的束電流測量器的長邊方向的側面防護罩由于防護罩溫度的上升導致的熱變形量變大，與后面防護罩之間產生間隙。擔心電子通過該間隙流入測量部。