[發(fā)明專(zhuān)利]掩模裝置及其操作方法、蒸鍍裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810503894.4
• 申請(qǐng)日: 2018-05-23
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108546915B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 申少雄
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/04
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/04;H01L51/50;H01L51/56
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 彭久云

一種掩模裝置及其操作方法、蒸鍍裝置，該掩模裝置包括掩模板和至少一個(gè)可轉(zhuǎn)動(dòng)塊。掩模板在第一方向上具有彼此相對(duì)的第一側(cè)邊和第二側(cè)邊,可轉(zhuǎn)動(dòng)塊設(shè)置在掩模板的第一側(cè)邊和第二側(cè)邊的至少一個(gè)側(cè)邊且能夠與掩模板的板面相接觸。可轉(zhuǎn)動(dòng)塊可在垂直于掩模板板面的平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)并與掩模板的板面產(chǎn)生摩擦，從而使得掩模板的邊緣部分受到遠(yuǎn)離掩模板中心方向的摩擦力。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明的實(shí)施例涉及一種掩模裝置及其操作方法、蒸鍍裝置。

背景技術(shù)

有機(jī)發(fā)光顯示裝置具有自發(fā)光、反應(yīng)快、視角廣、亮度高、色彩艷、輕薄等優(yōu)點(diǎn)，因此成為一種重要的顯示技術(shù)。有機(jī)發(fā)光顯示裝置可以采用噴墨打印、蒸鍍等方法進(jìn)行制備。蒸鍍方法具有操作簡(jiǎn)單、膜厚容易控制以及易于實(shí)現(xiàn)摻雜等優(yōu)點(diǎn)。在使用薄膜蒸鍍制備有機(jī)發(fā)光顯示裝置的過(guò)程中，為了在像素區(qū)域等特定位置蒸鍍特定的材料，通常需要使用蒸鍍掩模板。蒸鍍掩模板上通常包括多個(gè)掩模開(kāi)口，在蒸鍍時(shí)以蒸鍍掩模板的多個(gè)掩模開(kāi)口為掩模，可在蒸鍍基板上形成具有相應(yīng)圖案的薄膜。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明至少一個(gè)實(shí)施例提供一種掩模裝置，該掩模裝置包括掩模板和至少一個(gè)可轉(zhuǎn)動(dòng)塊。掩模板在第一方向上具有彼此相對(duì)的第一側(cè)邊和第二側(cè)邊；可轉(zhuǎn)動(dòng)塊設(shè)置在所述掩模板的所述第一側(cè)邊和所述第二側(cè)邊的至少一個(gè)側(cè)邊且能夠與所述掩模板的板面相接觸；其中，所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊可在垂直于所述掩模板板面的平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)并與所述掩模板的板面產(chǎn)生摩擦，從而使得所述掩模板的邊緣部分受到遠(yuǎn)離所述掩模板中心方向的摩擦力。

例如，本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置還包括磁吸附裝置，其中，所述磁吸附裝置配置為對(duì)所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊施加磁力；所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊在所述磁力的作用下可在垂直于所述掩模板板面的平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置中，所述磁吸附裝置與所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊位于所述掩模板的不同側(cè)。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置中，所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊的材料包括因瓦合金、鎳鐵合金。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置中，所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊與所述掩模板板面相接觸的一面為粗糙表面。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置中，所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊與所述掩模板板面相接觸的一面的材料的摩擦系數(shù)大于所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊未與所述掩模板板面相接觸的表面的材料的摩擦系數(shù)。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置中，所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊與所述掩模板板面相接觸的一面的形狀為弧形面，且所述弧形面為非對(duì)稱(chēng)弧形面。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置中，所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊的弧形面朝向所述掩模板的一側(cè)凸出。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置中，所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊還包括轉(zhuǎn)軸，所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊可圍繞所述轉(zhuǎn)軸的軸線在垂直于所述掩模板板面的平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)并與所述掩模板的板面產(chǎn)生摩擦。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置中，所述轉(zhuǎn)軸設(shè)置在所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊的內(nèi)部，且與所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊同步旋轉(zhuǎn)。

例如，本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置還包括第一機(jī)械驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其中，所述第一機(jī)械驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括凸輪機(jī)構(gòu)，所述凸輪機(jī)構(gòu)配置為可驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，從而使得所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊可在垂直于所述掩模板板面的平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)。

例如，本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置還包括限位擋片，其中，所述限位擋片配置為限定所述轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)角度。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置中，所述轉(zhuǎn)軸設(shè)置在所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊的通孔中，且所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊可圍繞所述轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。

例如，本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置還包括第二機(jī)械驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，其中，所述第二機(jī)械驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)配置為可驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)軸在垂直于所述掩模板的方向上移動(dòng)，以使所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊與所述掩模板的板面相接觸。

例如，在本發(fā)明一實(shí)施例提供的掩模裝置中，所述掩模板與所述可轉(zhuǎn)動(dòng)塊相接觸的側(cè)邊區(qū)域?yàn)榇植诒砻妗?/p>