[發(fā)明專利]混合間隔件多光譜濾光器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810494139.4
• 申請日: 2018-05-22
• 公開（公告）號: CN108931831B
• 公開（公告）日: 2023-08-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: J.斯威策三世;G.J.奧肯富斯
• 申請（專利權(quán)）人: 唯亞威通訊技術(shù)有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20
• 代理公司: 北京安信方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262
• 代理人: 張瑞;楊明釗

1.一種光學(xué)濾光器，包括：

第一鏡，

第二鏡；以及

間隔件層結(jié)構(gòu)，所述間隔件層結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述第一鏡和所述第二鏡之間，

所述間隔件層結(jié)構(gòu)包括：

第一組層，

所述第一組層包括：

使用與第一折射率相關(guān)聯(lián)的第一材料沉積的第一層，

使用所述第一材料沉積的第二層，

使用所述第一材料沉積的第三層，

使用所述第一材料沉積的第四層，以及

所述第一材料和大于層厚度閾值的物理厚度相關(guān)聯(lián)，以及

所述第一層、第二層、第三層和第四層相鄰，以及

第二組層，

所述第二組層中的每個層是使用與第二折射率相關(guān)聯(lián)的第二材料沉積的，

所述第二組層包括第五層、第六層以及第七層，

所述第二組層中的至少一個層與小于所述層厚度閾值的物理厚度相關(guān)聯(lián)，以及

所述第一組層在所述第一鏡和所述第二組層之間。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾光器，其中所述第一材料是氫化硅。

3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾光器，其中，在800納米(nm)處，所述第一折射率大于：2.0的折射率。

4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾光器，其中所述第一材料是可氧化材料。

5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾光器，其中所述第二材料包括氧化物材料，

所述氧化物材料包括以下中的至少一種：

鈮鈦氧化物(NbTiOx)，

二氧化硅(SiO₂)，

鋁氧化物(Al₂O₃)，

二氧化鈦(TiO₂)，

五氧化二鈮(Nb₂O₅)，

五氧化二鉭(Ta₂O₅)，

氧化鋯(ZrO₂)，

氧化釔(Y₂O₃)，

二氧化鉿(HfO₂)，或

其組合。

6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾光器，其中所述第二材料包括以下中的至少一種：

氮化物材料，

氟化物材料，

硫化物材料，或

硒化物材料。

7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾光器，其中所述第二折射率小于所述第一折射率。

8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾光器，其中基于所述第二折射率來選擇所述第二組層中的層的厚度。

9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾光器，其中所述第二組層形成多個信道，所述多個信道各自與對應(yīng)中心波長的傳遞光相關(guān)聯(lián)，以及

其中每個中心波長與相鄰中心波長的分離比閾值信道分離更小。

10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)濾光器，其中所述閾值信道分離是以下中的一個：

30納米(nm)，

15nm，

10nm，

7nm，

6nm，或

5nm。

11.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾光器，其中所述層厚度閾值是以下中的一個：

10nm，

5nm，

2.5nm，

2nm，

1.5nm，

1nm，或

0.75nm。

12.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)濾光器，其中所述第一鏡和所述第二鏡各自包括以下中的一個：

金屬鏡，或

電介質(zhì)鏡。