[發明專利]一種冗余圖形添加方法在審
| 申請號: | 201810504050.1 | 申請日: | 2018-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN108763723A | 公開(公告)日: | 2018-11-06 |
| 發明(設計)人: | 姜立維;魏芳;張旭升 | 申請(專利權)人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號: | G06F17/50 | 分類號: | G06F17/50 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 冗余圖形 切割 產品良率 放大處理 密度梯度 原始圖形 預定義 偏移 填充 | ||
1.一種冗余圖形添加方法,其特征在于,所述冗余圖形添加方法,包括:
執行步驟S1:預定義冗余圖形大小、間距,以及偏移;
執行步驟S2:計算填充區域;
執行步驟S3:冗余圖形添加;
執行步驟S4:將添加冗余圖形后的版圖按照預設窗口m×n大小進行切割;
執行步驟S5:計算各切割窗口內冗余圖形密度;
執行步驟S6:計算各切割窗口內冗余圖形和原始圖形的圖形密度和與密度目標值之間的差值;
執行步驟S7:以所述各切割窗口內冗余圖形和原始圖形的圖形密度和與密度目標值之間的差值為冗余圖形補償值,計算各切割窗口冗余圖形密度改變量,進而獲得冗余圖形的縮小或放大之改變比率;
執行步驟S8:對各切割窗口內添加的冗余圖形按照所述冗余圖形之改變比率進行縮小或者放大處理。
2.如權利要求1所述冗余圖形添加方法,其特征在于,所述預定義之冗余圖形的大小、間隔以圖形密度目標值為基準進行預定義,且其值均介于設計規則中規定的最大值和最小值之間。
3.如權利要求1所述冗余圖形添加方法,其特征在于,所述m×n大小之預設窗口為冗余圖形處理的基本單元窗口,0<m<W,0<n<H,W為版圖寬度,H為版圖高度。
4.如權利要求1所述冗余圖形添加方法,其特征在于,當切割窗口內的冗余圖形和原始圖形之圖形密度和大于密度目標值時,對各切割窗口內的預添加冗余圖形按照改變比率進行縮小處理。
5.如權利要求1所述冗余圖形添加方法,其特征在于,當切割窗口內的冗余圖形和原始圖形之圖形密度和小于密度目標值時,對各切割窗口內的預添加冗余圖形按照改變比率進行放大處理。
6.如權利要求1所述冗余圖形添加方法,其特征在于,當切割窗口內的冗余圖形和原始圖形之圖形密度和等于密度目標值時,對各切割窗口內的預添加冗余圖形不作處理,保持各切割窗口內的預添加冗余圖形不變。
7.如權利要求1所述冗余圖形添加方法,其特征在于,當冗余圖形的補償值超出設計規則中規定的最大允許范圍時,則冗余圖形的放大或縮小比率依據設計規則中規定的最大允許范圍計算得出。
8.如權利要求1所述冗余圖形添加方法,其特征在于,當冗余圖形的補償值小于或等于設計規則中規定的最大允許范圍時,則冗余圖形的放大或縮小比率依據補償值計算得出。
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