[發明專利]半導體封裝以及制造該半導體封裝的方法在審
| 申請號: | 201810466695.0 | 申請日: | 2018-05-16 |
| 公開(公告)號: | CN108933123A | 公開(公告)日: | 2018-12-04 |
| 發明(設計)人: | 李相殷 | 申請(專利權)人: | 三星電子株式會社 |
| 主分類號: | H01L25/065 | 分類號: | H01L25/065;H01L27/02;H01L21/98 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 王新華 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體封裝 半導體芯片 第一區域 電路元件 邊界區域 第二區域 應力耐受 制造 | ||
1.一種半導體封裝,包括:
第一半導體芯片,包括第一區域、第二區域以及在所述第一區域和所述第二區域之間的邊界區域;和
第二半導體芯片,設置在所述第一半導體芯片上,其中所述第二半導體芯片與所述邊界區域的一部分和所述第一區域重疊,并且不與所述第二區域重疊,
其中第一電路元件設置在所述第一區域中并且第二電路元件設置在所述邊界區域中,并且
其中第二電路元件應力耐受度大于第一電路元件應力耐受度。
2.如權利要求1所述的半導體封裝,其中第三電路元件設置在所述第二區域中,并且
其中第三電路元件應力耐受度大于所述第一電路元件應力耐受度。
3.如權利要求2所述的半導體封裝,其中所述第三電路元件應力耐受度小于所述第二電路元件應力耐受度。
4.如權利要求1所述的半導體封裝,其中所述第二電路元件不包括單晶硅。
5.如權利要求4所述的半導體封裝,其中所述第二電路元件包括電容器、多晶硅電阻器、金屬電阻器和硅化物電阻器當中的至少一種。
6.如權利要求4所述的半導體封裝,其中所述第一電路元件包括單晶硅。
7.如權利要求1所述的半導體封裝,其中所述第一電路元件包括第一晶體管,
其中所述第二電路元件包括第二晶體管,
其中第一晶體管溝道長度比第二晶體管溝道長度長。
8.如權利要求1所述的半導體封裝,其中所述第二半導體芯片的在所述邊界區域上的一個側表面沿著第一方向延伸,并且
其中所述第二電路元件包括其中源極和漏極沿著與所述第一方向交叉的第二方向對齊的第二晶體管。
9.如權利要求1所述的半導體封裝,其中從所述第二半導體芯片的在所述邊界區域上的第一側表面到所述第一區域的第一距離為40μm至60μm,并且
其中從所述第二半導體芯片的在所述邊界區域上的所述第一側表面到所述第二區域的第二距離為140μm至160μm。
10.一種半導體封裝,包括:
第一半導體芯片,包括第一區域、第二區域以及在所述第一區域和所述第二區域之間的邊界區域;和
第二半導體芯片,設置在所述第一半導體芯片上,其中所述第二半導體芯片與所述邊界區域的一部分和所述第一區域重疊,并且不與所述第二區域重疊,
其中所述第二半導體芯片的在所述邊界區域上的一個側表面沿著第一方向延伸,
其中第一晶體管設置在所述邊界區域中,并且
其中所述第一晶體管的源極和漏極沿著與所述第一方向交叉的第二方向對齊。
11.如權利要求10所述的半導體封裝,其中無源元件設置在所述邊界區域中,并且
其中所述無源元件不包括單晶硅。
12.如權利要求10所述的半導體封裝,其中第二晶體管設置在所述第一區域中,并且
其中第一晶體管溝道長度比第二晶體管溝道長度短。
13.如權利要求10所述的半導體封裝,其中第二晶體管設置在所述第一區域中,并且
其中所述第二晶體管的源極和漏極沿著所述第一方向對齊。
14.如權利要求10所述的半導體封裝,其中從所述第二半導體芯片的在所述邊界區域上的第一側表面到所述第一區域的第一距離為40μm至60μm,并且
其中從所述第二半導體芯片的在所述邊界區域上的所述第一側表面到所述第二區域的第二距離為140μm至160μm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于三星電子株式會社,未經三星電子株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810466695.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:半導體封裝裝置及其制造方法
- 下一篇:電子裝置
- 同類專利
- 專利分類





