[發明專利]掩模裝置及其操作方法、蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201810503894.4
• 申請日: 2018-05-23
• 公開（公告）號: CN108546915B
• 公開（公告）日: 2020-04-10
• 發明（設計）人: 申少雄
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;H01L51/50;H01L51/56
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

1.一種掩模裝置，包括：

掩模板，具有在第一方向上彼此相對的第一側邊和第二側邊；

至少一個可轉動塊，能夠與在所述掩模板的所述第一側邊和所述第二側邊的至少一個側邊的掩模板的板面相接觸；其中，

所述可轉動塊可在垂直于所述掩模板板面的平面內旋轉并與所述掩模板的板面產生摩擦，從而使得所述掩模板的邊緣部分受到遠離所述掩模板中心方向的摩擦力。

2.如權利要求1所述的掩模裝置，還包括磁吸附裝置，其中，

所述磁吸附裝置配置為對所述可轉動塊施加磁力；

所述可轉動塊在所述磁力的作用下可在垂直于所述掩模板板面的平面內旋轉。

3.如權利要求2所述的掩模裝置，其中，所述磁吸附裝置位于所述掩模板背離所述可轉動塊的一側。

4.如權利要求2所述的掩模裝置，其中，所述可轉動塊的材料包括因瓦合金、鎳鐵合金。

5.如權利要求1所述的掩模裝置，其中，所述可轉動塊與所述掩模板板面相接觸的一面為粗糙表面。

6.如權利要求5所述的掩模裝置，其中，所述可轉動塊與所述掩模板板面相接觸的一面的材料的摩擦系數大于所述可轉動塊未與所述掩模板板面相接觸的表面的材料的摩擦系數。

7.如權利要求1所述的掩模裝置，其中，所述可轉動塊與所述掩模板板面相接觸的一面的形狀為弧形面，且所述弧形面為非對稱弧形面。

8.如權利要求7所述的掩模裝置，其中，所述可轉動塊的弧形面朝向所述掩模板的一側凸出。

9.如權利要求1所述的掩模裝置，其中，所述可轉動塊還包括轉軸，所述可轉動塊可圍繞所述轉軸的軸線在垂直于所述掩模板板面的平面內旋轉并與所述掩模板的板面產生摩擦。

10.如權利要求9所述的掩模裝置，其中，所述轉軸設置在所述可轉動塊的內部，且與所述可轉動塊同步旋轉。

11.如權利要求10所述的掩模裝置，還包括第一機械驅動機構，其中，所述第一機械驅動機構包括凸輪機構，所述凸輪機構配置為可驅動所述轉軸旋轉，從而使得所述可轉動塊可在垂直于所述掩模板板面的平面內旋轉。

12.如權利要求10所述的掩模裝置，還包括限位擋片，其中，所述限位擋片配置為限定所述轉軸的旋轉角度。

13.如權利要求9所述的掩模裝置，其中，所述轉軸設置在所述可轉動塊的通孔中，且所述可轉動塊可圍繞所述轉軸旋轉。

14.如權利要求13所述的掩模裝置，還包括第二機械驅動機構，其中，所述第二機械驅動機構配置為可驅動所述轉軸在垂直于所述掩模板的方向上移動，以使所述可轉動塊能夠與所述掩模板的板面相接觸。

15.如權利要求1所述的掩模裝置，其中，所述掩模板與所述可轉動塊相接觸的側邊區域為粗糙表面。

16.如權利要求1所述的掩模裝置，其中，所述掩模板還具有在第二方向上彼此相對的第三側邊和第四側邊，且所述可轉動塊設置在所述掩模板的所述第一側邊、所述第二側邊、所述第三側邊、所述第四側邊中的至少兩個側邊上。

17.如權利要求1所述的掩模裝置，還包括多條遮擋條，其中，所述可轉動塊為所述多條遮擋條中靠近所述掩模板邊緣一側的遮擋條。

18.一種如權利要求1-17任一所述的掩模裝置的操作方法，包括：

控制所述可轉動塊的旋轉以張緊所述掩模板。

19.一種蒸鍍裝置，包括如權利要求1-17任一所述的掩模裝置。