[發明專利]一種超硬防水防污耐磨鍍膜、鍍制工藝及其檢測方法

在審

• 申請號: 201810523964.2
• 申請日: 2018-05-28
• 公開（公告）號: CN108559950A
• 公開（公告）日: 2018-09-21
• 發明（設計）人: 李智超;畢文江;朱金波;郭富強;付勇
• 申請（專利權）人: 河南鍍邦光電股份有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/10;C23C14/35;G01N3/56
• 代理公司: 鄭州紅元帥專利代理事務所(普通合伙) 41117
• 代理人: 秦舜生

本發明公開了一種超硬防水防污耐磨鍍膜，包括基底層和依次設于所述基底層上方的膜層、防污層及空氣介質層，所述基底層厚度為0.05~0.8mm；所述膜層為硅氮化物和硅氧化物交替排列而成，厚度為300~650 nm；所述防污層厚度為10~20mm；所述空氣介質層是折射率NA=1的空氣介質，波長λc=550nm；所述膜層與所述防污層之間設有顏色膜層，所述顏色膜層為香檳金，或銀色，或亮藍色。與現有技術相比，本發明突出的效果是膜層本身不僅提供了絢麗的顏色，還具有很高的機械強度和耐腐蝕性，加入防污層后對鍍件的使用手感和耐久性有明顯提高。

技術領域

本發明涉及光學鍍膜技術領域，具體涉及一種超硬防水防污耐磨鍍膜、鍍制工藝及其檢測方法。

背景技術

最近，傳統的玻璃材質手機蓋板和指紋識別材料逐步由介電性能更好的陶瓷基材取代，然而由于陶瓷材料本身的表面性質相對復雜，采用傳統的電鍍或絲印等方式已不能滿足鍍件日益求精的外觀和耐使用性。本專利所涉及的真空鍍膜技術能夠在陶瓷基底上逐層沉積形成顯示特定顏色的超硬膜，所鍍膜層與跟基底表面牢固結合，改變膜層材質和物理厚度能夠實現膜層表面的特定色澤和觸感；顏色實現后在膜層上鍍防水防污膜料，以增強耐用性和使用舒適度。通過光學真空鍍膜技術實現一種適用于陶瓷基底上量產的耐磨擦、不褪色的防污顏色膜是該領域比較緊迫且實用的問題。

發明內容

為解決上述缺陷，本發明的目的是提供一種超硬防水防污耐磨鍍膜、鍍制工藝及其檢測方法，使手機指紋識別蓋板顏色為多種顏色，具有超硬耐磨擦、耐堿煮、防水、防污及耐汗液侵蝕等性能。

本發明的另一目的是提供一種超硬防水防污耐磨鍍膜的鍍制工藝。

本發明的第三個目的是提供一種超硬防水防污耐磨鍍膜的檢測方法。

為達到上述目的，本發明采用的技術方案是：一種超硬防水防污耐磨鍍膜，包括基底層和依次設于所述基底層上方的膜層、防污層及空氣介質層，所述基底層厚度為0.05~0.8mm；所述膜層為硅氮化物和硅氧化物交替排列而成，厚度為300~650 nm；所述防污層厚度為10~20mm；所述空氣介質層是折射率NA=1的空氣介質，波長λc=550nm；所述膜層與所述防污層之間設有顏色膜層，所述顏色膜層為香檳金，或銀色，或亮藍色。

進一步地，所述基底層采用陶瓷作為基材。

所述防污層采用氟聚合物來制備。

所述顏色膜層為香檳金時，所述膜層厚度為300-600nm。

所述顏色膜層為亮藍色時，所述膜層厚度為300-500nm。

所述顏色膜層為銀色時，所述膜層厚度為300-650nm。

一種超硬防水防污耐磨鍍膜的鍍制方法，其特征在于包括以下步驟：

1）選取陶瓷作為基底層，并對基底層進行擦拭和清洗干凈；

2）待鍍膜材料上盤裝機后，進行離子清掃，離子清掃時使用氬氣和氧氣，流量均為10~40sccm，處理時間為60~180秒；

3）清掃后的鍍膜材料在4-10KW功率下，選取真空度為

3.0~4.5x10^-3Pa的條件，選定工作氣體為氬氣，流量為200~400sccm，反應氣體為氧氣，氧氣流量為200~350sccm，在氬氣和氧氣的氛圍中形成硅原子和硅化合物分子，在磁場和電場的作用下電離出大量Ar+離子，通過Ar+離子對Si靶材表面的轟擊，使Si離子與O離子或N離子結合，在真空室內結合成SiO₂及Si₃N_x(x=3~5)；