[發(fā)明專(zhuān)利]聚電解質(zhì)雜化中空二氧化硅納米顆粒及其制備方法與應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810503456.8 | 申請(qǐng)日: | 2018-05-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108434122B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-09-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱錦濤;劉倩倩;周雅捷;陶娟;張連斌;李鈺策;殷小燕 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 華中科技大學(xué);華中科技大學(xué)同濟(jì)醫(yī)學(xué)院附屬協(xié)和醫(yī)院 |
| 主分類(lèi)號(hào): | A61K9/51 | 分類(lèi)號(hào): | A61K9/51;A61K47/34;A61K47/04;A61K39/39;A61P35/00;A61P31/12 |
| 代理公司: | 華中科技大學(xué)專(zhuān)利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青;李智 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電解質(zhì) 中空 二氧化硅 納米 顆粒 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒,其特征在于,所述聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒內(nèi)部為中空結(jié)構(gòu),外部殼層為聚電解質(zhì)與二氧化硅的雜化結(jié)構(gòu);所述聚電解質(zhì)與二氧化硅通過(guò)靜電和氫鍵相互作用形成所述雜化結(jié)構(gòu);所述殼層分布有介孔;
所述聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒的制備方法,包含以下步驟:
(1)硅源發(fā)生水解縮聚反應(yīng),所得產(chǎn)物與表面活性劑在實(shí)心二氧化硅納米顆粒表面自組裝形成殼層結(jié)構(gòu),得到具有核殼結(jié)構(gòu)的二氧化硅納米顆粒;
(2)將步驟(1)得到的核殼結(jié)構(gòu)的二氧化硅納米顆粒分散于堿性溶液中,在20℃-80℃條件下攪拌,所述核殼結(jié)構(gòu)的二氧化硅納米顆粒內(nèi)核的實(shí)心二氧化硅部分水解,形成多孔二氧化硅;離心后取沉淀,洗去所述殼層結(jié)構(gòu)的表面活性劑,得到具有核殼結(jié)構(gòu)的介孔二氧化硅納米顆粒;
(3)向步驟(2)得到的具有核殼結(jié)構(gòu)的介孔二氧化硅納米顆粒中加入聚電解質(zhì),使聚電解質(zhì)與所述具有核殼結(jié)構(gòu)的介孔二氧化硅納米顆粒充分混勻;然后在25℃-98℃條件下刻蝕0.1h-72h,即得到聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒。
2.如權(quán)利要求1所述的聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒,其特征在于,所述聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒的直徑為20nm-1000nm;所述殼層的厚度為2nm-250nm;所述介孔的直徑為0.5nm-50nm;所述聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒的聚電解質(zhì)的重量百分比為0.1wt%-50wt%。
3.如權(quán)利要求1所述的聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒,其特征在于,所述聚電解質(zhì)為聚乙烯亞胺及其衍生物、聚賴(lài)氨酸及其衍生物、聚二烯丙基二甲基氯化銨及其衍生物、二乙氨乙基葡聚糖及其衍生物、聚乙烯胺及其衍生物、聚乙烯吡咯烷酮及其衍生物、聚烯丙基胺及其衍生物、殼聚糖及其衍生物、聚(β-氨基酯)及其衍生物或聚乙烯吡啶及其衍生物。
4.一種聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒的制備方法,其特征在于,包含以下步驟:
(1)硅源發(fā)生水解縮聚反應(yīng),所得產(chǎn)物與表面活性劑在實(shí)心二氧化硅納米顆粒表面自組裝形成殼層結(jié)構(gòu),得到具有核殼結(jié)構(gòu)的二氧化硅納米顆粒;
(2)將步驟(1)得到的核殼結(jié)構(gòu)的二氧化硅納米顆粒分散于堿性溶液中,在20℃-80℃條件下攪拌,所述核殼結(jié)構(gòu)的二氧化硅納米顆粒內(nèi)核的實(shí)心二氧化硅部分水解,形成多孔二氧化硅;離心后取沉淀,洗去所述殼層結(jié)構(gòu)的表面活性劑,得到具有核殼結(jié)構(gòu)的介孔二氧化硅納米顆粒;
(3)向步驟(2)得到的具有核殼結(jié)構(gòu)的介孔二氧化硅納米顆粒中加入聚電解質(zhì),使聚電解質(zhì)與所述具有核殼結(jié)構(gòu)的介孔二氧化硅納米顆粒充分混勻;然后在25℃-98℃條件下刻蝕0.1h-72h,即得到聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒。
5.如權(quán)利要求4所述的聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒的制備方法,其特征在于,步驟(3)中所述聚電解質(zhì)為聚乙烯亞胺及其衍生物、聚賴(lài)氨酸及其衍生物、聚二烯丙基二甲基氯化銨及其衍生物、二乙氨乙基葡聚糖及其衍生物、聚乙烯胺及其衍生物、聚乙烯吡咯烷酮及其衍生物、聚烯丙基胺及其衍生物、殼聚糖及其衍生物、聚(β-氨基酯)及其衍生物或聚乙烯吡啶及其衍生物。
6.如權(quán)利要求5所述的聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒的制備方法,其特征在于,所述聚乙烯亞胺為支鏈聚乙烯亞胺或直鏈聚乙烯亞胺;所述聚乙烯亞胺的分子量為0.2kDa-200kDa;所述聚乙烯亞胺的濃度為0.01mg/mL-30mg/mL。
7.如權(quán)利要求4所述的聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒的制備方法,其特征在于,步驟(1)中所述硅源為正硅酸乙酯、正硅酸甲酯、三甲基乙氧基硅烷或硅酸鈉;步驟(2)中所述堿性溶液的濃度為0.1mol/L-0.8mol/L,攪拌的時(shí)間為0.1h-24h。
8.如權(quán)利要求4所述的聚電解質(zhì)雜化中空介孔二氧化硅納米顆粒的制備方法,其特征在于,步驟(3)中所述刻蝕之后,還包括離心并洗去游離的聚電解質(zhì)的步驟。
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