[發明專利]微光刻投射曝光設備

有效

• 申請號: 201810527742.8
• 申請日: 2009-09-17
• 公開（公告）號: CN108803249B
• 公開（公告）日: 2021-05-11
• 發明（設計）人: 薩沙.布萊迪斯特爾;關彥彬;弗洛里安.巴赫;丹尼爾.本茲;塞韋林.沃爾迪斯;阿明.沃伯
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B26/08;G02B7/182
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王蕊瑞

1.微光刻投射曝光設備，包括反射鏡陣列，該反射鏡陣列具有基體(12)和多個反射鏡單元(10，110)，其中每個反射鏡單元包括：

-反射鏡(14)；

-固態關節，該固態關節具有將所述反射鏡連接到所述基體的至少兩個關節部件，其中每個關節部件能夠在彎曲面中彎曲；以及

-控制裝置(22)，通過該控制裝置(22)可以改變各個所述反射鏡相對于所述基體的排列，

其特征在于：

所述至少兩個關節部件中的每一個被細分為多個關節元件(18，118)，該多個關節元件(18，118)在所述彎曲面中彼此分開，以減少該至少兩個關節部件的彎曲剛性，

其中所述兩個關節部件在所述彎曲面中彼此分開，并且至少該控制裝置(22)的部分在所述彎曲面中布置在所述至少兩個關節部件之間。

2.根據權利要求1所述的投射曝光設備，其特征在于所述關節元件(18，118)至少本質上相互平行地布置。

3.根據權利要求1或2所述的投射曝光設備，其特征在于所述關節元件(18，1l8)是桿形或板形的。

4.根據權利要求1或2所述的投射曝光設備，其特征在于兩個關節元件(18，118)在所述反射鏡(14)上接合并且相對。

5.根據權利要求1或2所述的投射曝光設備，其特征在于除了所述控制裝置和所述固態關節，彎曲熱傳導元件(234)也布置在所述反射鏡和所述基體之間。

6.用于開發微光刻投射曝光設備的方法，該微光刻投射曝光設備包括具有基體(12)和多個反射鏡單元(10，110)的反射鏡陣列，其中每個反射鏡單元包括：

-反射鏡(14)；

-固態關節，其具有將所述反射鏡連接到所述基體的至少一個關節部件；以及

-控制裝置，通過該控制裝置可以改變各個所述反射鏡相對于所述基體的排列，該方法特征在于具有以下步驟：

i)建立所述關節部件應該具有的彎曲剛度；

ii)建立所述關節部件應該具有的熱傳導率；

iii)建立所述關節部件應該具有的總的截面，以實現步驟ii)中建立的熱傳導率；

iv)建立形成所述關節部件的相互分隔的關節元件(18，118)的數量，從而整套關節元件具有步驟i)中建立的所述彎曲剛度和步驟iii)中建立的所述總的截面。