[發(fā)明專利]一種超硬防水防污耐磨鍍膜、鍍制工藝及其檢測(cè)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810523964.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-05-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108559950A | 公開(公告)日: | 2018-09-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李智超;畢文江;朱金波;郭富強(qiáng);付勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 河南鍍邦光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/06 | 分類號(hào): | C23C14/06;C23C14/10;C23C14/35;G01N3/56 |
| 代理公司: | 鄭州紅元帥專利代理事務(wù)所(普通合伙) 41117 | 代理人: | 秦舜生 |
| 地址: | 473000 河*** | 國(guó)省代碼: | 河南;41 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 防污層 膜層 基底層 空氣介質(zhì)層 顏色膜層 耐磨 鍍膜 防污 防水 硅氮化物 硅氧化物 交替排列 空氣介質(zhì) 耐腐蝕性 亮藍(lán)色 折射率 波長(zhǎng) 手感 香檳 鍍件 鍍制 銀色 檢測(cè) | ||
1.一種超硬防水防污耐磨鍍膜,其特征在于:包括基底層和依次設(shè)于所述基底層上方的膜層、防污層及空氣介質(zhì)層,所述基底層厚度為0.05~0.8mm;所述膜層為硅氮化物和硅氧化物交替排列而成,厚度為300~650 nm;所述防污層厚度為10~20mm;所述空氣介質(zhì)層是折射率NA=1的空氣介質(zhì),波長(zhǎng)λc=550nm;所述膜層與所述防污層之間設(shè)有顏色膜層,所述顏色膜層為香檳金,或銀色,或亮藍(lán)色。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超硬防水防污耐磨鍍膜,其特征在于:所述基底層采用陶瓷作為基材。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超硬防水防污耐磨鍍膜,其特征在于:所述防污層采用氟聚合物來(lái)制備。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超硬防水防污耐磨鍍膜,其特征在于:所述顏色膜層為香檳金時(shí),所述膜層厚度為300-600nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超硬防水防污耐磨鍍膜,其特征在于:所述顏色膜層為亮藍(lán)色時(shí),所述膜層厚度為300-500nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超硬防水防污耐磨鍍膜,其特征在于:所述顏色膜層為銀色時(shí),所述膜層厚度為300-650nm。
7.一種超硬防水防污耐磨鍍膜的鍍制方法,其特征在于包括以下步驟:1)選取陶瓷作為基底層,并對(duì)基底層進(jìn)行擦拭和清洗干凈;2)待鍍膜材料上盤裝機(jī)后,進(jìn)行離子清掃,離子清掃時(shí)使用氬氣和氧氣,流量均為10~40sccm,處理時(shí)間為60~180秒;3)清掃后的鍍膜材料在4-10KW功率下,選取真空度為3.0~4.5x10-3Pa的條件,選定工作氣體為氬氣,流量為200~400sccm,反應(yīng)氣體為氧氣,氧氣流量為200~350sccm,在氬氣和氧氣的氛圍中形成硅原子和硅化合物分子,在磁場(chǎng)和電場(chǎng)的作用下電離出大量Ar+離子,通過(guò)Ar+離子對(duì)Si靶材表面的轟擊,使Si離子與O離子或N離子結(jié)合,在真空室內(nèi)結(jié)合成SiO2及Si3Nx(x=3~5);4)根據(jù)已設(shè)定的膜系公式和各層的厚度,通過(guò)濺射鍍膜機(jī)的編制,硅氧化物SiO2和硅氮化物Si3Nx(x=3~5)交替排列多層濺落在基底層表面,在基底層表面經(jīng)過(guò)有序沉積后形成目標(biāo)膜層,在目標(biāo)膜層上加鍍顏色膜層,之后通過(guò)電阻熱蒸鍍方式在顏色膜層表面沉積氟聚合物防污層,該防污層對(duì)顏色影響很小,能夠顯著改善鍍膜薄片的防水防指紋性能。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的超硬防水防污耐磨鍍膜的鍍制方法,其特征在于:濺射鍍膜機(jī)工作時(shí),將基底層掛于滾筒上,在滾筒旋轉(zhuǎn)時(shí)濺射成膜。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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