[發(fā)明專利]蒸鍍裝置及蒸鍍方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810524337.0
• 申請日: 2018-05-28
• 公開（公告）號: CN108728801B
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 匡友元
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26;C23C14/54;H01L51/56
• 代理公司: 深圳市德力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265
• 代理人: 林才桂;鞠驍

1.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括筒狀的加熱源(10)、容置在加熱源(10)內(nèi)的坩堝蓋(20)、第一坩堝(30)、第二坩堝(40)及移動部(50)以及支架(80)；

所述第一坩堝(30)、第二坩堝(40)及移動部(50)均設(shè)于坩堝蓋(20)的下方；所述第一坩堝(30)固定在所述支架(80)上；所述第一坩堝(30)及第二坩堝(40)均包括內(nèi)側(cè)壁、設(shè)于內(nèi)側(cè)壁外的外側(cè)壁及連接內(nèi)側(cè)壁與外側(cè)壁遠離坩堝蓋(20)一端的底面；所述坩堝蓋(20)安裝于第一坩堝(30)的外側(cè)壁上，所述坩堝蓋(20)中心設(shè)有開孔(21)，所述第一坩堝(30)的內(nèi)側(cè)壁靠近坩堝蓋(20)的一端與坩堝蓋(20)之間在豎直方向存在間隔；所述第一坩堝(30)的外側(cè)壁的高度大于或等于其內(nèi)側(cè)壁的高度；所述第二坩堝(40)固定于移動部(50)的頂面；所述第一坩堝(30)的內(nèi)側(cè)壁在豎直方向的投影位于所述第二坩堝(40)外側(cè)壁以外；

所述加熱源(10)包括筒狀的殼體(11)及套設(shè)于殼體(11)上的電熱絲(12)，所述殼體(11)具有與坩堝蓋(20)及第一坩堝(30)所在位置對應(yīng)的第一區(qū)域(111)以及位于第一區(qū)域(111)下方的第二區(qū)域(112)；電熱絲(12)在第一區(qū)域(111)的密度大于電熱絲(12)在第二區(qū)域(112)的密度；

還包括容置在加熱源(10)內(nèi)的第三坩堝(60)；

所述第三坩堝(60)設(shè)于坩堝蓋(20)的下方；所述第三坩堝(60)包括內(nèi)側(cè)壁、設(shè)于內(nèi)側(cè)壁外的外側(cè)壁及連接內(nèi)側(cè)壁與外側(cè)壁遠離坩堝蓋(20)一端的底面；所述第一坩堝(30)的內(nèi)側(cè)壁在豎直方向的投影位于所述第三坩堝(60)外側(cè)壁以外；所述第三坩堝(60)的內(nèi)側(cè)壁在豎直方向的投影位于所述第二坩堝(40)外側(cè)壁以外；所述第一坩堝(30)的內(nèi)側(cè)壁的內(nèi)表面底部設(shè)有第一限位部(31)，所述第三坩堝(60)外側(cè)壁的外表面頂部設(shè)有第二限位部(61)，所述第一限位部(31)在豎直方向的投影與所述第二限位部(61)在豎直方向的投影至少部分重疊，所述第一限位部(31)位于第二限位部(61)下方；所述第三坩堝(60)的內(nèi)側(cè)壁的內(nèi)表面底部設(shè)有彈性限位單元(62)，所述彈性限位單元(62)在豎直方向上的投影與所述第二坩堝(40)的外側(cè)壁在豎直方向上的投影至少部分重疊；當所述第三坩堝(60)靠近坩堝蓋(20)的一端與坩堝蓋(20)之間存在間隔且第二坩堝(40)外側(cè)壁位于彈性限位單元(62)下方時，向上移動移動部(50)，第二坩堝(40)的外側(cè)壁對第三坩堝(60)的彈性限位單元(62)進行推動使第三坩堝(60)上升；當所述第三坩堝(60)靠近坩堝蓋(20)的一端與坩堝蓋(20)接觸且第二坩堝(40)外側(cè)壁位于彈性限位單元(62)下方時，向上移動移動部(50)，第二坩堝(40)的外側(cè)壁壓縮彈性限位單元(62)而移動至第三坩堝(60)的內(nèi)側(cè)壁內(nèi)。

2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述第一坩堝(30)及第二坩堝(40)的內(nèi)側(cè)壁及外側(cè)壁均為圓筒狀；所述第二坩堝(40)的內(nèi)側(cè)壁及外側(cè)壁的軸線與所述第一坩堝(30)的內(nèi)側(cè)壁及外側(cè)壁的軸線均重合。

3.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述第一坩堝(30)、第二坩堝(40)及第三坩堝(60)的內(nèi)側(cè)壁及外側(cè)壁均為圓筒狀；所述第二坩堝(40)的內(nèi)側(cè)壁及外側(cè)壁的軸線、所述第一坩堝(30)的內(nèi)側(cè)壁及外側(cè)壁的軸線以及所述第三坩堝(60)的內(nèi)側(cè)壁及外側(cè)壁的軸線均重合。

4.如權(quán)利要求2或3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述坩堝蓋(20)的形狀為圓形。

5.如權(quán)利要求2或3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述殼體(11)為圓筒狀；所述殼體(11)的軸線與第一坩堝(30)內(nèi)側(cè)壁的軸線重合。

6.如權(quán)利要求5所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述開孔(21)對應(yīng)第一坩堝(30)內(nèi)側(cè)壁的軸線設(shè)置。