[發明專利]一種多晶硅片清洗專用架在審
| 申請號: | 201810506124.5 | 申請日: | 2018-05-24 |
| 公開(公告)號: | CN108421765A | 公開(公告)日: | 2018-08-21 |
| 發明(設計)人: | 汪偉華 | 申請(專利權)人: | 浙江羿陽太陽能科技有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/06 | 分類號: | B08B3/06;B08B3/08;H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司: | 杭州賽科專利代理事務所(普通合伙) 33230 | 代理人: | 陳俊波 |
| 地址: | 313299 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 多晶硅片 半筒 清洗 立柱 活動半 清洗筒 清洗液 專用架 滑軌 空間利用率 充分接觸 分隔作用 活動連接 金屬波紋 立式結構 立體旋轉 底面 翻邊 外翻 沖刷 穿過 保證 | ||
本發明公開了一種多晶硅片清洗專用架,包括清洗筒總體、固定半筒和活動半筒,所述清洗筒總體由固定半筒和活動半筒組成,所述固定半筒的底面固設有第二立柱和第一立柱,所述第二立柱與第一立柱之間通過滑軌固定連接,所述活動半筒的底部穿過滑軌與固定半筒活動連接,所述固定半筒的頂端設有向外翻折的翻邊。本發明采用立式結構,占地面積小,空間利用率高,可實現立體旋轉,使得清洗筒與清洗液產生相對運動,利用清洗液的沖刷作用提高多晶硅片的清洗速度和清洗質量;上下相鄰兩個多晶硅片之間通過金屬波紋網間隔,既對多晶硅片起到分隔作用,同時保證清洗液與多晶硅片兩面的充分接觸,無清洗四角。
技術領域
本發明涉及多晶硅片清洗設備技術領域,具體為一種多晶硅片清洗專用架。
背景技術
多晶硅,是單質硅的一種形態。熔融的單質硅在過冷條件下凝固時,硅原子以金剛石晶格形態排列成許多晶核,如這些晶核長成晶面取向不同的晶粒,則這些晶粒結合起來,就結晶成多晶硅。
隨著大規模集成電路的發展,集成度的不斷提高,線寬的不斷減小,對硅片的質量要求也越來越高,特別是對硅片的表面質量要求越來越嚴。硅材料清洗過程中如果不能有效將混在硅料中的金屬物、碳或其它雜質全部處理干凈,多晶鑄錠過程中使用了這些硅料,將會出現嚴重后果。硅料的物理性質將發生嚴重的破壞性,硅料參數嚴重不符合后續產品的需求,特別是“少子壽命”嚴重偏低。
目前多晶硅清洗時為方便拿取多晶硅片一般采用水平方向延伸的托架,存在占地空間大,空間利用率低,無法旋轉,只能靜態清洗多晶硅片,存在清洗死角,進而導致硅片廢品率高的問題,
發明內容
本發明的目的在于提供一種多晶硅片清洗專用架,解決了現有多晶硅片占地空間大,空間利用率低,無法旋轉,只能靜態清洗多晶硅片,存在清洗死角,進而導致硅片廢品率高的問題。
為實現以上目的,本發明通過以下技術方案予以實現:一種多晶硅片清洗專用架,包括清洗筒總體、固定半筒和活動半筒,所述清洗筒總體由固定半筒和活動半筒組成,所述固定半筒的底面固設有第二立柱和第一立柱,所述第二立柱與第一立柱之間通過滑軌固定連接,所述活動半筒的底部穿過滑軌與固定半筒活動連接,所述固定半筒的頂端設有向外翻折的翻邊,且固定半筒的兩側分別設有第一外折邊和第二外折邊,所述活動半筒的兩側分別設有第一內折邊和第二內折邊,所述第二內折邊與第二外折邊的內翻折面銜接,所述第一內折邊與第一外折邊的外翻折面銜接,所述固定半筒的內壁上安裝有兩個安裝片,兩個所述安裝片分別安裝在固定半筒內壁的頂部和底部,且兩個所述安裝片之間安裝有導軌,所述導軌上套設有若干個金屬波紋網,所述金屬波紋網的上方放置有多晶硅片,所述固定半筒底部的圓心處安裝有軸承。
優選的,所述固定半筒和活動半筒均采用304不銹鋼材質制成,且固定半筒和活動半筒的筒體部分均布有網孔。
優選的,所述導軌沿著固定半筒的圓周延伸,所述導軌的總長度小于等于固定半筒圓周長度的四分之三。
優選的,所述翻邊上安裝有吊環,所述吊環共設有兩個。
優選的,所述第二內折邊和第一內折邊分別與第二外折邊和第一外折邊均通過螺栓固定在一起,所述螺栓的數量大于等于2。
優選的,所述導軌上設有若干個緩沖彈簧,所述緩沖彈簧設置在上下相鄰兩個金屬波紋網之間。
與現有技術相比,本發明的有益效果是:本發明
(1)整體采用立式結構,占地面積小,空間利用率高,整體為圓筒體結構,底部設有與轉軸接軌的軸承機構,可實現立體旋轉,使得清洗筒與清洗液產生相對運動,利用清洗液的沖刷作用提高多晶硅片的清洗速度和清洗質量。
(2)上下相鄰兩個多晶硅片之間通過金屬波紋網間隔,金屬波紋網為波紋網格型結構,既對多晶硅片起到分隔作用,同時保證清洗液與多晶硅片兩面的充分接觸,無清洗四角,降低多晶硅片的廢品率。
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