[發(fā)明專利]一種實現(xiàn)晶圓與MASK取放和精確定位的旋轉(zhuǎn)加熱機(jī)構(gòu)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810454513.8 | 申請日: | 2018-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN108385075A | 公開(公告)日: | 2018-08-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 潘明元;陳新;祝家太 | 申請(專利權(quán))人: | 成都華聚科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50;C23C14/04;C23C14/22;C23C16/04;C23C16/458;C23C16/46 |
| 代理公司: | 成都瑞創(chuàng)華盛知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 51270 | 代理人: | 鄧瑞;辜強(qiáng) |
| 地址: | 610100 四川省成都市成都經(jīng)濟(jì)技*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶圓 晶圓定位 旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu) 取放 轉(zhuǎn)筒 雙層升降機(jī)構(gòu) 定位機(jī)構(gòu) 旋轉(zhuǎn)加熱 加熱裝置安裝 精確定位功能 功能集合 加熱裝置 同一機(jī)構(gòu) 轉(zhuǎn)筒內(nèi)部 加熱 | ||
1.一種實現(xiàn)晶圓與MASK取放和精確定位的旋轉(zhuǎn)加熱機(jī)構(gòu),其特征在于:包括雙層升降機(jī)構(gòu)(1)、晶圓定位轉(zhuǎn)筒(2)、加熱裝置(3)、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)和定位機(jī)構(gòu)(5),所述定位機(jī)構(gòu)(5)安裝在旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)的底部,定位機(jī)構(gòu)(5)包括驅(qū)動氣缸(6)和定位軸(7),所述驅(qū)動氣缸(6)通過連接座(8)與定位軸(7)連接,驅(qū)動氣缸(6)的氣缸軸與旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)底部連接,所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)底部設(shè)置有定位孔(9),所述定位軸(7)與定位孔對齊且相互匹配,所述晶圓定位轉(zhuǎn)筒(2)安裝在旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)的頂部,所述加熱裝置(3)安裝在晶圓定位轉(zhuǎn)筒(2)內(nèi)部,晶圓定位轉(zhuǎn)筒(2)頂部設(shè)置有若干定位銷(9),所述雙層升降機(jī)構(gòu)(1)包括升降柱(10)和雙層托盤(11),所述雙層托盤(11)安裝在升降柱(10)上,所述升降柱(10)的底端固定在旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)頂部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種實現(xiàn)晶圓與MASK取放和精確定位的旋轉(zhuǎn)加熱機(jī)構(gòu),其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)內(nèi)設(shè)置有水冷系統(tǒng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種實現(xiàn)晶圓與MASK取放和精確定位的旋轉(zhuǎn)加熱機(jī)構(gòu),其特征在于:所述雙層托盤(11)由上到下依次為MASK托盤(12)和晶圓定位托盤(13),所述MASK托盤(12)和晶圓定位托盤(13)上設(shè)置有與定位銷(9)匹配的定位銷孔(14)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種實現(xiàn)晶圓與MASK取放和精確定位的旋轉(zhuǎn)加熱機(jī)構(gòu),其特征在于:所述雙層升降機(jī)構(gòu)(1)由金屬波紋管密封,且升降柱(10)由驅(qū)動電機(jī)控制。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種實現(xiàn)晶圓與MASK取放和精確定位的旋轉(zhuǎn)加熱機(jī)構(gòu),其特征在于:所述加熱裝置(3)頂部設(shè)置有均熱板,所述均熱板下方設(shè)置有石墨片,所述加熱裝置(3)外部設(shè)置有隔熱板。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種實現(xiàn)晶圓與MASK取放和精確定位的旋轉(zhuǎn)加熱機(jī)構(gòu),其特征在于:所述加熱裝置(3)內(nèi)設(shè)置有控制加熱溫度的溫控?zé)犭娕肌?/p>
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





