[發明專利]一種等離子刻蝕機有效
| 申請號: | 201810464195.3 | 申請日: | 2018-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN108470671B | 公開(公告)日: | 2019-08-27 |
| 發明(設計)人: | 梁亞;梁志強 | 申請(專利權)人: | 上海爾迪儀器科技有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 上海宏京知識產權代理事務所(普通合伙) 31297 | 代理人: | 何艷娥 |
| 地址: | 201107 上海市閔行區*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 安裝孔 支撐框 離子產生電極 密封單元 墊板 等離子刻蝕機 螺釘 螺紋孔 密封圈 等離子體 半導體制造技術 待加工工件 反應腔室 螺釘連接 使用壽命 反應腔 刻蝕機 上表面 豎直 液封 密封 松動 室內 支撐 配合 | ||
本發明屬于半導體制造技術領域,具體的說是一種等離子刻蝕機,包括反應腔室,反應腔室內設置有離子產生電極;離子產生電極上方設置有支撐框以支撐待加工工件;支撐框上表面豎直開設有安裝孔;離子產生電極在對應著安裝孔的區域開設有螺紋孔,安裝孔和螺紋孔通過螺釘連接;螺釘與支撐框之間設置有墊板,墊板能夠避免螺釘因振動而在安裝孔內發生松動;支撐框在安裝孔的位置設置有密封單元,密封單元位于墊板的上方,密封單元與墊板相互配合實現對支撐框的安裝孔的密封。本發明能夠對密封單元進行固定,同時采用密封圈和液封等多種形式來阻止等離子體進入安裝孔后對離子產生電極造成破壞,提高了刻蝕機的使用壽命。
技術領域
本發明屬于半導體制造技術領域,具體的說是一種等離子刻蝕機。
背景技術
等離子刻蝕機,又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統等。等離子刻蝕,是干法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體,由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
現有技術中也出現了一些等離子刻蝕機的技術方案,如申請號為2015106577680的一項中國專利公開了一種等離子刻蝕機,包括反應腔室,所述反應腔室內設置有離子產生電極,所述離子產生電極上方設置有支撐框以支撐待加工工件,所述支撐框開設有安裝孔,所述離子產生電極在對應著所述安裝孔的區域開設有螺紋孔,所述安裝孔和所述螺紋孔通過螺釘連接,所述螺釘的軸向、且位于所述螺釘的上方設置有密封單元,所述密封單元用于密封所述安裝孔。該技術方案雖然通過密封帽蓋、密封圈和密封體實現了對安裝孔內螺釘的保護,但是由于工作溫度高,密封圈容易發生失效,這時,等離子體便能夠通過密封單元與支撐框之間的間隙進入安裝孔,對離子產生電極進行破壞;而且,密封單元沒有很好的實現固定,可能會因連接松動導致出現間隙的情況,使得該發明的使用受到限制。
鑒于此,本發明所述的一種等離子刻蝕機,能夠對密封單元進行固定,同時采用密封圈和液封等多種形式來阻止等離子體進入安裝孔后對離子產生電極造成破壞,提高了刻蝕機的使用壽命。
發明內容
為了彌補現有技術的不足,本發明提出了一種等離子刻蝕機,本發明主要用于避免在刻蝕過程中因等離子體進入支撐框的安裝孔后對離子產生電極造成損傷。本發明通過支撐框、螺釘、墊板和密封單元的相互配合工作能夠實現對支撐框的安裝孔的多重密封,密封效果好,避免了對離子產生電極造成損壞,延長了刻蝕機的使用壽命。
本發明解決其技術問題所采用的技術方案是:本發明所述的一種等離子刻蝕機,包括反應腔室,所述反應腔室內設置有離子產生電極;所述離子產生電極上方設置有支撐框以支撐待加工工件;所述支撐框上表面豎直開設有安裝孔;所述離子產生電極在對應著安裝孔的區域開設有螺紋孔,安裝孔和螺紋孔通過螺釘連接;所述螺釘與支撐框之間設置有墊板,墊板能夠避免螺釘因振動而在安裝孔內發生松動;所述支撐框在安裝孔的位置設置有密封單元,密封單元位于墊板的上方,密封單元與墊板相互配合實現對支撐框的安裝孔的密封。
所述安裝孔為臺階孔,臺階孔包括第一臺階孔和位于第一臺階孔上方的第二臺階孔,第二臺階孔的孔徑大于第一臺階孔的孔徑;所述螺釘的主體部分位于螺紋孔和第一臺階孔內,螺釘的頭部位于第二臺階孔內;所述墊板位于第二臺階孔內,墊板為“U”字型結構,螺釘頭部位于墊板內,螺釘穿過墊板底部將支撐框與離子產生電極通過螺紋實現連接,墊板上端的開口位置豎直設置有螺紋結構;所述密封單元與墊板通過螺紋實現連接。
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