[發明專利]一種雙層復合SiO2 有效
| 申請號: | 201810513506.0 | 申請日: | 2018-05-25 |
| 公開(公告)號: | CN108623185B | 公開(公告)日: | 2021-11-23 |
| 發明(設計)人: | 陶朝友;鄒鑫書 | 申請(專利權)人: | 中國工程物理研究院激光聚變研究中心 |
| 主分類號: | C03C17/23 | 分類號: | C03C17/23 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 李倩 |
| 地址: | 621999 四川省綿*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 雙層 復合 sio base sub | ||
本發明公開了一種雙層復合SiO2減反射膜的制備方法,將硅源加入至無水乙醇、鹽酸和水的混合液中,于室溫下攪拌均勻后靜置數天,得到酸催化的SiO2溶膠A;將硅源加入至無水乙醇、氨水和水的混合液中,于室溫下攪拌均勻后靜置數天,得到堿催化的SiO2溶膠B;將SiO2溶膠A和步驟2制得的SiO2溶膠B分別除酸和除氨,得到SiO2溶膠A1和SiO2溶膠B1;將SiO2溶膠A1和SiO2溶膠B按照質量比1∶4進行混合,將SiO2溶膠A和SiO2溶膠B1按照質量比2∶3進行混合,攪拌均勻后靜置數天,分別得到復合溶膠S?20%和S?40%;在相對濕度環境<50%的環境下,將經過預處理的基底浸入復合溶膠S?40%中進行鍍膜,將鍍膜的基底靜置數分鐘,再將基底浸入復合溶膠S?20%中進行鍍膜;最后將鍍有雙層膜的基底置于HMDS氣氛中處理即可。
技術領域
本發明涉及一種雙層復合SiO2減反射膜的制備方法,屬于光學薄膜技術領域。
背景技術
增透膜是現代光學應用最廣泛的一種薄膜,其利用薄膜的干涉對光學表面的反射光和雜散光進行減弱或消除以增加薄膜的透過率。使用溶膠凝膠法制備增透膜具有操作簡單、成本低、適用于不規則表面和大規模工業化生產等優點。堿性催化劑制備的SiO2增透膜,具有折射率低,透過率高的優點,但是機械性能較差,無法滿足實際運用的要求;酸性催化劑制備的SiO2增透膜,其機械性能和耐磨性能優異,然而增透效果較差。
在太陽能電池主件中的玻璃蓋板上鍍制增透膜,減少對入射光的反射損失,提高實際轉換效率。太陽輻射的波長范圍很廣,但是絕大部分能量集中在可見光到近紅外區,但是由于硅在紅外波段透過率很高,利用很少,因此對太陽能電池的增透重點放在400-800nm范圍。目前使用的減反射膜基本上暴露在大氣環境中,需要承受住日曬雨淋、高濕熱等惡劣環境的考驗。因此一種在400-800nm 范圍內透過率高,同時耐候性良好的SiO2減反射膜的開發很有必要。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種雙層復合SiO2減反射膜的制備方法,該制備方法制得的 SiO2減反射膜在可見光范圍內透過率高同時耐候性良好。
為解決上述技術問題,本發明所采用的技術方案如下:
一種雙層復合SiO2減反射膜的制備方法,包含如下步驟:
步驟1,按一定摩爾比將硅源加入至無水乙醇、鹽酸和水的混合液中,于室溫下攪拌均勻后靜置數天,得到酸催化的SiO2溶膠A;其中,所述SiO2溶膠A的質量百分濃度為3%;
步驟2,按一定摩爾比將硅源加入至無水乙醇、氨水和水的混合液中,于室溫下攪拌均勻后靜置數天,得到堿催化的SiO2溶膠B;其中,所述SiO2溶膠B的質量百分濃度為3%;
步驟3,取所需量步驟1制得的SiO2溶膠A除酸處理,得到SiO2溶膠A1;取所需量步驟2制得的SiO2溶膠B除氨處理,得到SiO2溶膠B1;
步驟4,將SiO2溶膠A1和SiO2溶膠B按照質量比1∶4進行混合,將SiO2溶膠A和SiO2溶膠B1按照質量比2∶3進行混合,攪拌均勻后靜置數天,分別得到復合溶膠S-20%和復合溶膠S-40%;
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