[發明專利]蒸鍍遮罩的制造方法及有機發光材料的蒸鍍方法

在審

• 申請號: 201810491110.0
• 申請日: 2018-05-21
• 公開（公告）號: CN110512172A
• 公開（公告）日: 2019-11-29
• 發明（設計）人: 陳英杰;水野康宏
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 44334 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司
• 代理人: 劉永輝;徐麗<國際申請>=<國際公布>=

1.一種蒸鍍遮罩的制造方法，包括：

提供一基體，所述基體包括一塑料膜；

所述基體結合有靜電保護膜；

將結合有所述靜電保護膜的基體固定于一框架以支撐所述基體,所述靜電保護膜設置于所述基體遠離和靠近所述框架的表面中的至少一個；

蝕刻所述塑料膜以形成貫穿所述塑料膜的多個開口；

去除所述靜電保護膜，所述基體和所述框架配合形成蒸鍍遮罩。

2.如權利要求1所述的蒸鍍遮罩的制造方法，其中：所述基體進一步包括與所述塑料膜層疊設置的金屬層，所述金屬層局部覆蓋所述塑料膜，每一個所述開口未被所述金屬層遮蓋。

3.如權利要求2所述的蒸鍍遮罩的制造方法，其中：所述靜電保護膜不僅覆蓋所述塑料膜遠離所述金屬層的表面還覆蓋所述金屬層遠離所述塑料膜的表面。

4.如權利要求3所述的蒸鍍遮罩的制造方法，其中：蝕刻所述塑料膜的過程中，設置一支撐所述基體的座體。

5.如權利要求4所述的蒸鍍遮罩的制造方法，其中：所述座體包括玻璃層和磁體，所述塑料膜位于所述金屬層和所述玻璃層之間，所述磁體設置于所述玻璃層遠離所述基體的表面，所述磁體與所述金屬層相互吸引。

6.如權利要求3所述的蒸鍍遮罩的制造方法，其中：覆蓋所述金屬層遠離所述塑料膜的表面的靜電保護膜避開所述基體的周緣，所述框架圍繞所述基體的周緣，所述蒸鍍遮罩還包括至少一個用于支撐所述基體的支架，所述支架跨越所述基體并與框架固定結合。

7.如權利要求1所述的蒸鍍遮罩的制造方法，其中：靜電保護膜為具有靜電吸附能力的高分子材料。

8.如權利要求1所述的蒸鍍遮罩的制造方法，其中：所述蝕刻的方式為激光蝕刻。

9.如權利要求8所述的蒸鍍遮罩的制造方法，其中：所述靜電保護膜的透光性大于95％。

10.如權利要求9所述的蒸鍍遮罩的制造方法，其中：所述激光蝕刻僅在所述塑料膜上形成貫穿所述塑料膜的多個開口。

11.一種有機發光材料的蒸鍍方法，包括：

提供使用權利要求1-10中任意一項所述的蒸鍍遮罩的制造方法制成的蒸鍍遮罩；

提供一基板，所述基板設置于所述蒸鍍遮罩的基體的一表面；

提供一蒸鍍源，所述蒸鍍源位于所述基體遠離基板的一側；

加熱所述蒸鍍源，所述蒸鍍源經加熱后,蒸鍍源中的蒸鍍材料汽化并穿過所述蒸鍍遮罩的多個開口沉積在所述基板上形成有機發光材料層。

12.一種有機發光材料的蒸鍍方法，包括：

使用權利要求1-10中任意一項所述的蒸鍍遮罩的制造方法制造蒸鍍遮罩；

提供一基板，所述基板設置于所述蒸鍍遮罩的基體的一表面；

提供一蒸鍍源，所述蒸鍍源位于所述基體遠離基板的一側；

加熱所述蒸鍍源，所述蒸鍍源經加熱后,蒸鍍源中的蒸鍍材料汽化并穿過所述蒸鍍遮罩的多個開口沉積在所述基板上形成有機發光材料層。