[發明專利]一種偏光器件及其制備方法、顯示基板和顯示裝置

有效

• 申請號: 201810478715.6
• 申請日: 2018-05-18
• 公開（公告）號: CN108680982B
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發明（設計）人: 董水浪;路達;劉清召;王國強;曹占鋒;王久石
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02B1/11
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;胡影

本發明提供一種偏光器件及其制備方法、顯示基板和顯示裝置，涉及顯示技術領域，其中，該偏光器件包括：襯底基板、金屬線柵和減反層，所述金屬線柵設置在所述襯底基板上，所述減反層設置在所述金屬線柵的上表面，所述減反層為碳膜層。該碳膜層可以吸收照射在金屬線柵表面的至少部分環境光，從而可以減少偏光器件中金屬線柵對環境光的反射。當該偏光器件應用于顯示裝置上時，可以提高顯示對比度，進而提高顯示效果。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種偏光器件及其制備方法、顯示基板和顯示裝置。

背景技術

液晶顯示的工作原理是利用液晶的雙折射性質，通過電壓控制液晶的轉動，使經過下偏光片后的線偏振光隨之發生旋轉，從上偏光片(與下偏光片的偏振方向垂直)射出，從而上、下偏光片加上液晶盒起到光開關(或光閥)的作用。與傳統的吸收型偏光片相比，金屬線柵偏光片能夠透過偏振方向垂直于線柵方向的入射光，而將偏振方向平行于線柵方向的入射光反射，金屬線柵偏光片透過入射光的能力遠遠大于傳統的吸收型偏光片。

然而，金屬線柵偏光片由于采用金屬材料制成，因而會反射環境光，影響顯示效果。

發明內容

有鑒于此，本發明提供一種偏光器件及其制備方法、顯示基板和顯示裝置，用于解決金屬線柵反射環境光影響顯示效果的問題。

為解決上述技術問題，第一方面，本發明提供一種偏光器件，包括：襯底基板、金屬線柵和減反層，所述金屬線柵設置在所述襯底基板上，所述減反層設置在所述金屬線柵的上表面，所述減反層為碳膜層。

優選地，所述碳膜層的表面凹凸不平。

優選地，所述碳膜層的材料為碳或者含碳聚合物。

優選地，還包括：絕緣層和平坦化層，所述絕緣層覆蓋在所述減反層上，所述平坦化層覆蓋所述絕緣層、所述減反層、所述金屬線柵和所述襯底基板。

第二方面，本發明還提供一種顯示基板，包括上述任一種偏光器件；所述偏光器件的襯底基板與所述顯示基板的襯底基板復用。

第三方面，本發明還提供一種顯示裝置，包括上述任一種偏光器件，或者，包括上述的顯示基板。

第四方面，本發明還提供一種偏光器件的制備方法，用于制備上述任一種偏光器件，包括：

提供一襯底基板；

在所述襯底基板上形成金屬線柵，并在所述金屬線柵的上表面形成減反層，所述減反層為碳膜層。

優選地，所述在所述襯底基板上形成金屬線柵，并在所述金屬線柵的上表面形成減反層的步驟包括：

在所述襯底基板上形成金屬層；

在所述金屬層上涂覆光阻膠；

將所述光阻膠圖案化，形成光阻膠圖形；

對未被所述光阻膠圖形覆蓋的所述金屬層進行刻蝕，形成金屬線柵；

對所述光阻膠圖形進行脫氫碳化處理，形成所述減反層。

優選地，采用干法刻蝕工藝或高溫退火工藝對所述光阻膠圖形進行脫氫碳化處理。

優選地，所述對所述光阻膠圖形進行脫氫碳化處理，形成所述減反層的步驟包括：

將形成有金屬線柵和所述光阻膠圖形的所述襯底基板置于干刻設備中，所述干刻設備中通有氧氣與六氟化硫的混合氣體；

激發所述混合氣體產生等離子體，轟擊所述光阻膠圖形，使得所述光阻膠圖形脫氫碳化形成所述減反層。

本發明的上述技術方案的有益效果如下：