[發明專利]真空排氣裝置、真空泵及真空閥

有效

• 申請號: 201810509862.5
• 申請日: 2018-05-24
• 公開（公告）號: CN108930656B
• 公開（公告）日: 2021-01-01
• 發明（設計）人: 武田直也
• 申請（專利權）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: F04D19/04
• 分類號: F04D19/04;F04D27/00;F04D29/00
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

本發明提供一種真空排氣裝置、真空泵及真空閥，真空排氣裝置可抑制大型化且可實現實效排氣速度的提高。真空閥(2)將排氣口凸緣(202的開口徑設定為大于吸氣口凸緣(201)的開口徑，并且具有包含排氣口凸緣(202)的開口且流路剖面積發生變化的氣體流路區域(FR)，氣體流路區域(FR)將上游側區域端的流路剖面積設定為吸氣口凸緣(201)的開口剖面積，且越臨近排氣口凸緣(202)的開口，流路剖面積越增加。

技術領域

本發明涉及一種真空排氣裝置、真空泵及真空閥。

背景技術

于在真空設備的真空腔室裝設渦輪分子泵等真空泵的情況下，通常多數情況下在真空泵的正上方連接真空閥而使用(例如，參照專利文獻1)。關于真空閥的連接凸緣，通常連接于真空腔室的吸氣側與連接于真空泵的排氣側均使用相同口徑的凸緣。

且說，在將真空閥連接于真空泵的吸氣口凸緣的構成的真空排氣裝置中，實效排氣速度由真空泵的排氣速度與真空閥的流導(conductance)決定。關于所述情況下的實效排氣速度，在閥開度小的區域中，真空閥的流導的貢獻為主導，在閥開度大的區域中，真空泵的排氣速度的貢獻為主導。因此，為了進一步增大閥開度大的區域中的實效排氣速度，即便為相同口徑也優選搭載排氣速度更大的真空泵。

專利文獻1中記載的基板處理裝置中，連接于自動壓力控制(Automatic PressureControl，APC)閥的排氣側的真空泵使用外筒的直徑在吸氣口凸緣附近縮小的構成的渦輪分子泵。通常，關于外筒的直徑在吸氣口凸緣附近縮小的構成的渦輪分子泵，旋轉葉片外徑被設定為大于外筒的直徑并不縮小的渦輪分子泵的情況，排氣速度相應地大。即，通過使用外筒的直徑在吸氣口凸緣附近縮小的渦輪分子泵，可實現真空排氣裝置的實效排氣速度的提高。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2008-98514號公報

發明內容

[發明所要解決的問題]

但是，外筒的直徑縮小的構成的渦輪分子泵與為相同口徑且外筒的直徑并不縮小的渦輪分子泵相比，泵軸向尺寸大。因此，存在真空排氣裝置大型化的問題。

[解決問題的技術手段]

利用本發明的優選形態的真空閥包括：閥吸氣口凸緣，設置于閥體；閥排氣口凸緣，設置于所述閥體且與所述閥吸氣口凸緣相比開口徑大；閥板，設置于所述閥體內且與所述閥吸氣口凸緣的開口徑對應；閥驅動部，使所述閥板在配置于所述閥吸氣口凸緣的中心軸上的關閉位置與自所述中心軸上退避的打開位置之間滑動驅動；以及氣體流路區域，包含所述閥排氣口凸緣的開口且流路剖面積發生變化，并且所述氣體流路區域將上游側區域端的流路剖面積設定為所述閥吸氣口凸緣的開口剖面積，且越臨近所述閥排氣口凸緣的開口，流路剖面積越增加。

進而優選的形態中，所述閥吸氣口凸緣的開口與所述閥排氣口凸緣的開口形成于同一軸。

進而優選的形態中，所述閥體具有設置有所述閥吸氣口凸緣及所述閥排氣口凸緣的第1主體部、以及設置有所述打開位置的所述閥板的退避區域的第2主體部，并且所述第1主體部中，位于與所述第2主體部相反的一側的側壁將所述閥吸氣口凸緣的中心軸至所述側壁的距離設定為所述閥吸氣口凸緣的凸緣外徑的1/2以上且所述閥排氣口凸緣的凸緣外徑的1/2以下的范圍內的規定值。

利用本發明的優選形態的真空排氣裝置包括：所述形態的真空閥、以及將泵吸氣口凸緣螺栓固定于所述閥排氣口凸緣的真空泵。

進而優選的形態中，將所述泵吸氣口凸緣螺栓固定于所述閥排氣口凸緣的多個螺栓偏在配置于所述泵吸氣口凸緣的整周內的規定角度區域中，所述泵吸氣口凸緣及所述閥排氣口凸緣將凸緣中心軸至凸緣外徑側端部的距離在所述規定角度區域以外的角度區域中設定為小于所述規定角度區域。