[發(fā)明專利]一種等離子刻蝕機

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810464195.3
• 申請日: 2018-05-15
• 公開（公告）號: CN108470671B
• 公開（公告）日: 2019-08-27
• 發(fā)明（設計）人: 梁亞;梁志強
• 申請（專利權(quán)）人: 上海爾迪儀器科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 上海宏京知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 31297
• 代理人: 何艷娥

1.一種等離子刻蝕機，包括反應腔室，所述反應腔室內(nèi)設置有離子產(chǎn)生電極(2)；所述離子產(chǎn)生電極(2)上方設置有支撐框(1)以支撐待加工工件；所述支撐框(1)上表面豎直開設有安裝孔；所述離子產(chǎn)生電極(2)在對應著安裝孔的區(qū)域開設有螺紋孔，安裝孔和螺紋孔通過螺釘(3)連接，其特征在于：所述螺釘(3)與支撐框(1)之間設置有墊板(4)，墊板(4)能夠避免螺釘(3)因振動而在安裝孔內(nèi)發(fā)生松動；所述支撐框(1)在安裝孔的位置設置有密封單元(5)，密封單元(5)位于墊板(4)的上方，密封單元(5)與墊板(4)相互配合實現(xiàn)對支撐框(1)的安裝孔的密封；

所述安裝孔為臺階孔，臺階孔包括第一臺階孔和位于第一臺階孔上方的第二臺階孔，第二臺階孔的孔徑大于第一臺階孔的孔徑；所述螺釘(3)的主體部分位于螺紋孔和第一臺階孔內(nèi)，螺釘(3)的頭部位于第二臺階孔內(nèi)；所述墊板(4)位于第二臺階孔內(nèi)，墊板(4)為“U”字型結(jié)構(gòu)，螺釘(3)頭部位于墊板(4)內(nèi)，螺釘(3)穿過墊板(4)底部將支撐框(1)與離子產(chǎn)生電極(2)通過螺紋實現(xiàn)連接，墊板(4)上端的開口位置豎直設置有螺紋結(jié)構(gòu)；所述密封單元(5)與墊板(4)通過螺紋實現(xiàn)連接；

所述密封單元(5)包括密封蓋(51)、活塞(52)和活塞桿(53)，所述密封蓋(51)為圓柱體，圓柱體底面上沿外圓周表面設置有圓環(huán)形凹槽，圓柱體的下端位于支撐框(1)的第二臺階孔內(nèi)，圓柱體的臺階面與支撐框(1)的上表面接觸，圓柱體的底面上沿軸向豎直開設有沉孔一，在沉孔一的頂端同軸豎直開設有沉孔二，沉孔二直徑大于沉孔一的直徑；所述活塞(52)位于密封蓋(51)的沉孔二內(nèi)；所述活塞桿(53)位于活塞(52)的下方，活塞桿(53)下端穿過沉孔一向下延伸，活塞桿(53)與沉孔一相配合使沉孔二內(nèi)形成封閉空間，活塞桿(53)底端設置有一段螺紋結(jié)構(gòu)，活塞桿(53)通過底端的螺紋結(jié)構(gòu)與墊板(4)在墊板(4)的上端開口處相連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子刻蝕機，其特征在于：所述沉孔二在位于活塞(52)下方與沉孔一之間的密封部分設置有汞液。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子刻蝕機，其特征在于：所述密封蓋(51)在臺階面上與密封蓋(51)同軸設置有數(shù)量至少為二的圓環(huán)形護裙(511)；所述支撐框(1)在上表面的對應設置有圓環(huán)形凹槽，且圓環(huán)形凹槽的深度大于圓環(huán)形護裙(511)的高度，密封蓋(51)的圓環(huán)形護裙(511)位于支撐框(1)的圓環(huán)形凹槽內(nèi)；所述圓環(huán)形護裙(511)與支撐框(1)的圓環(huán)形凹槽之間設置有密封圈(513)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種等離子刻蝕機，其特征在于：所述圓環(huán)形護裙(511)的底面向上設置有過液槽，過液槽下端開口大、上端開口小；所述密封蓋(51)內(nèi)置有儲液腔(512)，儲液腔(512)內(nèi)設置有金屬鎢，儲液腔(512)位于過液槽上方，過液槽上端開設有毛細管槽與儲液腔(512)相連通。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種等離子刻蝕機，其特征在于：所述密封蓋(51)外表面設置有耐高溫鍍層。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種等離子刻蝕機，其特征在于：所述支撐框(1)上設置有緩沖池(11)，緩沖池(11)與第二臺階孔相通，緩沖池(11)底部與支撐框(1)的圓環(huán)形凹槽底部相通。