[發(fā)明專利]一種直拉硅單晶的溫度控制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810514747.7 | 申請日: | 2018-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN110528067B | 公開(公告)日: | 2021-10-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王正遠(yuǎn);李僑;周銳;徐戰(zhàn)軍 | 申請(專利權(quán))人: | 隆基綠能科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C30B15/20 | 分類號: | C30B15/20;C30B29/06 |
| 代理公司: | 西安弘理專利事務(wù)所 61214 | 代理人: | 鐘歡 |
| 地址: | 710100 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 直拉硅單晶 溫度 控制 方法 | ||
本發(fā)明公開一種直拉硅單晶的溫度控制方法,用于硅單晶等徑生長過程自動調(diào)節(jié)溫度,包括步驟:確定平均晶體生長速度V并輸出;設(shè)定目標(biāo)晶體生長速度VS,并計算平均晶體生長速度V和目標(biāo)晶體生長速度VS的偏差ΔV;依據(jù)ΔV,確定功率設(shè)定值Pr并輸出,進(jìn)而調(diào)節(jié)溫度。本發(fā)明的直拉硅單晶的溫度控制方法相比于現(xiàn)有的SP閉環(huán)控制方式具有以下優(yōu)點(diǎn):1、取消SP參與控制,消除了不穩(wěn)定因素,提高溫度控制系統(tǒng)的穩(wěn)定性,進(jìn)而更好地控制晶體直徑,提高成品率,降低生產(chǎn)成本;2、取消熱電偶,降低了設(shè)備成本;3、提高了直拉單晶爐的自動化程度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于單晶生長工藝技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種直拉硅單晶的溫度控制方法。
背景技術(shù)
隨著全球經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展,人類對能源的需求不斷增長,但煤、石油、天然氣等化石燃料,正逐漸被耗竭。而作為綠色能源的太陽能正越來越多的被人類所接受和應(yīng)用,日益受到世界各國的重視并得到大力發(fā)展。而硅單晶是制造光伏組件的初始原料。
直拉硅單晶是一種硅單晶的制造工藝,其制造過程是將多晶硅料放入石英坩堝中,加熱融化形成液態(tài)硅料,然后經(jīng)過調(diào)溫、引晶、放肩、轉(zhuǎn)肩、等徑、收尾六個步驟,最終生產(chǎn)出硅單晶棒。溫度控制在直拉硅單晶生長過程中有著舉足輕重的作用,長期以來技術(shù)研發(fā)人員一直致力于溫度控制的研究。
在等徑生長過程中,目前普遍采用的是SP(Set Point,設(shè)定目標(biāo)值)閉環(huán)控制,控制原理基本是利用平均晶體生長速度和目標(biāo)晶體生長速度差值作為控制輸入,通過PID計算,輸出設(shè)定SP值,再由設(shè)定SP值和實(shí)際測量的SP值比較,通過PID計算設(shè)定功率,達(dá)到溫度閉環(huán)控制的目的。在實(shí)際溫度控制過程中,需要人工通過熱電偶測量,計算出SP值,由于裝置測量準(zhǔn)確性及熱場環(huán)境的影響導(dǎo)致實(shí)際測量的SP值不準(zhǔn)確,無法準(zhǔn)確反應(yīng)爐內(nèi)溫度、進(jìn)而準(zhǔn)確控制功率。另外,由于溫度有嚴(yán)重的滯后性,及目前控制方式的滯后性,導(dǎo)致整個溫度控制系統(tǒng)嚴(yán)重滯后,溫度波動,繼而導(dǎo)致直徑控制不穩(wěn)定,影響產(chǎn)品良率。本發(fā)明提供一種等徑過程中的溫度控制方法,取消SP值的參與,提高溫度控制系統(tǒng)的穩(wěn)定性,進(jìn)而更好的控制晶體直徑。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種直拉硅單晶的溫度控制方法,取消了SP值的參與,能夠提高溫度控制系統(tǒng)的穩(wěn)定性,進(jìn)而更好地控制硅單晶的晶體直徑。
本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是:一種直拉硅單晶的溫度控制方法,用于硅單晶等徑生長過程自動調(diào)節(jié)溫度,包括步驟:確定平均晶體生長速度V并輸出;設(shè)定目標(biāo)晶體生長速度VS,并計算平均晶體生長速度V和目標(biāo)晶體生長速度VS的偏差ΔV;依據(jù)ΔV,確定功率設(shè)定值Pr并輸出,進(jìn)而調(diào)節(jié)溫度。
進(jìn)一步地,所述確定平均晶體生長速度V,包括步驟:設(shè)定目標(biāo)晶體生長直徑DS,測量實(shí)際晶體生長直徑D,計算實(shí)際晶體生長直徑D與目標(biāo)晶體生長直徑DS的偏差ΔD。
進(jìn)一步地,所述確定平均晶體生長速度V,還包括步驟:依據(jù)ΔD,采用PID算法,以等徑過程晶體拉速的調(diào)節(jié)周期t3為固定周期,計算晶體生長速度設(shè)定值Vd。
示例性地,所述t3不大于10s。
進(jìn)一步地,所述確定平均晶體生長速度V,還包括步驟:設(shè)定晶體生長速度初始值Vi,以平均晶體生長速度計算周期t1為固定周期,計算平均晶體生長速度V并輸出,所述平均晶體生長速度V計算公式為:
示例性地,所述t1的范圍為100-3000s。
進(jìn)一步地,所述確定功率設(shè)定值Pr,包括步驟:設(shè)定功率初始值Pi,計算所述功率設(shè)定值Pr,計算公式為:
Pr=Pi+ΔPower,
其中,ΔPower為功率調(diào)節(jié)量。
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