[發明專利]一種化學氣相淀積機臺及處理機臺報警的方法有效
| 申請號: | 201810503740.5 | 申請日: | 2018-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN108754458B | 公開(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發明(設計)人: | 謝素蘭 | 申請(專利權)人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/52 | 分類號: | C23C16/52;C23C16/458;H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 智云 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 化學 氣相淀積 機臺 處理 報警 方法 | ||
1.一種化學氣相淀積機臺,其特征在于,包括基座和傳送裝置,所述傳送裝置用于帶動一晶圓朝靠近或遠離所述基座的方向運動,以使所述晶圓靠近所述基座并在所述基座上進行成膜反應,或使所述晶圓遠離所述基座;
正常工作時,所述傳送裝置用于帶動所述晶圓朝靠近所述基座的方向運動;
當機臺發生異常報警時,程式停止,所述傳送裝置帶動所述晶圓朝遠離所述基座的方向運動。
2.根據權利要求1所述的一種化學氣相淀積機臺,其特征在于,所述傳送裝置包括支架和承載部件,所述承載部件與所述支架的一端連接,所述承載部件用于承載所述晶圓,所述支架能夠沿其延伸方向直線運動以帶動所述承載部件朝靠近或遠離所述基座的方向運動。
3.根據權利要求1或2所述的一種化學氣相淀積機臺,其特征在于,所述基座數量為多個,所述傳送裝置還用于帶動所述晶圓運動,以使所述晶圓從其中一個基座上方運動至另一個基座上方。
4.根據權利要求3所述的一種化學氣相淀積機臺,其特征在于,所述傳送裝置包括支架和承載部件,所述承載部件與所述支架的一端連接,所述承載部件用于承載所述晶圓,所述支架能夠沿其延伸方向直線運動以帶動所述承載部件朝靠近或遠離所述基座的方向運動,并且所述支架能夠自轉以帶動所述承載部件所述承載部件從其中一個基座上方運動至另一個基座上方。
5.根據權利要求4所述的一種化學氣相淀積機臺,其特征在于,所述承載部件的數量為多個,每個所述承載部件均與所述支架的一端連接,所述支架自轉時帶動所述多個承載部件同步轉動。
6.根據權利要求5所述的一種化學氣相淀積機臺,其特征在于,所述承載部件的數量為4個,所述基座的數量為4個,4個所述承載部件關于所述支架對稱分布,且4個所述基座關于所述支架對稱分布。
7.根據權利要求2的一種化學氣相淀積機臺,其特征在于,所述承載裝置為托盤。
8.一種處理化學氣相淀積機臺報警的方法,其特征在于,所述化學氣相淀積機臺為如權利要求1-7任一項所述的化學氣相淀積機臺,所述處理方法包括以下步驟:
S1:所述化學氣相淀積機臺觸發報警,所述化學氣相淀積機臺暫停工作;
S2:所述傳送裝置將晶圓抬起,使晶圓和基座保持分離;
S3:解除報警,所述傳送裝置將晶圓傳回基座上,化學氣相淀積機臺恢復工作。
9.根據權利要求8所述的一種處理化學氣相淀積機臺報警的方法,其特征在于,所述傳送裝置包括支架和承載部件,所述承載部件與所述支架的一端連接,所述承載部件用于承載所述晶圓,所述支架能夠沿其延伸方向直線運動以帶動所述承載部件朝靠近或遠離所述基座的方向運動;
所述S2具體包括:所述支架沿其延伸方向直線運動以帶動所述承載部件朝遠離所述基座的方向運動,使所述晶圓和所述基座保持分離;
所述S3具體包括:解除報警,所述支架沿其延伸方向直線運動以帶動所述承載部件朝靠近所述基座的方向運動,將所述晶圓傳回至所述基座上,所述化學氣相淀積機臺恢復工作。
10.根據權利要求8所述的一種處理化學氣相淀積機臺報警的方法,其特征在于,所述基座的數量為多個,所述傳送裝置包括支架和多個承載部件,每個所述承載部件均與所述支架的一端連接,多個所述承載部件用于分別承載一個所述晶圓,所述支架能夠沿其延伸方向直線運動以帶動多個所述承載部件朝靠近或遠離所述基座的方向同步運動,并且所述支架能夠自轉以帶動多個所述承載部件同步轉動;
所述S2具體包括:所述支架沿其延伸方向直線運動以帶動多個所述承載部件朝遠離所述基座的方向同步運動,使多個所述晶圓和對應的所述基座保持分離;
所述S3具體包括:解除報警,所述支架沿其延伸方向直線運動以帶動多個所述承載部件朝靠近所述基座的方向同步運動,將所述晶圓傳回至對應的所述基座上,所述化學氣相淀積機臺恢復工作。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





