[發(fā)明專利]一種后準(zhǔn)直探測(cè)裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810529206.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-05-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108844972A | 公開(公告)日: | 2018-11-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 肖丹;王國(guó)寶;曾自強(qiáng);張立鋒;張向陽(yáng);李建偉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)原子能科學(xué)研究院 |
| 主分類號(hào): | G01N23/00 | 分類號(hào): | G01N23/00;G21C17/10 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 102413 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 準(zhǔn)直器 準(zhǔn)直 探測(cè)裝置 準(zhǔn)直孔 安裝調(diào)試 本征空間 機(jī)械加工 分辨率 射線源 探測(cè)器 錯(cuò)位 交錯(cuò) | ||
1.一種后準(zhǔn)直探測(cè)裝置,其特征在于:包括射線源(1)、探測(cè)器(5)和準(zhǔn)直器;所述準(zhǔn)直器包括第一準(zhǔn)直器(3)和第二準(zhǔn)直器(4);所述第一準(zhǔn)直器(3)和所述第二準(zhǔn)直器(4)的準(zhǔn)直孔交錯(cuò)以使有效準(zhǔn)直寬度小于所述第一準(zhǔn)直器(3)和所述第二準(zhǔn)直器(4)的準(zhǔn)直孔中的任一準(zhǔn)直寬度。
2.如權(quán)利要求1所述的后準(zhǔn)直探測(cè)裝置,其特征在于:所述第一準(zhǔn)直器(3)和第二準(zhǔn)直器(4)能夠相對(duì)移動(dòng)以改變所述有效準(zhǔn)直寬度。
3.如權(quán)利要求2所述的后準(zhǔn)直探測(cè)裝置,其特征在于:所述第一準(zhǔn)直器(3)與第一轉(zhuǎn)動(dòng)蝸輪(32)連接;所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)蝸輪(32)由位置相對(duì)固定的第一轉(zhuǎn)動(dòng)蝸桿(33)驅(qū)動(dòng);所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)蝸桿(33)端部設(shè)置有第一旋鈕(36);
所述第二準(zhǔn)直器(4)與第二轉(zhuǎn)動(dòng)蝸輪(42)連接;所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)蝸輪(42)由位置相對(duì)固定的第二轉(zhuǎn)動(dòng)蝸桿(43)驅(qū)動(dòng);所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)蝸桿(43)端部設(shè)置有第二旋鈕(46)。
4.如權(quán)利要求3所述的后準(zhǔn)直探測(cè)裝置,其特征在于:還包括聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu)第三驅(qū)動(dòng)齒(71)、設(shè)置在所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)蝸桿(33)上的第一驅(qū)動(dòng)齒(35)和設(shè)置在第二轉(zhuǎn)動(dòng)蝸桿(43)上的第二驅(qū)動(dòng)齒(45);所述第一驅(qū)動(dòng)齒(35)和所述第二驅(qū)動(dòng)齒(45)均能夠與所述第三驅(qū)動(dòng)齒(71)嚙合/脫離;所述第一驅(qū)動(dòng)齒(35)和所述第二驅(qū)動(dòng)齒(45)均與所述第三驅(qū)動(dòng)齒(71)嚙合時(shí),所述第三驅(qū)動(dòng)齒(71)能夠驅(qū)動(dòng)所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)蝸輪(32)和第二轉(zhuǎn)動(dòng)蝸輪(42)的運(yùn)動(dòng)方向相反。
5.如權(quán)利要求4所述的后準(zhǔn)直探測(cè)裝置,其特征在于:所述第三驅(qū)動(dòng)齒(71)能夠軸向運(yùn)動(dòng)以實(shí)現(xiàn)與第一驅(qū)動(dòng)齒(35)/第二驅(qū)動(dòng)齒(45)的嚙合/脫離。
6.如權(quán)利要求4所述的后準(zhǔn)直探測(cè)裝置,其特征在于:所述第三驅(qū)動(dòng)齒(71)的軸上還設(shè)置有第三旋鈕(72)。
7.如權(quán)利要求1-6任一所述的后準(zhǔn)直探測(cè)裝置,其特征在于:所述射線源(1)為橢圓形。
8.如權(quán)利要求1-6任一所述的后準(zhǔn)直探測(cè)裝置,其特征在于:所述第一準(zhǔn)直器(3)、第二準(zhǔn)直器(4)和探測(cè)器(5)的上下兩側(cè)布置有屏蔽連接體(6)。
9.如權(quán)利要求1-6任一所述的后準(zhǔn)直探測(cè)裝置,其特征在于:所述第一準(zhǔn)直器(3)的外環(huán)面和所述第二準(zhǔn)直器(4)的內(nèi)環(huán)面相切。
10.如權(quán)利要求1-6任一所述的后準(zhǔn)直探測(cè)裝置,其特征在于:所述探測(cè)器(5)貼合在第二準(zhǔn)直器準(zhǔn)直孔(41)的外側(cè),各個(gè)探測(cè)器(5)之間由鉛塊進(jìn)行隔離屏蔽。
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G01N23-02 .通過(guò)使輻射透過(guò)材料
G01N23-20 .利用輻射的衍射,例如,用于測(cè)試晶體結(jié)構(gòu);利用輻射的反射
G01N23-22 .通過(guò)測(cè)量二次發(fā)射
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