[發明專利]一種偏光器件及其制備方法、顯示基板和顯示裝置

有效

• 申請號: 201810478715.6
• 申請日: 2018-05-18
• 公開（公告）號: CN108680982B
• 公開（公告）日: 2020-04-17
• 發明（設計）人: 董水浪;路達;劉清召;王國強;曹占鋒;王久石
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02B1/11
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;胡影

1.一種偏光器件，其特征在于，包括：襯底基板、金屬線柵和減反層，所述金屬線柵設置在所述襯底基板上，所述減反層設置在所述金屬線柵的上表面，所述減反層為碳膜層，所述碳膜層是由形成所述金屬線柵之后殘留的光阻膠圖形經脫氫碳化處理得到；

還包括：覆蓋在所述減反層上的絕緣層，且所述絕緣層的表面粗糙度大于所述減反層的表面粗糙度。

2.根據權利要求1所述的偏光器件，其特征在于，所述碳膜層的表面凹凸不平。

3.根據權利要求1所述的偏光器件，其特征在于，所述碳膜層的材料為碳或者含碳聚合物。

4.根據權利要求1所述的偏光器件，其特征在于，還包括：平坦化層，所述平坦化層覆蓋所述絕緣層、所述減反層、所述金屬線柵和所述襯底基板。

5.一種顯示基板，其特征在于，包括權利要求1-4中任一項所述的偏光器件；所述偏光器件的襯底基板與所述顯示基板的襯底基板復用。

6.一種顯示裝置，包括如權利要求1-4中任一項所述的偏光器件，或者，包括如權利要求5所述的顯示基板。

7.一種偏光器件的制備方法，其特征在于，用于制備如權利要求1-4中任一項所述的偏光器件，包括：

提供一襯底基板；

在所述襯底基板上形成金屬線柵，并在所述金屬線柵的上表面形成減反層，所述減反層為碳膜層；

所述在所述襯底基板上形成金屬線柵，并在所述金屬線柵的上表面形成減反層的步驟包括：

在所述襯底基板上形成金屬層；

在所述金屬層上涂覆光阻膠；

將所述光阻膠圖案化，形成光阻膠圖形；

對未被所述光阻膠圖形覆蓋的所述金屬層進行刻蝕，形成金屬線柵；

對所述光阻膠圖形進行脫氫碳化處理，形成所述減反層；

所述對所述光阻膠圖形進行脫氫碳化處理，形成所述減反層的步驟之后，還包括：

在所述減反層上沉積絕緣層，沉積完成的絕緣層的表面粗糙度大于減反層的表面粗糙度。

8.根據權利要求7所述的偏光器件的制備方法，其特征在于，采用干法刻蝕工藝或高溫退火工藝對所述光阻膠圖形進行脫氫碳化處理。

9.根據權利要求7或8所述的偏光器件的制備方法，其特征在于，所述對所述光阻膠圖形進行脫氫碳化處理，形成所述減反層的步驟包括：

將形成有金屬線柵和所述光阻膠圖形的所述襯底基板置于干刻設備中，所述干刻設備中通有氧氣與六氟化硫的混合氣體；

激發所述混合氣體產生等離子體，轟擊所述光阻膠圖形，使得所述光阻膠圖形脫氫碳化形成所述減反層。