[發明專利]一種納米改性聚合物基屏蔽膜的制備方法

在審

• 申請號: 201810461730.X
• 申請日: 2018-05-15
• 公開（公告）號: CN108659494A
• 公開（公告）日: 2018-10-16
• 發明（設計）人: 王召惠;楊明忠;陳可
• 申請（專利權）人: 王召惠
• 主分類號: C08L69/00
• 分類號: C08L69/00;C08L27/18;C08K3/22;C08K3/08;C08J5/18;H05K9/00
• 代理公司: 北京風雅頌專利代理有限公司 11403
• 代理人: 朱親林

本發明公開了一種納米改性聚合物基屏蔽膜的制備方法，屬于屏蔽材料制備技術領域。首先將氯化鋅溶液和氫氧化鈉溶液混合，并在一定溫度條件下攪拌反應并研磨得到自制納米氧化鋅粉末，將其與基材和環己酮共混，對基材分子鏈的氧和降解起保護作用，有利于屏蔽膜的抗氧化得到提高，另外雙酚A型聚碳酸酯是由苯環和碳酸酯基構成，其中苯環不能內旋轉，構成了主鏈上的剛性部分，可以阻礙外界氧氣的侵入，本發明向基材中加入聚四氟乙烯分散乳液，由于其聚四氟乙烯分子只含有C、F這兩種元素這使基材的主鏈不受外界任何試劑的腐蝕，使其具有良好的化學穩定性，有效地抵制強酸、強堿和多種化學產品的腐蝕，從而提高屏蔽膜的耐化學性，具有廣泛的應用前景。

技術領域

本發明公開了一種納米改性聚合物基屏蔽膜的制備方法，屬于屏蔽材料制備技術領域。

背景技術

電子元件對外界的干擾，稱為EMI。隨著信息和通訊設備的發展，電子電氣產品趨于多功能和小型化，隨身電子產品數量迅速增加，環境中電磁波污染也日益嚴重，不但造成各種儀器功能故障和系統錯誤，也容易對人體產生影響。傳統的電池屏蔽材料是基于金屬的，具有材料密度高、易腐蝕、吸收頻帶窄等缺點。因此，對電磁屏蔽材料也提出了輕量化、高屏蔽性能、寬屏蔽頻帶等要求。2010年，英國曼徹斯特大學的兩位教授因為首次成功分離出穩定的石墨烯獲得諾貝爾物理學獎，掀起了全世界對石墨烯研究的熱潮。石墨烯是一種單分子層二維晶體，具有已知材料最高的強度以及優異的導電性和導熱性，是目前最理想的二維納米材料。

隨著電子設備更加輕薄短小，對應用在印刷電路板的材料的小型化的需求進一步地增加，為了適合于高密度的布線，需要高度的設計自由度和優異的柔韌性。此外，由于更高的性能和更快的速度，導致產生高頻化的噪聲，因此，電磁波屏蔽材料開發的重要性更為突顯。這些電子設備的屏蔽方法可分為屏蔽膜方式、將銀膏涂布在印刷電路板上的方式、將金屬粒子附著在印刷電路板上的濺射方式，但考慮到可加工性、可靠性和高性能化等問題，薄膜形態是有利的。作為以往的電磁波屏蔽膜的一個例子，公開專利號中公開有一種電磁波屏蔽膜，所述電磁波屏蔽膜包含分離膜；由防粘層，即由硬層和軟質層構成的雙層結構的覆蓋膜；金屬層及導電性粘接劑層。然而，這樣的電磁波屏蔽膜由于覆蓋膜為脆性膜，在進行FPCB加工時容易撕裂，隨著覆蓋膜和金屬層剝離，電鍍液滲透其中，從而存在耐化學性的問題，還存在抗氧化性差的缺點。因此，發明一種耐化學性好且抗氧化性好的納米改性聚合物基屏蔽膜對屏蔽材料制備技術領域具有積極意義。

發明內容

本發明所要解決的技術問題：針對目前常見屏蔽膜存在耐化學腐蝕性差和抗氧化差，滿足不了市場要求的缺陷，提供了一種納米改性聚合物基屏蔽膜的制備方法。

為解決上述技術問題，本發明采用如下所述的技術方案是：

一種納米改性聚合物基屏蔽膜的制備方法，其特征在于具體制備步驟為：

（1）量取27～32mL氯化鋅溶液倒入燒杯中，并將燒杯置于水浴鍋中水浴處理，再向燒杯中滴加24～27mL氫氧化鈉溶液，待滴加結束后，繼續保溫水浴反應，反應結束后離心分離，去除上清液，得到沉淀固體；

（2）用無水乙醇清洗沉淀固體，并將清洗后的沉淀固體置于烘箱中干燥，自然冷卻至室溫，得到干燥物，最后將干燥物研磨粉碎后過100目篩，得到自制納米氧化鋅粉末；

（3）將自制納米氧化鋅粉末和環己酮混合置于超聲波分散儀中超聲分散，得到納米氧化鋅分散液，再將雙酚A型聚碳酸酯和環己酮混合攪拌，得到聚合溶液，并將納米氧化鋅分散液滴加到聚合溶液中，待滴加完畢后置于超聲波分散儀中，繼續超聲分散，得到改性雙酚A型聚碳酸酯；

（4）按重量份數計，分別稱取42～45份改性雙酚A型聚碳酸酯、10～12份聚四氟乙烯分散乳液、4～6份琥珀粉、2～4份鎳粉和1～3份銅粉混合置于混煉機中混煉，冷卻出料，得到自制膜液，再將自制膜液涂抹在潔凈的石英片基底上，并放入0～2℃的無水乙醇中自然固化，揭膜，即得納米改性聚合物基屏蔽膜。